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水處理系統(tǒng)和方法

文檔序號(hào):5016069閱讀:591來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:水處理系統(tǒng)和方法
背景技術(shù)
1.發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明通常涉及凈化或處理液體的系統(tǒng)和方法,更具體地講涉及包括電化學(xué)裝置和用于將已處理水輸送至使用場(chǎng)所的儲(chǔ)器的水處理系統(tǒng)和操作與沖洗所述水處理系統(tǒng)的方法。
2.相關(guān)領(lǐng)域描述包含硬度物質(zhì)例如鈣和鎂的水對(duì)于工業(yè)、商業(yè)和家庭應(yīng)用中的一些用途可能是不合需要的。用于水硬度分類的一般準(zhǔn)則是每升0-60毫克(mg/l)碳酸鈣分為軟水類;61-120mg/l分為中度硬水類;121-180mg/l分為硬水類;多于180mg/l分為極硬水類。
硬水通過(guò)除去硬度離子物質(zhì)可軟化或處理。除去這樣物質(zhì)的系統(tǒng)的實(shí)例包括使用離子交換床的系統(tǒng)。在這樣的系統(tǒng)中,硬度離子變?yōu)殡x子鍵合于在離子交換樹(shù)脂表面混合的電荷相反離子物質(zhì)。所述離子交換樹(shù)脂最后變?yōu)橛秒x子鍵合硬度離子物質(zhì)飽和并且必須再生。再生一般包括用更為可溶的離子物質(zhì)例如氯化鈉置換鍵合硬度離子。鍵合于離子交換樹(shù)脂的硬度物質(zhì)被鈉離子置換,所述離子交換樹(shù)脂準(zhǔn)備好再次用于隨后的水軟化步驟。
已經(jīng)公開(kāi)其它系統(tǒng)。例如Dosch在美國(guó)專利3148687中講授了包括采用離子交換樹(shù)脂的水軟化裝置的洗滌機(jī)。類似地,Gadini等在國(guó)際申請(qǐng)公開(kāi)WO00/64325中公開(kāi)了用改進(jìn)的裝置減少水硬度的水的家用電器。Gadini等講授了具有控制系統(tǒng)、來(lái)自外部來(lái)源的給水系統(tǒng)和具有電化學(xué)電池的軟化系統(tǒng)的家用電器。McMahon在美國(guó)專利5166220中講授了離子交換樹(shù)脂在水軟化方法中用鹽溶液再生。
電去離子(EDI)可用于使水軟化。EDI是使用電活性介質(zhì)和影響離子運(yùn)輸?shù)碾妷鹤砸后w中除去可電離物質(zhì)的方法。所述電活性介質(zhì)起作用以交替地聚集和釋放可電離物質(zhì),或者便于離子連續(xù)通過(guò)離子或電子替代機(jī)制運(yùn)輸。EDI裝置可包括具有永久或暫時(shí)電荷的介質(zhì)并且可操作以引起設(shè)計(jì)達(dá)到或增強(qiáng)性能的電化學(xué)反應(yīng)。這些裝置也包括電活性膜例如半滲透性離子交換或雙極性膜。
連續(xù)的電去離子(CEDI)是依賴通過(guò)電活性介質(zhì)(電活性介質(zhì))的離子轉(zhuǎn)運(yùn)方法。一般的CEDI裝置包括交替的電活性半滲透陰離子和陽(yáng)離子選擇性膜。所述膜之間形成空間以產(chǎn)生具有入口和出口的液體流動(dòng)隔室。由外部電源通過(guò)隔室邊緣的電極施加橫向DC電場(chǎng)。在一些配置中提供電極隔室以致于來(lái)自電極的反應(yīng)產(chǎn)物可與其它流動(dòng)隔室分離。施加電場(chǎng)時(shí),在一個(gè)隔室(離子消耗隔室)中待處理的液體中的離子被吸引到它們相應(yīng)的吸引電極。這些離子通過(guò)選擇性滲透膜遷移到鄰接的隔室以致于在鄰接的離子濃集隔室中的液體變成離子濃集的。在所述消耗隔室中和在一些實(shí)施方案中在濃集隔室中的體積包括電活性或電活性介質(zhì)。在CEDI裝置中,所述電活性介質(zhì)可包括緊密混合的陰離子和陽(yáng)離子交換樹(shù)脂。這樣的電活性介質(zhì)一般增強(qiáng)所述隔室中的離子遷移并可作為用于所控制的電化學(xué)反應(yīng)的基質(zhì)參與。電去離子裝置已經(jīng)由例如Giuffrida等在美國(guó)專利4632745、4925541和5211823中,由Ganzi在美國(guó)專利5259936和5316637中,由Oren等在美國(guó)專利5154809中,由Kedem在美國(guó)專利5240579中描述。
已經(jīng)描述可用于使水軟化的其它系統(tǒng)。例如Gaysowski在美國(guó)專利3407864中講授了包括離子交換和電滲析兩者的裝置。Johnson在美國(guó)專利3755135中講授了采用DC電勢(shì)的去離子化裝置。
發(fā)明概述本發(fā)明涉及處理系統(tǒng)。所述處理系統(tǒng)可包括含有第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置、流體連通第一隔室入口和第一泵的第一液體回路、流體連通第二隔室出口與第二隔室入口及第二泵的第二液體回路和流體連通第二隔室入口與第二泵的第三液體回路。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了處理系統(tǒng)。所述處理系統(tǒng)可包括含有包含第一隔室出口和第一隔室入口的第一隔室和包含第二隔室出口和第二隔室入口的第二隔室的電化學(xué)裝置、可流體連通于所述第一隔室出口與第一隔室入口的第一泵、可流體連通于所述第二隔室出口與第二隔室入口的第二泵和可流體連通于至少一個(gè)所述第一或第二隔室出口的循環(huán)管路。所述電化學(xué)裝置一般流體連通于入口位置。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了處理液體的方法。所述方法可包括形成具有使待處理的液體自儲(chǔ)器通過(guò)第一泵流向電化學(xué)裝置的第一隔室入口的第一液體回路、形成具有使?jié)饧囊后w自所述電化學(xué)裝置的第二隔室出口通過(guò)第二泵流向第二隔室入口的第二液體回路,和形成具有使待處理的液體自儲(chǔ)器通過(guò)第二泵流向第二隔室入口的第三液體回路。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了處理水的方法。所述方法可包括使至少一部分待處理的水經(jīng)第一泵通過(guò)電化學(xué)裝置的消耗隔室產(chǎn)生已處理的水,使?jié)饧鹘?jīng)第二泵通過(guò)電化學(xué)裝置的濃集隔室循環(huán),和使?jié)饧鹘?jīng)第一泵通過(guò)濃集隔室循環(huán)。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了處理水的方法。所述方法可包括使待處理的水通過(guò)電化學(xué)裝置產(chǎn)生已處理的水,使至少一部分已處理的水貯存在儲(chǔ)水器中,用所述已處理的水沖洗所述電化學(xué)裝置的濃集隔室。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了便于水凈化的方法。所述方法可包括提供包含第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置;提供可流體連通于儲(chǔ)水器、第一隔室出口和第一隔室入口的至少一個(gè)的第一泵;提供可流體連通于儲(chǔ)水器、第二隔室出口和第二隔室入口的至少一個(gè)的第二泵;和提供可流體連通于所述第一和第二隔室出口的至少一個(gè)的循環(huán)管路。
按照一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案,本發(fā)明提供了處理系統(tǒng)。所述處理系統(tǒng)可包括包含第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置,用于使待處理的液體自儲(chǔ)水器通過(guò)所述第一隔室流動(dòng)和使?jié)饧囊后w通過(guò)所述第二隔室循環(huán)的裝置和用于使所述待處理的液體自儲(chǔ)水器通過(guò)所述第二隔室流動(dòng)和使?jié)饧囊后w通過(guò)所述第一隔室循環(huán)的裝置。
本發(fā)明的其它有利條件、新特性和目的當(dāng)連同附圖一起考慮時(shí)從本發(fā)明以下詳細(xì)描述將變得顯而易見(jiàn),附圖是圖解性的并不打算按比例繪制。在這些附圖中,在各附圖中圖解說(shuō)明的每一個(gè)相同或基本相似的組件用單一的數(shù)字或符號(hào)表示。為清楚起見(jiàn),不是每一個(gè)組件在每一個(gè)圖中得到標(biāo)記,當(dāng)圖解說(shuō)明對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解本發(fā)明不必要時(shí),也不是本發(fā)明每一個(gè)實(shí)施方案的每一個(gè)組件得到顯示。
附圖簡(jiǎn)述本發(fā)明優(yōu)選的、非限定性實(shí)施方案將通過(guò)實(shí)施例并參照附圖得到描述,其中

