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均壓環(huán)形分布器的制作方法

文檔序號:4895739閱讀:248來源:國知局
專利名稱:均壓環(huán)形分布器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種均壓環(huán)形分布器,屬于化工、石化領(lǐng)域精餾分離塔內(nèi)件技術(shù)。
背景技術(shù)
塔器是一種能源和化工工業(yè)廣泛使用的氣液傳熱傳質(zhì)設(shè)備。隨著精餾塔(蒸餾塔)技術(shù)的發(fā)展及其在工業(yè)中的大量應(yīng)用,塔器進(jìn)口氣體分布的均勻程度是衡量塔器性能的重要指標(biāo),因此塔器氣相進(jìn)料設(shè)備更加受到人們的重視,尤其對于大直徑板式塔及填料塔尤為重要。目前工業(yè)中廣泛采用的氣體分布器多為通過開孔的直管或者其它不同的氣體導(dǎo)流裝置實(shí)現(xiàn)塔器內(nèi)氣體的均勻分布。氣體從分布管不同位置的孔流出,其速度是不同的,所以這種分布器很難達(dá)到均勻分布?xì)怏w的目的。而其它的氣體分布器也存在著氣體壓損大,以及分布器上方存在分布不均勻等缺點(diǎn)。經(jīng)對現(xiàn)有文獻(xiàn)檢索發(fā)現(xiàn),中國專利申請?zhí)枮?01246056.7,名稱為:一種氣體分布器,該技術(shù)包括:圓筒狀的座體、活塞、底蓋和彈簧,座體中部設(shè)有活塞桿套,活塞桿串過活塞桿套后與定位螺母固接,底蓋中部設(shè)有氣體入口,彈簧安裝在活塞桿套上,位于座體筋板與定位螺母之間,座體筋板上開有氣孔。該分布器的進(jìn)氣氣流需要頂開活塞后,從縫隙出噴出,無法保證塔內(nèi)流動的均勻性,增加了進(jìn)氣氣流的壓損,且進(jìn)氣流量需要精準(zhǔn)控制進(jìn)氣管和塔內(nèi)壓力,對控制要求很高。同時,該技術(shù)連接件多容易損壞,壽命受部件限制大,進(jìn)氣方向?yàn)檩S向進(jìn)氣,當(dāng)彈簧失效或者卡住的時候很容易發(fā)生液體的倒灌。因此該技術(shù)具有結(jié)構(gòu)復(fù)雜、壽命短、進(jìn)氣壓損大、塔內(nèi)進(jìn)氣均勻性差、容易發(fā)生液相倒灌、對壓力控制要求高等缺點(diǎn)。又經(jīng)檢索發(fā)現(xiàn),中國專利申請?zhí)枮?20050007565.1,名稱為:反應(yīng)器的氣體分布器,該技術(shù)包括供應(yīng)管陣列,用于通過只與分布器上方的分布系統(tǒng)將反應(yīng)物供應(yīng)到反應(yīng)器底部的分布器,分布器的出口通常朝向底部或者平行于底部,以便將氣體或者其它反應(yīng)物噴射掃過底部。因該技術(shù)在塔內(nèi)`布置了很多管路,嚴(yán)重?fù)p壞了塔內(nèi)流動的均勻性,且其管徑小增大了進(jìn)氣的阻力。同時該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜,部件多,易損壞,且也不便于維護(hù)和保養(yǎng)。因此該技術(shù)具有管系結(jié)構(gòu)復(fù)雜、塔內(nèi)流動的均勻性差、進(jìn)氣氣流壓損大、維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜且成本聞等缺點(diǎn)O

