一種分散體系反應(yīng)裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，一種分散體系反應(yīng)裝置，包括釜體、機(jī)械攪拌裝置、空氣攪拌裝置和隔膜泵；所述的機(jī)械攪拌裝置設(shè)置在所述釜體內(nèi)，所述的空氣攪拌裝置包括若干靠近所述釜體內(nèi)壁設(shè)置的氣管，所述氣管沿所述釜體高度方向設(shè)置，所述氣管上開設(shè)有若干氣孔；所述釜體底部呈錐形，所述釜體底部中心設(shè)置有循環(huán)接口，所述釜體內(nèi)上端設(shè)置有霧化噴頭，所述霧化噴頭高度高于釜體內(nèi)分散體系液面高度，所述循環(huán)接口和霧化噴頭通過隔膜泵連接。本申請(qǐng)中利用氣管能夠?qū)Ωw內(nèi)的不同高度進(jìn)行輔助攪拌，同時(shí)在釜體底部利用隔膜泵將物料循環(huán)回流至霧化噴頭，最終經(jīng)霧化噴頭霧化并噴灑在釜體內(nèi)的分散體系中，使得分散體系的分散均勻性更好。
【專利說明】
一種分散體系反應(yīng)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種分散體系反應(yīng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨粉末金屬包覆材料具有獨(dú)特的結(jié)構(gòu)和眾多奇異的物理化學(xué)性質(zhì)，在諸多科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域顯示出巨大的潛在應(yīng)用價(jià)值，近年來(lái)逐漸成為國(guó)內(nèi)外關(guān)注的一個(gè)研究熱點(diǎn)。
[0003]在石墨粉末金屬包覆制備過程中，由于石墨粉末的小尺寸效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、界面與表面效應(yīng)以及宏觀量子隧道效應(yīng)，使石墨粉末在空氣中和液體介質(zhì)中容易發(fā)生團(tuán)聚，若不對(duì)其進(jìn)行分散處理，則大大影響產(chǎn)品性能?，F(xiàn)有技術(shù)中常用機(jī)械攪拌的方式對(duì)分散體系進(jìn)行攪拌，但是機(jī)械攪拌形式單一，并不能滿足粉體分散性的要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在機(jī)械攪拌不能滿足粉體分散性的要求的缺陷，提供一種分散體系反應(yīng)裝置。
[0005]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種分散體系反應(yīng)裝置，包括釜體、機(jī)械攪拌裝置、空氣攪拌裝置和隔膜栗;所述的機(jī)械攪拌裝置設(shè)置在所述釜體內(nèi)，所述的空氣攪拌裝置包括若干靠近所述釜體內(nèi)壁設(shè)置的氣管，所述氣管沿所述釜體高度方向設(shè)置，所述氣管上開設(shè)有若干氣孔；
[0006]所述釜體底部呈錐形，所述釜體底部中心設(shè)置有循環(huán)接口，所述釜體內(nèi)上端設(shè)置有霧化噴頭，所述霧化噴頭高度高于釜體內(nèi)分散體系液面高度，所述循環(huán)接口和霧化噴頭通過隔膜栗連接。
[0007]作為優(yōu)選，所述的機(jī)械攪拌裝置包括攪拌軸和兩個(gè)攪拌槳，兩個(gè)所述攪拌槳分別安裝在攪拌軸的不同高度位置上。利用高度不同的兩個(gè)攪拌槳能夠有效將釜體內(nèi)不同高度的物料進(jìn)行攪拌，使得分散體系中的粉體物料均勻分散。
[0008]作為優(yōu)選，所述氣孔朝向釜體內(nèi)壁開設(shè)。能夠有效避免分散體系中粉體物料在氣管與釜體的間隙處團(tuán)聚，避免攪拌死角的存在。
[0009]進(jìn)一步地，為避免粉體在釜體底部團(tuán)聚、沉積，所述氣管底部具有與所述釜體錐形底部相適應(yīng)的折彎端，所述折彎端上也開設(shè)有氣孔，所述折彎端上的氣孔朝向釜體底部開設(shè)。
[0010]作為優(yōu)選，所述的氣管數(shù)量為6個(gè)，6個(gè)所述氣管靠近所述釜體內(nèi)壁均勻設(shè)置。
[0011]作為優(yōu)選，為便于氣管的安裝和固定，所述的釜體內(nèi)壁設(shè)置有若干用于安裝所述氣管的連接座。
[0012]作為優(yōu)選，為使得循環(huán)回流的物料能夠均勻分散至釜體內(nèi)，所述的霧化噴頭數(shù)量為兩個(gè)，且對(duì)稱設(shè)置在釜體的上端。
[0013]有益效果:本申請(qǐng)中利用集機(jī)械攪拌、空氣輔助攪拌以及循環(huán)回流攪拌方式于一體，氣管能夠?qū)Ωw內(nèi)的不同高度進(jìn)行輔助攪拌，有效避免粉體的團(tuán)聚，同時(shí)在釜體底部利用隔膜栗將物料循環(huán)回流至霧化噴頭，最終經(jīng)霧化噴頭霧化并噴灑在釜體內(nèi)的分散體系中，避免了釜體底部物料團(tuán)聚沉積的問題，使得分散體系的分散均勻性更好。
【附圖說明】
[0014]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0015]圖1是裝置剖視圖；