圖1為顯示本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的具有電化學(xué)裝置的管路上儲(chǔ)器的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖2A為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的第一液體回路流動(dòng)的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖2B為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的第二液體回路流動(dòng)的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖2C為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的第三液體回路流動(dòng)的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖2D為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的第四液體回路流動(dòng)的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖3A為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的沖洗流體流動(dòng)流程的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖3B為圖解說(shuō)明本發(fā)明一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方案的沖洗流體流動(dòng)流程的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;圖4為如在實(shí)施例中描述的本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案的處理系統(tǒng)圖解性流程圖;和圖5為顯示在圖4中用圖解顯示的處理系統(tǒng)所測(cè)量的電導(dǎo)率的曲線圖。
發(fā)明詳述本發(fā)明涉及凈化或處理系統(tǒng)和提供工業(yè)、商業(yè)以及住宅用凈化水的方法。所述處理系統(tǒng)通過(guò)除去包含在來(lái)自水源例如生活用水、井水、鹽味水和其它水源的水中的至少一部分任何不合需要的物質(zhì)例如引起硬度的物質(zhì)向使用場(chǎng)所提供凈化水或者在一些情況中提供軟化水。所述處理系統(tǒng)可操作以減少一般在生產(chǎn)凈化水時(shí)產(chǎn)生的任何結(jié)垢或污垢形成的可能。在處理系統(tǒng)包括它的組件例如任何泵、閥門(mén)和管路中的結(jié)垢或污垢的形成可通過(guò)使流動(dòng)的液體反向或從具有高度形成結(jié)垢傾向的液體置換為具有低的或沒(méi)有產(chǎn)生結(jié)垢傾向的液體例如具有低的Langelier Saturation Index(LSI)的水得到抑制。LSI可按照例如ASTMD 3739計(jì)算。
所述處理系統(tǒng)一般自水源或進(jìn)入點(diǎn)接受水并且凈化可能包含不合需要的物質(zhì)的水。所述處理系統(tǒng)也一般通過(guò)輸配水系統(tǒng)向使用場(chǎng)所提供或輸送凈化水。所述處理系統(tǒng)一般具有管路上帶有電化學(xué)裝置例如電去離子裝置的蓄水系統(tǒng)。在一些實(shí)施方案中所述處理系統(tǒng)也包括用于測(cè)量至少一種水性質(zhì)或系統(tǒng)的操作條件的傳感器。按照本發(fā)明的其它實(shí)施方案,所述處理系統(tǒng)也包括用于調(diào)節(jié)或調(diào)整所述處理系統(tǒng)或處理系統(tǒng)的組件例如(但不限于)所述系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)閥門(mén)、驅(qū)動(dòng)用泵或其它組件的至少一種操作參數(shù)的控制器。
圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案的處理系統(tǒng)的圖解性流程圖。所述處理系統(tǒng)10可包括流體連通于蓄水系統(tǒng)14的電去離子裝置12,前者一般流體連通于水源或進(jìn)入點(diǎn)16。處理系統(tǒng)10一般包括使用場(chǎng)所18,它一般流體連通于蓄水系統(tǒng)14。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,處理系統(tǒng)10包括泵20a和20b,它們可用于自蓄水系統(tǒng)14泵送液體并且在一些情況中使液體通過(guò)循環(huán)管路32自電去離子裝置12的出口向入口循環(huán)。在本發(fā)明的某些實(shí)施方案中,處理系統(tǒng)10包括閥門(mén)22a、22b、22c和22d,它們可用于引導(dǎo)流向與流出電去離子裝置12和流向與流出蓄水系統(tǒng)14以及通過(guò)泵20a、20b和預(yù)處理濾器24a與20b。在這些附圖中,不是所有的閥門(mén)為了清楚起見(jiàn)得到圖解說(shuō)明,例如控制液流流向排水口30的閥門(mén)未顯示。在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案中,處理系統(tǒng)10可包括控制系統(tǒng),它一般包括控制器26以及傳感器28。傳感器28通常測(cè)量在處理系統(tǒng)10中的任何流體的操作參數(shù)或性質(zhì)。通常,傳感器28將測(cè)量的參數(shù)發(fā)送或傳輸至控制系統(tǒng)26。
在本發(fā)明仍然另一個(gè)實(shí)施方案中,控制系統(tǒng)26可驅(qū)動(dòng)任何閥門(mén)以引導(dǎo)水凈化中的液流。在一些情況中,控制系統(tǒng)26可給所述處理系統(tǒng)中的這些泵的電機(jī)供給能量。因此,控制系統(tǒng)26可監(jiān)測(cè)和控制所述處理系統(tǒng)的操作情況。
電去離子組件或裝置12一般包括離子消耗(消耗)隔室和離子濃集(濃集)隔室。相鄰的隔室一般具有位于之間的離子選擇性隔膜。濃集和消耗隔室的組合(一般稱作堆積)可以交替的順序或者以對(duì)滿足設(shè)計(jì)和性能要求必要的各種排列中的任何一種進(jìn)行。堆積排列通常通過(guò)一端的電極隔室和相對(duì)的一端的另外的電極隔室而接界。通常,端基封閉位于鄰近在相應(yīng)的電極隔室中安裝陽(yáng)極和陰極的端板。所述濃集和消耗隔室一般通過(guò)偏移和支撐離子選擇性隔膜或選擇性滲透膜的墊片或結(jié)構(gòu)確定。所述墊片與粘附于其上的選擇性隔膜一起根據(jù)如以下解釋的操作條件限定了可用作濃集或消耗隔室的空腔。
所述濃集和消耗隔室可填充陽(yáng)離子交換樹(shù)脂陰離子交換樹(shù)脂或兩者的混合物。陽(yáng)離子和陰離子交換樹(shù)脂可作為混合物或作為任何消耗、濃集和電極隔室中的層排列以致于可組裝以各種排列存在的許多層。在任何消耗、濃集和電極隔室中的混合床離子交換樹(shù)脂的用途、在陰離子與陽(yáng)離子交換樹(shù)脂床層之間的惰性樹(shù)脂的用途以及各種類型陰離子與陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的用途例如由DiMascio等在美國(guó)專利5858191中描述的那些樹(shù)脂處于本發(fā)明范圍內(nèi)。
操作中,一般來(lái)自上游水源在進(jìn)入點(diǎn)16進(jìn)入處理系統(tǒng)10中的已經(jīng)溶解陽(yáng)離子和陰離子物質(zhì)(包括硬度離子物質(zhì))的待處理的液體可引入到蓄水系統(tǒng)14中。然后待處理的液體可如以下描述的那樣處理或在電去離子裝置12中進(jìn)行電去離子。然后所產(chǎn)生的已處理的液體可傳輸并貯存在蓄水系統(tǒng)14中。在蓄水系統(tǒng)14中的已處理的液體或者至少其一部分可在一個(gè)實(shí)施方案中通過(guò)連接的輸配水系統(tǒng)(未顯示)傳輸至使用場(chǎng)所18。
待處理的液體通常進(jìn)入電去離子裝置或堆積12,優(yōu)選在電去離子裝置12的消耗隔室。通過(guò)電極跨過(guò)堆積施加電場(chǎng),所施加的電場(chǎng)一般產(chǎn)生將陽(yáng)離子和陰離子物質(zhì)吸引到它們相應(yīng)電極的電勢(shì)。這樣,所述陽(yáng)離子和陰離子物質(zhì)趨于自消耗隔室向它們相應(yīng)的吸引電極遷移至鄰接隔室,后者在一些實(shí)施方案中為濃集隔室。隔室之間的選擇性滲透隔膜用作防止離子物質(zhì)進(jìn)一步遷移進(jìn)入鄰接隔室的屏障。因此,來(lái)自消耗隔室的液流的離子物質(zhì)可捕集到鄰接或附近的濃集隔室因此產(chǎn)生離開(kāi)前個(gè)隔室的已處理的液體和離開(kāi)后個(gè)隔室的濃集液流。代表性的合適的離子選擇性隔膜包括例如用含有磺酸或季銨官能團(tuán)的苯乙烯-二乙烯基苯為載體的基料、用在聚偏二氟乙烯粘合劑中的苯乙烯-二乙烯基苯為載體的基料和在聚乙烯片材上的無(wú)載體磺化苯乙烯和季銨化乙烯基芐基胺接枝物。