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是,提出一種均壓環(huán)形分布器,在遠(yuǎn)離進(jìn)料口兩側(cè)設(shè)置逐漸減小的腔體,使進(jìn)入精餾分離塔或相關(guān)容器內(nèi)的汽相或氣液混合相依靠在各級腔體內(nèi)開設(shè)的氣孔或液孔進(jìn)入精餾塔或相關(guān)容器內(nèi),由于腔體內(nèi)使各處的壓力相同,那么噴射到橫截面上的汽相物料就會非常均勻,提高了汽相盡量分布的均勻性。本實(shí)用新型的技術(shù)方案:一種均壓環(huán)形分布器,設(shè)置在精餾分離塔內(nèi)壁上,其特征是包括一個或多個進(jìn)料口,在進(jìn)料口兩側(cè)設(shè)置多級逐級減小體積的腔體,距進(jìn)料口愈遠(yuǎn)腔體體積愈小,在最后一級腔體互相連通;級數(shù)設(shè)置2 40個。逐級減小的腔體通過上下焊接在精餾分離塔內(nèi)壁上的環(huán)形支撐環(huán)依靠相關(guān)連接件與腔體的上底板、下頂板和側(cè)板連接,每級側(cè)板通過螺栓及連接件與上下底板及頂板連接,逐漸減小的腔體通過縮小上底板及下頂板面積來實(shí)現(xiàn);每級腔體對應(yīng)一個或多個側(cè)板,側(cè)板上開設(shè)均勻的出氣孔,孔徑大小為Φ1 50πιπι。本實(shí)用新型的工作原理如下:汽相或氣液混合相通過進(jìn)料口進(jìn)入裝置,依靠在各級腔體內(nèi)開設(shè)的氣孔或液孔進(jìn)入精餾塔或相關(guān)容器內(nèi)兩側(cè)設(shè)置逐漸減小的腔體,由于氣體體積減少,那么要在環(huán)形通道內(nèi)維持相同的壓力,必須使后級腔體體積減小,這樣通過逐級減小的腔體使各處的壓力相同,那么噴射到橫截面上的汽相物料就會非常均勻,提高了汽相盡量分布的均勻性。本實(shí)用新型有益效果是:由于提高了汽相或氣液兩相在進(jìn)料口處分布的均勻性就消除了精餾分離塔內(nèi)部汽相流動的死區(qū),提高了塔內(nèi)件的傳質(zhì)傳熱效果,提高了產(chǎn)品純度及收率,為企業(yè)贏得巨大經(jīng)濟(jì)效益。

圖1為均壓環(huán)形分布器的截面圖;圖中第一進(jìn)料口 1、第二進(jìn)料口 2 ;噴射汽相箭頭3 ;逐級腔體4。
具體實(shí)施方式
下面具體說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式:逐級減小的腔體通過上下焊接在塔壁上的環(huán)形支撐環(huán)依靠相關(guān)連接件與腔體的上下底板和頂板連接,每級側(cè)板通過螺栓及連接件與上下底板及頂板連接,這樣就和塔壁形成封閉的腔體,逐漸減小的腔體通過縮小上下底板及頂板面積來實(shí)現(xiàn)。每級腔體對應(yīng)一個或多個側(cè)板。
權(quán)利要求1.種均壓環(huán)形分布器,設(shè)置在精餾分離塔內(nèi)壁上,其特征是包括一個或多個進(jìn)料口,在進(jìn)料口兩側(cè)設(shè)置多級逐級減小體積的腔體,距進(jìn)料口愈遠(yuǎn)腔體體積愈小,在最后一級腔體互相連通;級數(shù)設(shè)置2 40個。
2.據(jù)權(quán)利要求1所述的均壓環(huán)形分布器,其特征是逐級減小的腔體通過上下焊接在精餾分離塔內(nèi)壁上的環(huán)形支撐環(huán)依靠相關(guān)連接件與腔體的上底板、下頂板和側(cè)板連接,每級側(cè)板通過螺栓及連接件與上下底板及頂板連接,逐漸減小的腔體通過縮小上底板及下頂板面積來實(shí)現(xiàn);每級腔體對應(yīng)一個或多個側(cè)板,側(cè)板上開設(shè)均勻的出氣孔,孔徑大小為ΦI 50mmo
專利摘要一種均壓環(huán)形分布器,設(shè)置在精餾分離塔或相關(guān)容器內(nèi)的內(nèi)壁上,包括一個或多個進(jìn)料口,在進(jìn)料口兩側(cè)設(shè)置逐級減小的腔體,距進(jìn)料口愈遠(yuǎn)腔體愈小,在最后一級腔體互相連通;本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)在于汽相或氣液混合相通過進(jìn)料口進(jìn)入裝置,依靠在各級腔體內(nèi)開設(shè)的氣孔或液孔進(jìn)入精餾塔或相關(guān)容器內(nèi),由于氣體體積減少,那么要在環(huán)形通道內(nèi)維持相同的壓力,必須使后級腔體體積減小,這樣通過逐級減小的腔體使各處的壓力相同,那么噴射到橫截面上的汽相物料就會非常均勻,提高了汽相盡量分布的均勻性。
文檔編號B01D3/14GK202921009SQ20122025566
公開日2013年5月8日 申請日期2012年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月31日
發(fā)明者郭寶林, 鄧家愛, 焦金鋒, 宋四兵, 王蕾 申請人:南京德邦金屬裝備工程股份有限公司
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