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實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):5282284閱讀:842來(lái)源:國(guó)知局
實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,包括反應(yīng)室、儲(chǔ)氣罐和出氫氣口,其特征在于:所述反應(yīng)室項(xiàng)部分別設(shè)有入水口和出氣口,所述反應(yīng)室底部設(shè)有控制箱體,所述反應(yīng)室底部一側(cè)設(shè)有電極安裝底座,所述電極安裝底座上設(shè)有電極,所述電極設(shè)于反應(yīng)室內(nèi)部,所述控制箱體連接電極,所述出氣口連接儲(chǔ)氣罐,所述儲(chǔ)氣罐連接吸氧設(shè)備,所述吸氧設(shè)備連接干燥設(shè)備,所述干燥設(shè)備連接出氫氣口,所述出氫氣口和干燥設(shè)備之間設(shè)有控制閥,所述控制閥和干燥設(shè)備之間設(shè)有氫氣純度檢驗(yàn)表。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:安全系數(shù)高,制備工藝簡(jiǎn)單,純度高,耗能低,氣流量大,整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔大方,實(shí)用范圍廣。
【專利說(shuō)明】實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]氫氣是世界上已知的最輕的氣體。氫氣的使用無(wú)處不在,特別是在各個(gè)實(shí)驗(yàn)室當(dāng)中。實(shí)驗(yàn)室作為諸多實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)得出地方,在科學(xué)發(fā)展中有著重要的地位,因此氫氣的制備有著無(wú)可或缺的重要性。現(xiàn)有技術(shù)中的實(shí)驗(yàn)室用制氧設(shè)備安全系數(shù)不高,制備過(guò)程復(fù)雜,且純度不夠,氫氣是一種極易發(fā)生爆炸的氣體,純度要求非常的高。
[0003]因此,急需一種改進(jìn)的技術(shù)來(lái)解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的這一問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備。
[0005]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0006]實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,包括反應(yīng)室、儲(chǔ)氣罐和出氫氣口,其特征在于:所述反應(yīng)室頂部分別設(shè)有入水口和出氣口,所述反應(yīng)室底部設(shè)有控制箱體,所述反應(yīng)室底部一側(cè)設(shè)有電極安裝底座,所述電極安裝底座上設(shè)有電極,所述電極設(shè)于反應(yīng)室內(nèi)部,所述控制箱體連接電極,所述出氣口連接儲(chǔ)氣罐,所述儲(chǔ)氣罐連接吸氧設(shè)備,所述吸氧設(shè)備連接干燥設(shè)備,所述干燥設(shè)備連接出氫氣口,所述出氫氣口和干燥設(shè)備之間設(shè)有控制閥,所述控制閥和干燥設(shè)備之間設(shè)有氫氣純度檢驗(yàn)表。
[0007]所述控制閥靠近氫氣純度檢驗(yàn)表端連接儲(chǔ)氣罐。
[0008]所述反應(yīng)室上設(shè)有壓力傳感設(shè)備,所述壓力傳感設(shè)備連接控制箱體。
[0009]所述反應(yīng)室上設(shè)有溫度傳感設(shè)備,所述溫度傳感設(shè)備連接控制箱體。
[0010]所述控制箱體連接設(shè)于反應(yīng)室頂部一側(cè)的氣囊式塞。
[0011]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:安全系數(shù)高,制備工藝簡(jiǎn)單,純度高,耗能低,氣流量大,整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔大方,實(shí)用范圍廣。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0012]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0013]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]其中:1、反應(yīng)室,2、儲(chǔ)氣罐,3、出氫氣口,4、入水口,5、控制箱體,6、電極安裝底座,7、電極,8、出氣口,9、吸氧設(shè)備,10、干燥設(shè)備,11、控制閥,12、氫氣純度檢驗(yàn)表,13、壓力傳感設(shè)備,14、溫度傳感設(shè)備,15、氣囊式塞。
【具體實(shí)施方式】
[0015]如圖1所示,本實(shí)用新型的實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,包括反應(yīng)室1、儲(chǔ)氣罐2和出氫氣口 3,所述反應(yīng)室I頂部分別設(shè)有入水口 4和出氣口 8,所述反應(yīng)室I底部設(shè)有控制箱體5,所述反應(yīng)室I底部一側(cè)設(shè)有電極安裝底座6,所述電極安裝底座6上設(shè)有電極7,所述電極
7設(shè)于反應(yīng)室I內(nèi)部,所述控制箱體5連接電極7,所述出氣口 8連接儲(chǔ)氣罐2,所述儲(chǔ)氣罐2連接吸氧設(shè)備9,所述吸氧設(shè)備9連接干燥設(shè)備10,所述干燥設(shè)備10連接出氫氣口 3,所述出氫氣口 3和干燥設(shè)備10之間設(shè)有控制閥11,所述控制閥11和干燥設(shè)備10之間設(shè)有氫氣純度檢驗(yàn)表12,所述控制閥11靠近氫氣純度檢驗(yàn)表12端連接儲(chǔ)氣罐2,所述反應(yīng)室I上設(shè)有壓力傳感設(shè)備13,所述壓力傳感設(shè)備13連接控制箱體5,所述反應(yīng)室I上設(shè)有溫度傳感設(shè)備14,所述溫度傳感設(shè)備14連接控制箱體5,所述控制箱體5連接設(shè)于反應(yīng)室I頂部一側(cè)的氣囊式塞15,安全系數(shù)高,制備工藝簡(jiǎn)單,純度高,耗能低,氣流量大,整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔大方,實(shí)用范圍廣。
【權(quán)利要求】
1.實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,包括反應(yīng)室、儲(chǔ)氣罐和出氫氣口,其特征在于:所述反應(yīng)室頂部分別設(shè)有入水口和出氣口,所述反應(yīng)室底部設(shè)有控制箱體,所述反應(yīng)室底部一側(cè)設(shè)有電極安裝底座,所述電極安裝底座上設(shè)有電極,所述電極設(shè)于反應(yīng)室內(nèi)部,所述控制箱體連接電極,所述出氣口連接儲(chǔ)氣罐,所述儲(chǔ)氣罐連接吸氧設(shè)備,所述吸氧設(shè)備連接干燥設(shè)備,所述干燥設(shè)備連接出氫氣口,所述出氫氣口和干燥設(shè)備之間設(shè)有控制閥,所述控制閥和干燥設(shè)備之間設(shè)有氫氣純度檢驗(yàn)表。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,其特征在于:所述控制閥靠近氫氣純度檢驗(yàn)表端連接儲(chǔ)氣罐。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,其特征在于:所述反應(yīng)室上設(shè)有壓力傳感設(shè)備,所述壓力傳感設(shè)備連接控制箱體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,其特征在于:所述反應(yīng)室上設(shè)有溫度傳感設(shè)備,所述溫度傳感設(shè)備連接控制箱體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實(shí)驗(yàn)室用制氫氣設(shè)備,其特征在于:所述控制箱體連接設(shè)于反應(yīng)室頂部一側(cè)的氣囊式塞。
【文檔編號(hào)】C25B1/04GK203639563SQ201320765267
【公開(kāi)日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2013年11月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月22日
【發(fā)明者】施森權(quán) 申請(qǐng)人:慈溪?dú)W新生物科技有限公司
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