[0016]圖2是裝置俯視圖；
[0017]其中:1.釜體，11.連接座，2.攪拌軸，3.攪拌槳，4.氣管，41.折彎端，5.隔膜栗，6.霧化噴頭。
【具體實(shí)施方式】
[0018]實(shí)施例
[0019]如圖1和2所示，一種分散體系反應(yīng)裝置，包括釜體1、機(jī)械攪拌裝置、空氣攪拌裝置和隔膜栗5;所述的機(jī)械攪拌裝置設(shè)置在所述釜體I內(nèi)，包括攪拌軸2和兩個(gè)攪拌槳3，兩個(gè)所述攪拌槳3分別安裝在攪拌軸2的不同高度位置上；
[0020]所述的空氣攪拌裝置包括6個(gè)靠近所述釜體I內(nèi)壁均勻設(shè)置的氣管4，所述氣管4沿所述釜體I高度方向設(shè)置，所述氣管4上開設(shè)有若干氣孔，所述氣孔朝向釜體I內(nèi)壁開設(shè);所述氣管4底部具有與所述釜體I錐形底部相適應(yīng)的折彎端41，所述折彎端41上也開設(shè)有氣孔，所述折彎端41上的氣孔朝向釜體I底部開設(shè)，所述的釜體I內(nèi)壁設(shè)置有若干用于安裝所述氣管4的連接座；
[0021]所述釜體I底部呈錐形，所述釜體I底部中心設(shè)置有循環(huán)接口，所述釜體I內(nèi)上端對(duì)稱設(shè)置有兩個(gè)霧化噴頭6，所述霧化噴頭6高度高于釜體I內(nèi)分散體系液面高度，所述循環(huán)接口和霧化噴頭6通過隔膜栗5連接。
[0022]工作原理如下:釜體I內(nèi)分散體系在機(jī)械攪拌裝置的作用下進(jìn)行分散，同時(shí)向氣管4中通入氣體，氣體由氣管4的氣孔中進(jìn)入釜體I內(nèi)物料體系中對(duì)物料進(jìn)行輔助攪拌，增加空氣輔助和雙攪拌槳攪拌形成渦流效應(yīng)，能提高攪拌均勻度；同時(shí)隔膜栗5工作，將釜體I內(nèi)分散體系由循環(huán)接口抽送至霧化噴頭6，并由霧化噴頭6再次將其霧化噴灑在釜體I內(nèi)的分散體系中，如此循環(huán)。在此過程中釜體I底部在氣管4折彎端41的氣孔作用下不會(huì)有團(tuán)聚沉積現(xiàn)象，有利于隔膜栗5的循環(huán)回流的進(jìn)行。
[0023]應(yīng)當(dāng)理解，以上所描述的具體實(shí)施例僅用于解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。由本實(shí)用新型的精神所引伸出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:包括釜體(I)、機(jī)械攪拌裝置、空氣攪拌裝置和隔膜栗(5);所述的機(jī)械攪拌裝置設(shè)置在所述釜體(I)內(nèi)，所述的空氣攪拌裝置包括若干靠近所述釜體(I)內(nèi)壁設(shè)置的氣管(4)，所述氣管(4)沿所述釜體(I)高度方向設(shè)置，所述氣管(4)上開設(shè)有若干氣孔； 所述釜體(I)底部呈錐形，所述釜體(I)底部中心設(shè)置有循環(huán)接口，所述釜體(I)內(nèi)上端設(shè)置有霧化噴頭(6)，所述霧化噴頭(6)高度高于釜體(I)內(nèi)分散體系液面高度，所述循環(huán)接口和霧化噴頭(6)通過隔膜栗(5)連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述的機(jī)械攪拌裝置包括攪拌軸(2)和兩個(gè)攪拌槳(3)，兩個(gè)所述攪拌槳(3)分別安裝在攪拌軸(2)的不同高度位置上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述氣孔朝向釜體(I)內(nèi)壁開設(shè)。4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述氣管(4)底部具有與所述釜體(I)錐形底部相適應(yīng)的折彎端(41)，所述折彎端(41)上也開設(shè)有氣孔，所述折彎端(41)上的氣孔朝向釜體(I)底部開設(shè)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述的氣管(4)數(shù)量為6個(gè)，6個(gè)所述氣管(4)靠近所述釜體(I)內(nèi)壁均勻設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述的釜體(I)內(nèi)壁設(shè)置有若干用于安裝所述氣管(4)的連接座。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散體系反應(yīng)裝置，其特征在于:所述的霧化噴頭(6)數(shù)量為兩個(gè)，且對(duì)稱設(shè)置在釜體(I)的上端。
【文檔編號(hào)】B01F13/10GK205412872SQ201620174145
【公開日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2016年3月7日
【發(fā)明人】吳春初, 吳爭(zhēng)鍇, 劉亞動(dòng), 顏明, 劉勤華, 陳慶華
【申請(qǐng)人】常州利特爾新材料科技有限公司, 吳春初