在本發(fā)明一些實(shí)施方案中,所施加的電場(chǎng)可產(chǎn)生極化現(xiàn)象,這通常導(dǎo)致水解離作用,尤其是當(dāng)水用作待處理的液體時(shí),解離為羥基和氫離子。所述羥基和氫離子可使消耗和濃集隔室中的離子交換樹(shù)脂再生以致于所溶解的離子物質(zhì)的去除可發(fā)生在基本上離子中性條件下并且可連續(xù)發(fā)生而不需要單獨(dú)的步驟用于再生耗盡的離子交換樹(shù)脂。
所述電場(chǎng)通常是通過(guò)電去離子裝置12的電極施加的直流電。然而,可在一個(gè)電極與另一個(gè)電極之間產(chǎn)生偏壓或電勢(shì)差的任何施加的電流可用于促進(jìn)離子物質(zhì)的遷移。因此,可使用交流電,條件是在電極之間存在足以使陽(yáng)離子和陰離子物質(zhì)吸引到它們相應(yīng)的吸引電極的電勢(shì)差。例如在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案中,交流電可整流,例如用二極管或橋式整流器以使交流電轉(zhuǎn)化為具有足夠電勢(shì)的脈動(dòng)電流吸引帶電荷離子物質(zhì)。
所述電活性介質(zhì),通常為陽(yáng)離子和陰離子交換樹(shù)脂,通常用于消耗隔室并且在一些情況中用于所述濃集隔室,可在它們的表面區(qū)域具有各種官能團(tuán),包括(但不限于)叔烷基氨基和二甲基乙醇胺。這些也可與其它具有各種官能團(tuán)例如(但不限于)季銨基團(tuán)的離子交換樹(shù)脂物質(zhì)聯(lián)合使用。對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)發(fā)生使用不多于常規(guī)實(shí)驗(yàn)方法的其它改進(jìn)和等價(jià)物。例如,在任何消耗、濃集和電子器件隔室中層狀離子交換樹(shù)脂床的使用可用于本發(fā)明。
蓄水系統(tǒng)14可用于貯存或蓄積來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的液體并且也可用于貯存來(lái)自電去離子裝置12的已處理的液體。蓄水系統(tǒng)14也可向使用場(chǎng)所18提供已處理的水或至少部分已處理的水。在一些實(shí)施方案中,蓄水系統(tǒng)14包括容器,例如具有用于流體流動(dòng)的入口和出口的受壓容器。如在此使用的,受壓的指具有大于約2psi的壓力差的任何單元操作。因此,受壓容器為例如通過(guò)它的器壁具有大于約2psi的壓力差的容器。
按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案,蓄水系統(tǒng)14包括多個(gè)容器或儲(chǔ)器,每一個(gè)容器本身可具有位于每一個(gè)容器的不同位置上的幾個(gè)入口。每一個(gè)容器可具有一個(gè)或幾個(gè)出口,它們可位于不同位置上,取決于至使用場(chǎng)所18的需要量和流速、電去離子裝置12的容量或效率以及蓄水系統(tǒng)的容量或積存量。蓄水系統(tǒng)14可另外包括實(shí)施合乎需要的功能或避免不合需要后果的各種組件或元件。例如,蓄水系統(tǒng)12可具有含內(nèi)部元件例如安置以將任何內(nèi)流減至最小的擋板的容器。在一些情況中,蓄水系統(tǒng)14可具有輔助或外部元件,包括(但不限于)設(shè)計(jì)降低不合需要的內(nèi)壓和避免或者至少減小破裂和膨脹系統(tǒng)的可能的卸壓閥,它可適應(yīng)與溫度變化相關(guān)的容積變化,例如熱膨脹槽,它設(shè)計(jì)保持要求的操作壓力。這樣熱膨脹槽的大小和容量將依幾種因素而定,包括(但不限于)水的總體積、所述蓄水系統(tǒng)的操作溫度和壓力。
按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案,處理系統(tǒng)10可包括流體連通電去離子裝置12的至少一個(gè)出口的循環(huán)管路。例如,循環(huán)管路32可連接于歧管出口(未顯示),后者收集離開(kāi)隔室一般為類似的操作隔室,尤其是消耗或濃集隔室的液體。循環(huán)管路32也可通過(guò)如在圖1中圖解說(shuō)明的泵20b和閥門(mén)22a與22b連接于電去離子裝置12的入口。
電去離子裝置12也可包括一個(gè)或更多個(gè)電去離子段,如由Ganzi等在美國(guó)專利5316637中描述的那樣。在每一個(gè)段,消耗和濃集隔室的堆積位于第一和第二電極之間。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,電去離子裝置12的每一個(gè)段包括多個(gè)隔室,每一個(gè)隔室部分地由在其任何一端的外部隔膜限定。至少一個(gè)隔室的隔膜可共同大范圍接觸鄰接隔室的隔膜;按照一個(gè)實(shí)施方案,以堆積方式存在的所有隔室可彼此相鄰排列,伴隨鄰接隔室的隔膜彼此共同大范圍接觸。這樣的排列由Gallagher等在美國(guó)專利5736023中得到描述。
如在圖1的實(shí)施方案中圖解說(shuō)明的,電去離子裝置12通常包括第一隔室34和鄰接隔室36,所述第一和第二隔室由位于之間的離子選擇性隔膜38分開(kāi)。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,第一隔室34可用作消耗隔室,第二隔室36可用作濃集隔室。特別是電去離子裝置12用單一的消耗隔室和單一的濃集隔室圖解性舉例說(shuō)明;因此它顯示僅用于舉例說(shuō)明。因此,按照本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案,確定段的多個(gè)消耗隔室和單一的濃集隔室將排列在電去離子裝置的電極之間。
第一隔室34可包括第一端口40和第二端口42。類似地,第二隔室36可包括第一端口44和第二端口46。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,第一端口40與第二端口42可位于第一隔室34的相對(duì)端面,第一端口44與第二端口46可位于第二隔室36相對(duì)端面。第一端口40和44可用作液體進(jìn)入它們相應(yīng)隔室的入口。相應(yīng)地,第二端口42和46可用作它們相應(yīng)隔室的液體出口。
按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案,電去離子裝置12可包括多個(gè)第一和第二隔室。每一個(gè)所述第一隔室可包括第一端口和第二端口。所述多個(gè)第一端口通??闪黧w連通于第一端口歧管48,所述多個(gè)第二端口通??闪黧w連通于第二端口歧管50。類似地,每一個(gè)所述第二隔室可包括第一端口和第二端口。所述多個(gè)第二隔室第一端口通??闪黧w連通于第一端口歧管52,所述多個(gè)第二隔室第二端口通??闪黧w連通于第二端口歧管54。
第一隔室34和第二隔室36可連接于具有多個(gè)由管道、歧管和閥門(mén)限定的流體通道或回路的液體循環(huán)網(wǎng)絡(luò)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,在圖1中顯示的,第一液體回路可包括通過(guò)泵20a、濾器24a、閥門(mén)22a與22b和歧管48與52從蓄水系統(tǒng)14至第一隔室34或第二隔室36中任何一個(gè)的流體連接。所述第一液體回路可另外包括通過(guò)歧管50與54和閥門(mén)22c與22d從第一隔室34和第二隔室36至蓄水系統(tǒng)14的流體連接。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,處理系統(tǒng)10可包括通過(guò)第一隔室34或第二隔室36與循環(huán)管路32的第二液體回路。在一些情況中,所述第二液體回路可通過(guò)泵20b、濾器24b和閥門(mén)22a或22b中任何一個(gè)流體連通循環(huán)管路32至第一隔室34或第二隔室36。所述第二液體回路可另外包括通過(guò)歧管48和52的流體連接。另外,所述第二液體回路可另外包括通過(guò)歧管50或歧管54至閥門(mén)22c與22d中任何一個(gè)的流體連接。
如在此使用的,術(shù)語(yǔ)液體回路打算定義使得液流在其中流動(dòng)的閥門(mén)與管路的特有連接與配置。
本發(fā)明的其它實(shí)施方案將參照附圖2A-2D得到描述。在這些附圖中,加深的粗線表示液體可通過(guò)它按照所描述的液體回路流動(dòng)的通路。為了舉例說(shuō)明起見(jiàn),本發(fā)明的各種實(shí)施方案將通過(guò)水體凈化得到描述。然而,應(yīng)該理解任何可通過(guò)電去離子技術(shù)處理的液體的處理可得益于使用本發(fā)明的系統(tǒng)和方法。
在圖2A中,圖解說(shuō)明第一液體回路,其中供液例如自來(lái)水、鹽味水或預(yù)處理的半純化水可通過(guò)進(jìn)入點(diǎn)(未顯示)進(jìn)入處理系統(tǒng)10。因此,在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,待處理的液體可從蓄水系統(tǒng)14的出口60通過(guò)管道62、閥門(mén)22a、泵20a,任選通過(guò)濾器24a和歧管52經(jīng)端口44進(jìn)入隔室36在第一液體回路中流動(dòng)。所述第一液體回路可另外包括隔室36通過(guò)端口46至歧管54、閥門(mén)22d、管道64和通過(guò)入口66至蓄水系統(tǒng)14的連接。閥門(mén)22a和22d可驅(qū)動(dòng)以使得通過(guò)以上描述的第一液體回路流動(dòng)。因此,所述第一液體回路可從蓄水系統(tǒng)14向電去離子裝置12供給待處理的液體和可輸送已處理的液體并在蓄水系統(tǒng)14中貯存。
