專利名稱：滅火器閥門的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于閥門技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種適合小型滅火器使用的滅火器閥門。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，適合小型滅火器使用的閥門是由閥座、閥芯、內(nèi)、外密封圈、閥體和彈簧構(gòu)成的，該閥門的閥芯上設(shè)有導(dǎo)液孔，所述導(dǎo)液孔位于閥芯輸液管的底部，內(nèi)密封圈位于閥座內(nèi)，且與閥體和閥芯相接觸，該閥門的密封穩(wěn)定性差，其在實際使用時，存在著罐內(nèi)藥液容易泄漏，存放時間較短等問題，因此，如何對現(xiàn)有閥門進(jìn)行改進(jìn)，以提高低壓力罐的密封性能和整體質(zhì)量是迫切需要解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡單、密封性強(qiáng)、耐壓能力高、使用周期長的滅火器閥門。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的它包括閥座、閥芯、內(nèi)、外密封圈、閥體和彈簧，在閥芯上設(shè)有導(dǎo)液孔，所述內(nèi)密封圈位于閥座內(nèi)，且與閥體和閥芯相接觸，所述導(dǎo)液孔位于閥芯輸液管上，其特征在于所述導(dǎo)液孔與閥芯輸液管的底部有一定間距，所述內(nèi)密封圈能夠與導(dǎo)液孔相貼。
由于本實用新型采用將導(dǎo)液孔設(shè)置在距閥芯輸液管底部有一定間距的位置，以使內(nèi)密封圈能夠嚴(yán)密地封住導(dǎo)液孔，大大提高了密封性能，同時為提高低壓罐的質(zhì)量和使用周期奠定了基礎(chǔ)。


參照附圖本實用新型包括它包括閥座1、閥芯3、內(nèi)密封圈5、外密封圈4、閥體10和彈簧7，在閥芯3上設(shè)有導(dǎo)液孔6，所述內(nèi)密封圈5位于閥座1內(nèi)，且與閥體10和閥芯3相接觸，所述導(dǎo)液孔6位于閥芯3輸液管5上，所述導(dǎo)液孔6與閥芯3的輸液管2的底部有一定間距，所述間距范圍是0.5-2.0毫米，所述內(nèi)密封圈5能夠與導(dǎo)液孔6相貼，并封住導(dǎo)液孔6，所述彈簧7位于閥體10內(nèi)，彈簧7的兩端分別與閥體內(nèi)腔環(huán)狀平面11和閥芯3相接觸，所述閥芯3的底部設(shè)有十字形棱柱9，該棱柱9有利于藥液的流通，在所述內(nèi)密封圈5的下側(cè)設(shè)有一凸環(huán)8，該凸環(huán)8位于閥體10與閥芯3之間，它起著增強(qiáng)密封的作用，在內(nèi)密封圈5上還設(shè)有延伸體12，該延伸體12位于閥體10與閥座1之間，它也起著增強(qiáng)密封的作用；本實用新型在使用時，將閥座1安裝在滅火器罐筒上即可，當(dāng)閥芯3上端受外力作用向下移動時，導(dǎo)液孔6能夠從內(nèi)密封圈5中移向閥體10內(nèi)腔，則藥液可以從導(dǎo)液孔6進(jìn)入輸液管2，然后向外噴射，當(dāng)解除閥芯3上端的外力時，閥芯3在彈簧7的作用下自動復(fù)位，從而可阻斷藥液的外流。
權(quán)利要求1.一種滅火器閥門，它包括閥座、閥芯、內(nèi)、外密封圈、閥體和彈簧，在閥芯上設(shè)有導(dǎo)液孔、所述內(nèi)密封圈位于閥座內(nèi)，且與閥體和閥芯相接觸，所述導(dǎo)液孔位于閥芯輸液管上，其特征在于所述導(dǎo)液孔與閥芯輸液管的底部有一定間距，所述內(nèi)密封圈能夠與導(dǎo)液孔相貼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅火器閥門，其特征在于所述的閥芯的底部設(shè)有十字形的棱柱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅火器閥門，其特征在于所述的內(nèi)密封圈的下側(cè)設(shè)有一凸環(huán)，該凸環(huán)位于閥體與閥芯之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滅火器閥門，其特征在于所述的內(nèi)密封圈上還設(shè)有延伸體，該延伸體位于閥體與閥座之間。
專利摘要本實用新型屬于閥門技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種適合小型滅火器使用的滅火器閥門。它包括閥座、閥芯、內(nèi)、外密封圈、閥體和彈簧，在閥芯上設(shè)有導(dǎo)液孔，所述內(nèi)密封圈位于閥座內(nèi)，且與閥體和閥芯相接觸，所述導(dǎo)液孔位于閥芯輸液管上，其特征在于所述導(dǎo)液孔與閥芯輸液管的底部有一定間距，所述內(nèi)密封圈能夠與導(dǎo)液孔相貼，本實用新型采用將導(dǎo)液孔設(shè)置在距閥芯輸液管底部有一定間距的位置，使得其具有結(jié)構(gòu)簡單、密封性強(qiáng)、耐壓能力高、使用周期長的特點。
文檔編號F16K3/26GK2670694SQ20032010226
公開日2005年1月12日 申請日期2003年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月17日
發(fā)明者酈均超 申請人:酈均超