本發(fā)明提供了在處理系統(tǒng)10中的第二液體回路。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,所述第二液體回路可使?jié)饧毫魍ㄟ^(guò)電去離子裝置12的一個(gè)隔室在閉合回路中流動(dòng)。如在圖2B的示意圖中圖解說(shuō)明的,所述第二液體回路可包括通過(guò)閥門(mén)22b、泵20b,任選通過(guò)濾器24b進(jìn)入歧管48至和自循環(huán)管路32與至和自隔室34的連接并且可通過(guò)端口40進(jìn)入隔室34。所述第二液體回路可使液體通過(guò)端口42和歧管50離開(kāi)隔室34和通過(guò)循環(huán)管路32與歧管48返回到隔室34。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案,在所述第二液體回路中流動(dòng)的濃集液流可包含已經(jīng)從隔室36通過(guò)離子選擇性隔膜38遷移進(jìn)入隔室34的離子物質(zhì)。在一些情況中,在所述第二液體回路中流動(dòng)的濃集液流可按照預(yù)定的工藝過(guò)程排放或輸送至排水口30。輸送至排水口30可通過(guò)例如必要時(shí)打開(kāi)排水閥(未顯示)實(shí)現(xiàn)。
在另一個(gè)實(shí)施方案中,在圖2C中圖解說(shuō)明的,本發(fā)明提供了使蓄水系統(tǒng)14流體連通至電去離子裝置12的隔室34的第三液體回路。所述第三液體回路可包括至和自濾器24b的連接。通常,所述第三液體回路可包括從蓄水系統(tǒng)14的出口60至管道62至閥門(mén)22b至泵20b至歧管48和至隔室34的端口40的連接。所述第三液體回路可另外包括從端口42至歧管50至閥門(mén)22c至管道64和至蓄水系統(tǒng)14的入口66的連接。在所述第三液體回路中,來(lái)自蓄水系統(tǒng)14的待處理的流體通常流入隔室34。所產(chǎn)生的凈化水可輸送至蓄水系統(tǒng)14。
在另一個(gè)實(shí)施方案中,本發(fā)明可提供第四液體回路,它提供了從電去離子裝置12的濃集隔室的出口至同一個(gè)濃集隔室的入口的連接。如在圖2D的示意圖中圖解說(shuō)明的,所述第四液體回路可連接隔室36的出口46至歧管54至閥門(mén)22d,其依次可連接于循環(huán)管路32。所述第四液體回路也可提供從循環(huán)管路32至閥門(mén)22a至泵20a和通過(guò)歧管52至隔室36的端口44的連接。這個(gè)液體回路可包括至排水口30的連接以致于通常在所述第四液體回路中流動(dòng)的濃集液流可排出。
在另一個(gè)實(shí)施方案中,如在圖3A中圖解說(shuō)明的,本發(fā)明提供了采用凈化水或至少部分已處理的水沖洗電去離子裝置12。電去離子裝置12的沖洗可通過(guò)采用泵20a和20b經(jīng)閥門(mén)22a和22b并且任選通過(guò)濾器24a和24b輸送已處理的水進(jìn)入隔室34和36來(lái)實(shí)施。這第一沖洗回路可循序進(jìn)行以致于在隔室34用流出隔室36的已處理的水沖洗之前隔室36用已處理的水沖洗。所述流體方向箭頭56顯示來(lái)自儲(chǔ)器14的已處理的水可由閥門(mén)22a引導(dǎo)在進(jìn)入隔室36的端口44之前通過(guò)泵20a至歧管52流動(dòng)。這樣,凈化水可用于替代或沖洗出在隔室36中蓄積的任何液體。泵20a的連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn),自儲(chǔ)器14輸送已處理的液體,可促使已處理的沖洗液體的任何上游液體通過(guò)端口46離開(kāi)并流入歧管54,最后可由閥門(mén)22c再引導(dǎo)進(jìn)入循環(huán)管路32。閥門(mén)22b可連接循環(huán)管路32泵20b,其依次可使已處理的液體通過(guò)歧管48流動(dòng)并通過(guò)端口40進(jìn)入隔室34。所述凈化水通過(guò)使用泵20a和20b中的任何一個(gè),或者任選地協(xié)調(diào)使用兩個(gè)泵以及使閥門(mén)22a、22b、22c和22d適當(dāng)取向而連續(xù)流動(dòng)可使得基本上全部或者大部分工藝管線,尤其是處理系統(tǒng)10的潤(rùn)濕部件用來(lái)自儲(chǔ)器14的凈化水沖洗。在一些情況中,用于沖洗電去離子裝置12的凈化水具有低的LSI或者具有足夠的純度以在與具有不合需要的離子物質(zhì)的任何液體混合后適應(yīng)和滿足使用場(chǎng)所18的要求。本發(fā)明進(jìn)一步提供了用具有低LSI的液體置換電去離子裝置10中的液體成分的沖洗系統(tǒng),確信提供了對(duì)任何結(jié)垢形成的抑制作用。所述液體可返回到蓄水系統(tǒng)14。如在此使用的,低LSI水具有少于約2,優(yōu)選少于約1,更優(yōu)選少于約0的LSI。在一些實(shí)施方案中,本發(fā)明提供了具有低電導(dǎo)率的已處理的液體例如水。如在此使用的,低電導(dǎo)率液體具有少于約300μS/cm,優(yōu)選少于約220μS/cm,更優(yōu)選少于約200μS/cm的電導(dǎo)率。
在另一個(gè)實(shí)施方案中,本發(fā)明可提供可置換存在于處理系統(tǒng)10中的具有積垢趨勢(shì)的任何液體的第二沖洗回路。在于圖3B中圖解說(shuō)明的實(shí)施方案中,可為來(lái)自儲(chǔ)器14的凈化水的液體通過(guò)閥門(mén)22a和22b經(jīng)泵20a和20b平行流入第一和第二隔室34和36。已處理的水可流入歧管48和52并分別通過(guò)40和44進(jìn)入所述隔室。所述凈化水的連續(xù)流動(dòng)可置換趨于在隔室34和36中形成結(jié)垢的任何液體。沖洗可通過(guò)使泵20a和20b運(yùn)轉(zhuǎn)連續(xù)進(jìn)行以致于凈化水可通過(guò)端口42和46流出并分別進(jìn)入歧管50和54,最后通過(guò)閥門(mén)22c和22d引導(dǎo)返回到儲(chǔ)器14。在這個(gè)裝置或技術(shù)中,沖洗流體例如凈化水可置換可能已經(jīng)在處理系統(tǒng)10中蓄積的任何液體。正如所述早先描述的實(shí)施方案,所述沖洗裝置或技術(shù)可用具有低LSI的液體或具有很少或者沒(méi)有形成結(jié)垢趨勢(shì)的液體置換可趨于形成結(jié)垢的任何液體。類似地,所述沖洗液體可返回至蓄水系統(tǒng)14。
在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中,蓄水系統(tǒng)14包括受壓容器或具有用于流體流動(dòng)的入口和出口例如入口58和出口60的容器。入口58通常流體連通于進(jìn)入點(diǎn)16,出口60通常流體連通于輸配水系統(tǒng)或使用場(chǎng)所18。蓄水系統(tǒng)14可具有幾個(gè)容器,每一個(gè)容器依次可具有幾個(gè)位于不同位置的入口。類似地,出口60可位于每一個(gè)容器的不同位置,取決于至使用場(chǎng)所18的需要量和流速、電去離子裝置12的容量或效率以及蓄水系統(tǒng)的容量或積存量。蓄水系統(tǒng)14可另外包括實(shí)施合乎需要的功能或避免不合需要后果的各種組件或元件。例如蓄水系統(tǒng)14可具有包含內(nèi)部元件例如安裝以干擾蓄水系統(tǒng)14的容器中的任何內(nèi)流的擋板的容器。按照本發(fā)明的一些實(shí)施方案,蓄水系統(tǒng)14可包括用于加熱或冷卻所述流體的熱交換器。例如,蓄水系統(tǒng)14可包括具有加熱盤(pán)管的容器,其可具有在相對(duì)于所述容器中流體溫度的升高的溫度下的加熱流體。所述加熱流體可為在用加熱單元操作例如加熱爐加熱的閉合回路流動(dòng)中的熱水以致于所述加熱流體溫度用加熱爐升高。所述加熱流體可通過(guò)熱交換升高容器流體溫度。內(nèi)部或另外元件的其它實(shí)例包括(但不限于)設(shè)計(jì)降低任何容器的內(nèi)壓和避免或者至少減小容器破裂的可能的卸壓閥。在本發(fā)明的仍然另一個(gè)實(shí)施方案中,蓄水系統(tǒng)14包括適合于保持要求的操作壓力的熱膨脹槽。熱膨脹槽的大小和容量將依幾種因素而定,包括(但不限于)水的總體積、所述蓄水系統(tǒng)的操作溫度和壓力。
在操作中,蓄水系統(tǒng)14通常連接進(jìn)入點(diǎn)16的下游并且在管線內(nèi)例如在循環(huán)回路內(nèi)與電化學(xué)裝置12例如電去離子裝置流體連通。例如,來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的水可流入入口58并且可與包含在蓄水系統(tǒng)14中的重力水混合。重力水可通過(guò)出口60離開(kāi)蓄水系統(tǒng)14并可引導(dǎo)向使用場(chǎng)所18或者通過(guò)泵20a和20b進(jìn)入電化學(xué)裝置12用于純化或除去任何不合需要的物質(zhì)。離開(kāi)電化學(xué)裝置12的凈化水可與來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的水混合并通過(guò)入口60進(jìn)入蓄水系統(tǒng)14。這樣,在蓄水系統(tǒng)14與電去離子裝置12之間形成回路,來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的供水可補(bǔ)充由使用場(chǎng)所18產(chǎn)生的水需求并流向使用場(chǎng)所18。
所述電化學(xué)裝置可包括通過(guò)除去至少部分任何不合需要的物質(zhì)例如引起硬度的物質(zhì)純化或處理液體例如水的任何處理裝置或系統(tǒng)。這樣電化學(xué)裝置的實(shí)例包括電去離子裝置、電滲析裝置和電容式去離子裝置。特別是本發(fā)明的系統(tǒng)和技術(shù)可采用其它的處理裝置或系統(tǒng)。例如,本發(fā)明可采用反滲透裝置作為處理設(shè)備,在此描述的各種裝置和技術(shù)可用于最大程度地減少或除去存在于這樣系統(tǒng)中的任何硬度沉積物。
進(jìn)入點(diǎn)16提供或連接來(lái)自水源的水至處理系統(tǒng)。水源可為飲用水源例如生活用水源或井水或者它可為非飲用水源例如鹽味或鹽水源。在這樣的情況中,中間純化或處理系統(tǒng)一般在它到達(dá)進(jìn)入點(diǎn)16之前純化人消耗用水。所述水通常包含溶解的鹽或離子的或可電離物質(zhì)包括鈉、氯化物、氯、鈣離子、鎂離子、碳酸鹽、硫酸鹽或其它不溶或半溶物質(zhì)或溶解的氣體例如二氧化硅和二氧化碳。另外,所述水可包含添加劑例如氟化物、氯酸鹽和溴酸鹽。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案中,處理系統(tǒng)10包括輸配水系統(tǒng),它連接至使用場(chǎng)所。所述輸配水系統(tǒng)可包括流體連通以從蓄水系統(tǒng)14向使用場(chǎng)所18供水,一般為凈化水的組件。所述輸配水系統(tǒng)可包括任何排列的管線、閥門(mén)、三通、泵和歧管以從蓄水系統(tǒng)14向一個(gè)或幾個(gè)使用場(chǎng)所18或者處理系統(tǒng)10的任何組件供水。在一個(gè)實(shí)施方案中,所述輸配水系統(tǒng)包括家用或住宅輸配水網(wǎng)絡(luò),包括(但不限于)洗水槽龍頭(sink faucet)、花灑、洗滌機(jī)和洗碟機(jī)的連接。例如,系統(tǒng)10可連接于冷或熱或兩者的家用輸配水系統(tǒng)。
按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案,處理系統(tǒng)10也包括傳感器28,一般為水特性傳感器,其測(cè)量處理系統(tǒng)10中的至少一種物理特性。例如,傳感器28可為可測(cè)量濁度、堿度、水電導(dǎo)率、pH、溫度、壓力、組成或流速的裝置。傳感器28可安裝或配置在處理系統(tǒng)10中以測(cè)量尤其優(yōu)選的水特性。例如,傳感器28可為安裝在蓄水系統(tǒng)14中測(cè)量所貯存水的電導(dǎo)率(可為使用場(chǎng)所18可獲得的供水質(zhì)量的指標(biāo))的水電導(dǎo)率傳感器。在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案中,傳感器28可包括一系列或一組傳感器。這組傳感器可構(gòu)造、排列或連接于控制器26以致于控制器26可間歇地或連續(xù)地監(jiān)測(cè)水的質(zhì)量。在這樣的裝置中,處理系統(tǒng)10的性能可如以下描述的那樣最優(yōu)化。本發(fā)明的其它實(shí)施方案可包括在貫穿處理系統(tǒng)10的不同位置多組傳感器的組合。例如,傳感器28可為測(cè)量至使用場(chǎng)所18的流速的流量傳感器,另外包括任何監(jiān)測(cè)處理系統(tǒng)10的操作條件的濁度計(jì)、pH、組成、溫度和壓力傳感器。
按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案,處理系統(tǒng)10可另外包括設(shè)計(jì)在水引入到例如蓄水系統(tǒng)14或處理裝置例如電化學(xué)裝置之前從水中除去部分任何不合需要的物質(zhì)的預(yù)處理系統(tǒng)24。預(yù)處理系統(tǒng)的實(shí)例包括(但不限于)反滲透裝置,它通常用于將鹽味水或鹽水脫鹽。尤其是碳濾器或活性炭濾器對(duì)除去至少一部分任何氯或可能阻礙或干擾電化學(xué)裝置的操作的任何物質(zhì)可以是必要的。
預(yù)處理系統(tǒng)24可安裝在處理系統(tǒng)10中的任何位置。例如,預(yù)處理系統(tǒng)24可安裝在蓄水系統(tǒng)14的上游或蓄水系統(tǒng)14的下游但是電去離子裝置12的上游以致于至少一些氯物質(zhì)保留在蓄水系統(tǒng)14中但是在液體進(jìn)入電去離子裝置12之前除去。預(yù)處理系統(tǒng)24可包括濾器或多個(gè)濾器排列。如在圖1中顯示的,預(yù)處理系統(tǒng)24包括在隔室34和36上游的濾器24a和24b。在其它情況中,預(yù)處理系統(tǒng)24可包括在蓄水系統(tǒng)14上游的濾器以及在泵20a和20b與隔室36和34之間的濾器24a和24b。濾器24a和24b可為任何顆粒、碳、鐵濾器或其組合。
按照本發(fā)明的其它實(shí)施方案,所述處理系統(tǒng)可另外包括配置在其任何部分的前或后處理裝置或系統(tǒng)以使得消除污染或使得可能聚集在所述處理系統(tǒng)的任何組件的微生物例如細(xì)菌失活。例如,預(yù)處理裝置可流體連通于本發(fā)明的輸配水系統(tǒng)。在本發(fā)明的其它實(shí)施方案中,后處理設(shè)備可將流體在輸送至使用場(chǎng)所之前處理??上麥缁驕缁钗⑸锏倪@樣的裝置或系統(tǒng)的實(shí)例包括提供光化輻射或紫外輻射和/或臭氧的那些裝置或系統(tǒng)。這樣裝置的其它實(shí)例包括通過(guò)超濾作用或微孔過(guò)濾除去細(xì)菌的那些裝置。按照本發(fā)明的其它實(shí)施方案,所述處理系統(tǒng)可另外包括消毒所述處理系統(tǒng)的一個(gè)或更多個(gè)組件的一個(gè)或更多個(gè)化學(xué)品輸送系統(tǒng)。例如,化學(xué)處理系統(tǒng)可流體連通于所述處理系統(tǒng)的任何組件以輸送消滅或使任何細(xì)菌滅活的化學(xué)品。這樣化學(xué)品的實(shí)例包括(但不限于)酸、堿或其它消毒化合物例如醇類。在本發(fā)明的其他實(shí)施方案中,熱水消毒裝置可流體連通于本發(fā)明的處理系統(tǒng)。所述熱水消毒裝置可提供消滅或滅活可能聚集在所述處理系統(tǒng)的任何組件的任何細(xì)菌的熱水。
在本發(fā)明的仍然另一個(gè)實(shí)施方案中,處理系統(tǒng)10另外包括能夠監(jiān)測(cè)和調(diào)節(jié)處理系統(tǒng)10包括其組件的操作條件的控制器26??刂破?6通常為基于微處理器的裝置例如可編程邏輯控制器(PLC)或分布式控制系統(tǒng),其至和從處理系統(tǒng)10的組件接收或發(fā)送輸入和輸出信號(hào)。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,控制器26可為向電源(向電去離子裝置12供電)(未顯示)發(fā)送信號(hào)或向驅(qū)動(dòng)泵20a和20b的電機(jī)的電動(dòng)控制中心發(fā)送信號(hào)的PLC。在本發(fā)明的某些實(shí)施方案中,控制器26調(diào)節(jié)在開(kāi)環(huán)或閉環(huán)控制流程中的處理系統(tǒng)10的操作條件。例如,在開(kāi)環(huán)控制中的控制器26可向處理系統(tǒng)提供信號(hào)以致于水不需要測(cè)量任何操作條件得到處理。相反,控制器26可控制閉環(huán)控制中的操作條件以致于操作參數(shù)可根據(jù)通過(guò)例如傳感器28測(cè)量的操作條件得到調(diào)節(jié)。在本發(fā)明的仍然另一個(gè)實(shí)施方案中,控制器26可另外包括通信系統(tǒng)例如用于向遠(yuǎn)地站傳輸或發(fā)射所測(cè)量的操作條件或操作參數(shù)的遠(yuǎn)程通信設(shè)備。
按照本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案,控制器26可提供驅(qū)動(dòng)閥門(mén)22a、22b、22c和22d的信號(hào)以致于液流基于多種參數(shù)引導(dǎo),所述參數(shù)包括(但不限于)來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的水質(zhì)、至使用場(chǎng)所18的水質(zhì)、至使用場(chǎng)所18的水需要量或數(shù)量、電去離子裝置12的操作效率或容量或者各種操作條件例如濁度、堿度、水電導(dǎo)率、pH、組成、溫度、壓力和流速中的任何一種。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,控制器26可接收來(lái)自傳感器28的信號(hào)以致于控制器26能夠監(jiān)測(cè)處理系統(tǒng)10的操作參數(shù)。例如,傳感器28可為安裝在蓄水系統(tǒng)14中的水電導(dǎo)率傳感器以致于蓄水系統(tǒng)14中的水電導(dǎo)率可通過(guò)控制器26監(jiān)測(cè)??刂破?6可基于通過(guò)傳感器28測(cè)量的水質(zhì)控制電源,后者可向電去離子裝置12提供電場(chǎng)。所以在操作中控制器26可增加或降低或者調(diào)節(jié)從電源24向例如電去離子裝置16供給的電壓和電流。
在仍然另一個(gè)實(shí)施方案中,本發(fā)明提供調(diào)節(jié)操作參數(shù)例如至排水口30的排放速率或排放期作為至少一種所測(cè)量參數(shù)例如系統(tǒng)操作壓力的函數(shù)。例如,圖1中的閥門(mén)(未顯示)驅(qū)動(dòng)向排水口30開(kāi)放的時(shí)間可基于所測(cè)量的供給使用場(chǎng)所18的液體壓力調(diào)節(jié)。在一些情況中,所述閥門(mén)可驅(qū)動(dòng)開(kāi)放以減小所測(cè)量的壓力或者當(dāng)所測(cè)量的壓力低于預(yù)定值時(shí)它可依閥門(mén)類型而定最小限度驅(qū)動(dòng)。這樣的副控制流程可引入或套用在驅(qū)動(dòng)以上描述的閥門(mén)的任何原有的控制回路中。
按照本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案,所述閥門(mén)可用作壓力控制回路的部件以及濃集物排放控制回路的部件。例如,當(dāng)所測(cè)量的濃集物液流的電導(dǎo)率達(dá)到設(shè)定值時(shí)所述閥門(mén)可由控制器26驅(qū)動(dòng)。加入所述閥門(mén)的單獨(dú)的壓力控制回路可添加或套用在原有的控制回路中以降低系統(tǒng)10的壓力。在任何以上提及的控制流程中,所述控制回路可加入反饋以及任何相稱的、派生的、積分的或優(yōu)選其組合。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,引導(dǎo)濃集物液流向排水口30排放的控制回路可具有嵌套的控制回路參數(shù),它根據(jù)傳遞至使用場(chǎng)所18的液體壓力因素提供控制信號(hào)。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,控制器26可按照預(yù)定的流程或按照操作條件例如水質(zhì)或任何其它操作參數(shù)反轉(zhuǎn)從電源向電去離子裝置12施加的電流方向。極性反轉(zhuǎn)已經(jīng)由例如Giuffrida等在美國(guó)專利4956071中描述。
控制器26可通過(guò)編制程序進(jìn)行配置或者可自動(dòng)調(diào)節(jié)以致于它能夠使處理系統(tǒng)10的使用壽命和效率達(dá)到最大或者減小處理系統(tǒng)10的操作成本。例如控制器26可包括具有用戶可選擇的設(shè)定值或自動(dòng)調(diào)節(jié)的設(shè)定值的微處理器,它調(diào)節(jié)向電化學(xué)裝置例如電去離子裝置施加的電壓和電流,通過(guò)電去離子裝置的濃集和消耗隔室的流速或從所述電去離子裝置或預(yù)處理系統(tǒng)或兩者向排水口30的排放速率。對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員將出現(xiàn)使用不多于常規(guī)實(shí)驗(yàn)方法的作為所公開(kāi)的處理系統(tǒng)的部件的所述控制器的其它改進(jìn)和等價(jià)物。例如,加入能夠基于多種輸入條件例如用水速率或用水時(shí)間改變操作參數(shù)的適配的、自動(dòng)調(diào)節(jié)或自診斷技術(shù)確信在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)。控制器26可加入不工作區(qū)控制以減少不穩(wěn)定的開(kāi)/關(guān)控制或振顫的可能。不工作區(qū)指?jìng)鞲衅魉峁┑臒o(wú)必要的啟動(dòng)應(yīng)答控制信號(hào)的信號(hào)輸出范圍。在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中所述不工作區(qū)可固有地存在于所述傳感器中或者可經(jīng)編制程序?yàn)樗隹刂葡到y(tǒng)的部分或者兩者兼而有之。不工作區(qū)控制可避免由于消除測(cè)量偏差引起的不必要的間歇操作。這樣的控制技術(shù)可延長(zhǎng)在處理系統(tǒng)10的組件損壞前的運(yùn)轉(zhuǎn)壽命或平均時(shí)間??墒褂玫钠渌夹g(shù)包括使用表決、時(shí)間平滑或時(shí)間平均測(cè)量或其組合。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案中,水(一般來(lái)自廢液流)對(duì)于輔助用途可供給或提供另外的或次級(jí)的益處。例如,未進(jìn)入排水口30的廢液流可用于向任何住宅、商業(yè)或工業(yè)用途提供沖洗水例如用于沖洗、用于循環(huán)或回收收集或濃集的鹽。
所述處理系統(tǒng)可包括流體回路,它可向所述電化學(xué)裝置的電極隔室提供已處理的或者在一些情況中為軟化的水。所述流體回路可包括從已處理的水源向電化學(xué)裝置的電極隔室的流體連通。所述流體回路也可包括預(yù)處理單元,例如可除去可干擾所述電化學(xué)裝置的操作的任何物質(zhì)例如氯的碳濾器。所述流體回路也可包括至例如所述預(yù)處理單元的下游的例如電去離子裝置的所述消耗和濃集隔室中的至少一個(gè)的流體連通。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中,所述流體回路連通提供連通以致于離開(kāi)電極隔室的流體可例如混合在一起或者與消耗隔室中的待處理的流體混合。所述流體回路也可包括可引導(dǎo)流體流至和流自電化學(xué)裝置以及流至和流自蓄水系統(tǒng)的泵和閥門(mén)。在一些情況中,所述流體回路經(jīng)排列以提供通過(guò)所述電去離子裝置的電極隔室形成平行流路的流體連通。在所述流體回路中的其它排列和配置認(rèn)為處于本發(fā)明的范圍內(nèi),包括例如從一個(gè)電極隔室向另一個(gè)的順序流路,使用單一、多個(gè)或?qū)S妙A(yù)處理單元以及多個(gè)或分級(jí)處理單元,包括(但不限于)反滲透、離子交換和電去離子裝置或其組合。
所述處理系統(tǒng)可包括從所述電去離子裝置的消耗隔室向至少一個(gè)電極隔室提供流體連通的流體回路。這樣的排列可向電極隔室提供凈化水,優(yōu)選具有低LSI的水。所述流體回路可排列以致于流體流路可以串聯(lián)或平行通過(guò)所述電極隔室。所述流體回路可另外包括流體連通以使離開(kāi)所述電極隔室的流體通過(guò)例如輸配水系統(tǒng)輸送至使用場(chǎng)所。在本發(fā)明的一些排列中,所述流體回路可包括流體連通以致于未處理的流體可與離開(kāi)任何電極隔室的流體混合;所述混合物可輸送至使用場(chǎng)所。在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案中,所述流體回路可另外包括至和自蓄水系統(tǒng)的流體連通以致于例如離開(kāi)消耗隔室的已處理的流體可輸送至蓄水系統(tǒng)并與來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)的未處理流體混合,所述混合物可輸送至使用場(chǎng)所和任選地以平行或串聯(lián)流路輸送至電去離子裝置的電極隔室。其它排列和組合包括例如混合已處理和未處理的水產(chǎn)生混合的電極隔室沖洗流體認(rèn)為處于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
本發(fā)明將通過(guò)以下實(shí)施例得到進(jìn)一步舉例說(shuō)明,所述實(shí)施例在本質(zhì)上是舉例說(shuō)明性的并且不打算限制本發(fā)明的范圍。
實(shí)施例裝配和評(píng)價(jià)了在圖4中圖解顯示的管線上的受壓處理系統(tǒng)。處理系統(tǒng)10包括電去離子組件12和受壓貯存容器14。來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的水通過(guò)入口58引入到受壓貯存容器14中,使用泵20a和20b并通過(guò)預(yù)處理單元24a與24b及電去離子裝置12循環(huán)。所述處理系統(tǒng)通過(guò)可編程控制器(未顯示)基于如通過(guò)傳感器28a、28b、28c和28d中任何一個(gè)測(cè)量的那樣測(cè)量的水電導(dǎo)率控制。
電去離子裝置12包括具有流路的10單元對(duì)堆積,所述流路為約7.5英寸長(zhǎng)和約2.5英寸寬。每一個(gè)單元填充約40%AMBERLITESF 120樹(shù)脂和約60%AMBERLITEIRA 458樹(shù)脂,兩者可得自Rohm & Haas Company,Philadelphia,Pennsylvania。所述電去離子裝置具有用氧化釕涂布的擴(kuò)大的鈦電極。
所述控制器為可得自Allen-Bradley Company,Inc.,Milwaukee,Wisconsin的MICROLOGIXTM1000可編程控制器。所述電去離子裝置設(shè)定通過(guò)流動(dòng)開(kāi)關(guān)信號(hào)或者當(dāng)離開(kāi)受壓容器的出口液流的水電導(dǎo)率高于設(shè)定值時(shí)起動(dòng)。所述電去離子裝置運(yùn)轉(zhuǎn)直到所述電導(dǎo)率達(dá)到設(shè)定值。來(lái)自所述電去離子裝置的原料通過(guò)第二進(jìn)料泵自受壓容器循環(huán)。施加到所述電去離子裝置的電場(chǎng)的極性約每15分鐘反轉(zhuǎn)。除了控制電去離子裝置12的組件,所述PLC收集、貯存和發(fā)送從傳感器28a、28b、28c和28d測(cè)量的數(shù)據(jù)。
受壓容器14為具有約30加侖容量的10英寸直徑玻璃纖維容器。受壓容器14裝配閥門(mén)頭和中心歧管管道。離開(kāi)電去離子裝置的濃集液流通過(guò)驅(qū)動(dòng)閥門(mén)22c、22d和22e部分循環(huán)和部分排泄至排水口30。來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的補(bǔ)充水輸送進(jìn)入循環(huán)液流以補(bǔ)償任何排泄至排水口30的水。
預(yù)處理單元24a和24b每一個(gè)包括具有25微米級(jí)的曝氣鐵濾器、20英寸×4英寸沉積濾器和20英寸×4英寸炭塊濾器。
在一個(gè)流向上,來(lái)自壓力容器14的水在引入到電去離子裝置12的消耗隔室之前通過(guò)泵20a,通過(guò)閥門(mén)22a泵送至預(yù)處理單元24a。來(lái)自電去離子裝置12的已處理的水由閥門(mén)22a引導(dǎo)貯存在壓力容器14中。收集除去的離子物質(zhì)的流體經(jīng)泵20b通過(guò)預(yù)處理單元24b和經(jīng)驅(qū)動(dòng)閥門(mén)22d和22b通過(guò)電去離子裝置12的濃集和電極隔室而循環(huán)。當(dāng)所施加的電場(chǎng)極性反轉(zhuǎn)時(shí),流向相應(yīng)調(diào)整以致于泵20a、預(yù)處理單元24a和閥門(mén)22a使積聚離子物質(zhì)的液體循環(huán)。類似地,待處理的水在引入并在電去離子裝置12的消耗隔室中處理之前采用泵20b通過(guò)閥門(mén)22d從壓力容器14泵送至預(yù)處理單元24b。已處理的水通過(guò)閥門(mén)22d引導(dǎo)至壓力容器14。
如通過(guò)流量指示器28c測(cè)量的已處理的水從受壓容器14的出口60至使用場(chǎng)所18的流速通過(guò)調(diào)節(jié)閥門(mén)22f和22g調(diào)整。為了排放濃集物或廢液流,必要時(shí)操作閥門(mén)22e。來(lái)自進(jìn)入點(diǎn)16的水用于恢復(fù)和置換排泄至排放口30或在使用場(chǎng)所18消耗的流體。
所述處理系統(tǒng)運(yùn)轉(zhuǎn)直到達(dá)到約220μS/cm的目標(biāo)設(shè)定值并穩(wěn)定約1分鐘。施加到所述電去離子裝置的電壓為約46伏特。進(jìn)入所述消耗和濃集隔室的流速維持為約4.4升/分鐘。排放流速被控制在排水量為約270ml約每30秒。容器中的壓力為約15psig-約20psig。
圖5顯示所測(cè)量的處理系統(tǒng)中各種流的電導(dǎo)率作為運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間的函數(shù)。表1和2概述了分別在實(shí)驗(yàn)開(kāi)始和結(jié)束時(shí)測(cè)量的處理系統(tǒng)中各種流的性質(zhì)。在表1中呈現(xiàn)的數(shù)據(jù)顯示進(jìn)入電去離子裝置12的初始進(jìn)料流(在圖5中標(biāo)示為槽出口(tankout)電導(dǎo)率,具有約412μS/cm的電導(dǎo)率)經(jīng)處理產(chǎn)生初始稀釋流(在圖5中標(biāo)示為堆出口(stackout)電導(dǎo)率,具有約312μS/cm的電導(dǎo)率)而pH無(wú)實(shí)質(zhì)變化。類似地,在實(shí)驗(yàn)運(yùn)行結(jié)束時(shí),具有約221μS/cm電導(dǎo)率的水經(jīng)處理產(chǎn)生具有約164μS/cm低電導(dǎo)率的水,pH無(wú)實(shí)質(zhì)變化。確信在實(shí)驗(yàn)運(yùn)行結(jié)束時(shí)進(jìn)料流的低電導(dǎo)率反映了循環(huán)的作用,所述循環(huán)經(jīng)幾個(gè)途徑有效除去不合需要的物質(zhì)。因此,數(shù)據(jù)顯示在圖4中圖解說(shuō)明的系統(tǒng)可處理或軟化水以適合于家用或住宅使用。
表1.實(shí)驗(yàn)運(yùn)行開(kāi)始時(shí)的物流性質(zhì)
表2.實(shí)驗(yàn)運(yùn)行結(jié)束時(shí)的物流性質(zhì)
本發(fā)明已經(jīng)描述了使用水作為液體但是不應(yīng)限制于此。例如,當(dāng)參照為處理的水時(shí),確信用所述系統(tǒng)或按照本發(fā)明方法可處理其它液體。另外,當(dāng)參照為對(duì)水或水性質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié)、改進(jìn)、測(cè)量或操作的所述系統(tǒng)的組件或本發(fā)明方法的步驟時(shí),確信本發(fā)明也是適用的。因此,待處理的流體可以是為包含水的混合物的流體。因此,所述流體可為包含水的液體。
本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)易于意識(shí)到在此描述的所有參數(shù)和配置意指例證性的,實(shí)際的參數(shù)和配置將依本發(fā)明系統(tǒng)和方法使用的具體用途而定。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)認(rèn)識(shí)到或使用不多于常規(guī)實(shí)驗(yàn)方法能夠確定在此描述的本發(fā)明具體實(shí)施方案的許多等價(jià)物。例如,本發(fā)明包括使用其它單元操作例如(但不限于)反滲透和紫外裝置。因此應(yīng)該理解另外的實(shí)施方案僅通過(guò)實(shí)施例呈現(xiàn),在附加權(quán)利要求和其等價(jià)物的范圍內(nèi),本發(fā)明可如具體描述的那樣實(shí)施。本發(fā)明涉及在此描述的各個(gè)特征、系統(tǒng)或方法。另外,只要這樣的特征、系統(tǒng)或方法不是相互不一致的,兩種或更多種這樣的特征、系統(tǒng)或方法的任何組合包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)包括包含第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置;流體連通第一隔室入口和第一泵的第一液體回路;流體連通第二隔室出口與第二隔室入口及第二泵的第二液體回路;和流體連通第二隔室入口與第二泵的第三液體回路。
2.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于第一泵的第一濾器裝置。
3.權(quán)利要求2的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于第二泵的第二濾器裝置。
4.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于儲(chǔ)水器的進(jìn)入點(diǎn)。
5.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于儲(chǔ)水器的輸配水系統(tǒng)。
6.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于儲(chǔ)水器的使用場(chǎng)所。
7.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括測(cè)量所述處理系統(tǒng)的至少一種操作參數(shù)的傳感器。
8.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通儲(chǔ)水器至第一隔室入口和第一隔室出口至第二隔室入口的第四液體回路。
9.權(quán)利要求1的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通電化學(xué)裝置下游和使用場(chǎng)所上游的后處理系統(tǒng)。
10.一種處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)包括包含含有第一隔室出口和第一隔室入口的第一隔室和含有第二隔室出口和第二隔室入口的第二隔室的電化學(xué)裝置,所述電化學(xué)裝置流體連通于進(jìn)入點(diǎn);可流體連通于所述第一隔室出口與第一隔室入口的第一泵;可流體連通于所述第二隔室出口與第二隔室入口的第二泵;和可流體連通于所述第一或第二隔室出口的至少一個(gè)的循環(huán)管路。
11.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),其中所述循環(huán)管路可流體連通于所述第一和第二泵的至少一個(gè)。
12.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括使所述循環(huán)管路流體連通于第一泵的第一閥門(mén)。
13.權(quán)利要求12的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括使所述循環(huán)管路流體連通于第二泵的第二閥門(mén)。
14.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括使所述第一隔室出口流體連通于所述循環(huán)管路的第一閥門(mén)。
15.權(quán)利要求14的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括使所述第二隔室出口流體連通于所述循環(huán)管路的第二閥門(mén)。
16.權(quán)利要求15的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括驅(qū)動(dòng)所述第一和第二閥門(mén)的至少一個(gè)的控制器。
17.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括測(cè)量所述處理系統(tǒng)的至少一種操作參數(shù)的傳感器。
18.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括流體連通于進(jìn)入點(diǎn)的儲(chǔ)水器和流體連通于所述儲(chǔ)水器的輸配水系統(tǒng)。
19.權(quán)利要求10的處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)另外包括可流體連通于所述電化學(xué)裝置、循環(huán)管路、第一泵和第二泵中至少一個(gè)的消毒劑源。
20.一種處理液體的方法,所述方法包括形成使待處理的液體自儲(chǔ)器通過(guò)第一泵流向電化學(xué)裝置的第一隔室入口的第一液體回路;形成使?jié)饧囊后w自所述電化學(xué)裝置的第二隔室出口通過(guò)第二泵流向第二隔室入口的第二液體回路;和形成使待處理的液體自儲(chǔ)器通過(guò)第二泵流向第二隔室入口的第三液體回路。
21.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括形成使?jié)饧后w自第一隔室出口通過(guò)第一泵流向第一隔室入口的第四液體回路。
22.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括跨過(guò)所述電化學(xué)裝置施加電場(chǎng)。
23.權(quán)利要求22的方法,所述方法另外包括在形成第三液體回路后使施加的電場(chǎng)的極性反轉(zhuǎn)。
24.權(quán)利要求20的方法,其中形成第三液體回路包括驅(qū)動(dòng)第一閥門(mén)以引導(dǎo)待處理的液體流動(dòng)通過(guò)第二泵。
25.權(quán)利要求24的方法,所述方法另外包括驅(qū)動(dòng)第二閥門(mén)以引導(dǎo)濃集液體流動(dòng)通過(guò)第一泵。
26.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括測(cè)量所述液體的壓力、溫度、流速、pH、電導(dǎo)率和組成的至少一項(xiàng)。
27.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括用已處理的液體沖洗所述第一和第二隔室。
28.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括用已處理的液體沖洗所述第一和第二泵的至少一個(gè)。
29.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括形成使來(lái)自儲(chǔ)器的液體從所述儲(chǔ)器通過(guò)第一和第二泵流向第一和第二隔室的第四液體回路。
30.權(quán)利要求29的方法,其中來(lái)自所述儲(chǔ)器的液體具有負(fù)LSI。
31.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括向使用場(chǎng)所輸送至少一部分已處理的液體。
32.權(quán)利要求31的方法,所述方法另外包括在向使用場(chǎng)所輸送已處理的液體之前后處理所述已處理的液體。
33.權(quán)利要求20的方法,所述方法另外包括消毒至少一部分所述第一液體回路、第二液體回路和第三液體回路中任何一個(gè)的任何組件。
34.一種處理水的方法,所述方法包括使至少一部分待處理的水經(jīng)第一泵通過(guò)電化學(xué)裝置的消耗隔室產(chǎn)生已處理的水;使?jié)饧毫鹘?jīng)第二泵通過(guò)所述電化學(xué)裝置的濃集隔室循環(huán);和使?jié)饧毫鹘?jīng)第一泵通過(guò)濃集隔室循環(huán)。
35.權(quán)利要求34的方法,所述方法另外包括使至少一部分待處理的水通過(guò)所述第二泵。
36.權(quán)利要求34的方法,所述方法另外包括沖洗第一隔室同時(shí)沖洗第二隔室。
37.權(quán)利要求34的方法,所述方法另外包括用已處理的水順序沖洗所述第一和第二隔室與所述第一和第二泵。
38.權(quán)利要求34的方法,所述方法另外包括使來(lái)自儲(chǔ)器的水在使水通過(guò)所述第二隔室后通過(guò)第一隔室。
39.一種處理水的方法,所述方法包括使待處理的水通過(guò)電化學(xué)裝置產(chǎn)生已處理的水;在儲(chǔ)水器中儲(chǔ)存至少一部分已處理的水;用已處理的水沖洗所述電化學(xué)裝置的濃集隔室。
40.權(quán)利要求39的方法,其中已處理的水具有負(fù)LSI。
41.權(quán)利要求39的方法,所述方法另外包括沖洗所述消耗隔室。
42.權(quán)利要求41的方法,其中沖洗所述消耗隔室在沖洗所述濃集隔室期間進(jìn)行。
43.權(quán)利要求39的方法,其中沖洗所述第一隔室和第二隔室包括順序沖洗所述第一和第二隔室。
44.權(quán)利要求39的方法,其中沖洗所述第一隔室和第二隔室包括用已處理的水以平行流動(dòng)沖洗所述第一和第二隔室。
45.權(quán)利要求39的方法,其中沖洗所述第一隔室和第二隔室包括用已處理的水以串流沖洗所述第一和第二隔室。
46.權(quán)利要求39的方法,所述方法另外包括使已處理的水暴露于光化輻射或臭氧。
47.權(quán)利要求39的方法,所述方法另外包括使已處理的水通過(guò)微孔過(guò)濾或超濾裝置。
48.權(quán)利要求39的方法,所述方法另外包括使消毒劑暴露于電化學(xué)裝置和儲(chǔ)水器的至少一個(gè)。
49.一種便于水凈化的方法,所述方法包括提供包含第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置;提供可流體連通于儲(chǔ)水器、第一隔室出口和第一隔室入口的至少一個(gè)的第一泵;提供可流體連通于儲(chǔ)水器、第二隔室出口和第二隔室入口的至少一個(gè)的第二泵;提供可流體連通于所述第一和第二隔室出口的至少一個(gè)的循環(huán)管路。
50.一種處理系統(tǒng),所述處理系統(tǒng)包括包含第一隔室和第二隔室的電化學(xué)裝置;用于使待處理的液體從儲(chǔ)水器流動(dòng)通過(guò)第一隔室和使?jié)饧和ㄟ^(guò)第二隔室循環(huán)的裝置;和用于使待處理的液體從儲(chǔ)水器流動(dòng)通過(guò)第二隔室和使?jié)饧和ㄟ^(guò)第一隔室循環(huán)的裝置。
51.權(quán)利要求50的處理系統(tǒng),其中所述電化學(xué)裝置包括電去離子裝置。
全文摘要
一種處理系統(tǒng)通過(guò)除去至少一部分包含在來(lái)自水源的水中的任何不合需要的物質(zhì)向使用場(chǎng)所提供已處理的水或軟化水。所述處理系統(tǒng)可操作以減少形成可在電化學(xué)裝置的正常操作期間產(chǎn)生的任何結(jié)垢的可能。在所述處理系統(tǒng)包括它的潤(rùn)濕組件中結(jié)垢的形成可通過(guò)反向具有引起硬度物質(zhì)的流動(dòng)液體或用具有低的產(chǎn)生結(jié)垢趨勢(shì)的另一種液體例如低LSI水置換具有引起硬度物質(zhì)的流動(dòng)液體得到抑制。在所述處理系統(tǒng)中組件的各種排列可通過(guò)引導(dǎo)所述系統(tǒng)的閥門(mén)和泵以用具有很小或沒(méi)有形成結(jié)垢趨勢(shì)的液體置換具有引起硬度物質(zhì)的液體而沖洗。
文檔編號(hào)B01J47/06GK1902135SQ200480040141
公開(kāi)日2007年1月24日 申請(qǐng)日期2004年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2003年11月13日
發(fā)明者A·D·亞, F·維爾金斯, E·弗雷迪納, A·塞吉, R·馬胡蘇丹 申請(qǐng)人:美國(guó)過(guò)濾器公司
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