本公開涉及水處理領(lǐng)域，更具體而言，涉及一種凈水裝置。

背景技術(shù)：

1、在河道、湖泊、水庫等水體中，底泥中的流泥和淤泥對(duì)環(huán)境影響最大，是河道內(nèi)源污染的源頭。底泥洗脫技術(shù)通常包括物理洗脫、化學(xué)洗脫和生物洗脫。采用離心機(jī)是常用的物理洗脫方法，但是離心機(jī)進(jìn)行泥漿分離效果不佳，而自然沉淀效率太低。

2、底泥洗脫裝置主要由船體和與船體一體運(yùn)行的水下作業(yè)部分構(gòu)成。為了處理底泥，船體需要頻繁移動(dòng)，絮凝分離和自然沉淀效果比較差。此外，進(jìn)行泥水分離之后的底泥需要暫時(shí)保存在船體中，因此船體需要較高的載荷，不適合在例如城市內(nèi)河、城市景觀等較窄的水域內(nèi)作業(yè)，同時(shí)需要的耗能大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了解決上述技術(shù)問題中的至少之一，根據(jù)本公開的一方面，提供了一種凈水裝置，其包括混凝劑投加單元、絮凝混合反應(yīng)單元、分離沉淀單元和排泥單元，所述混凝劑投加單元儲(chǔ)存藥劑；所述絮凝混合反應(yīng)單元與所述混凝劑投加單元和輸送泥水混合物的管道連通，其包括反應(yīng)管路；所述分離沉淀單元包括粗沉淀區(qū)和細(xì)沉淀區(qū)，粗沉淀區(qū)包括導(dǎo)流單元以及在導(dǎo)流單元下方設(shè)置的排放管；細(xì)沉淀區(qū)包括具有多個(gè)分離管的分離沉淀區(qū)和設(shè)置在分離沉淀區(qū)下方的收集污泥的收集區(qū)；所述排泥單元與所述收集區(qū)連通，將污泥排出所述凈水裝置。凈水裝置可以通過粗沉淀區(qū)實(shí)現(xiàn)砂石與污泥的分離，將砂石排回河道，一方面有利于保留河床的生態(tài)環(huán)境，另一方面可以保證后續(xù)污泥脫水裝置的安全運(yùn)行。凈水裝置還可以通過細(xì)沉淀區(qū)實(shí)現(xiàn)水體與污泥的初步分離，對(duì)泥水進(jìn)行一定程度的脫水處理。

2、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述粗沉淀區(qū)的導(dǎo)流單元包括從上到下交錯(cuò)設(shè)置的傾斜向下的多個(gè)導(dǎo)流板。交錯(cuò)設(shè)置并且向下傾斜的導(dǎo)流板可以減緩水流速度，有助于砂石等比重較大的物質(zhì)沿著導(dǎo)流板向下沉淀。

3、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述多個(gè)導(dǎo)流板與其所安裝的腔壁之間的角度和所述多個(gè)導(dǎo)流板與其各自延伸方向上的相鄰的腔壁之間的水平距離隨著水流方向逐漸增加。增大的角度使得導(dǎo)流板上的物質(zhì)更容易滑落，增加水平距離使得水流通道的面積逐漸增大，流速逐漸減慢，由此在兩者的作用下有利于不同物質(zhì)的分離。

4、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述細(xì)沉淀區(qū)的分離沉淀區(qū)還包括多個(gè)滑泥槽，在相鄰的滑泥槽之間設(shè)置所述多個(gè)分離管，每個(gè)分離管的下部具有與所述滑泥槽連通的分離口，所述多個(gè)分離管處于水平方向。進(jìn)水通道的截面區(qū)域布置有多個(gè)小型的分離管，使得水流面積大，流速緩慢，各分離管內(nèi)水流相互獨(dú)立，互相不影響，泥水通過單個(gè)分離管更容易分離，分離效率較高。污泥通過分離口，掉落在滑泥槽，實(shí)現(xiàn)泥水分離。

5、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述粗沉淀區(qū)和所述細(xì)沉淀區(qū)設(shè)置在同一高度，水流從所述粗沉淀區(qū)經(jīng)由同程布水的方式流入所述細(xì)沉淀區(qū)。同程布水的方式使得水流更加均勻，提高泥水分離的效果。

6、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述反應(yīng)管路的至少一部分設(shè)置在所述凈水裝置的下部，沿著所述凈水裝置的長度方向設(shè)置并且多次彎折變向。在凈水裝置有限的空間內(nèi)，反應(yīng)管路通過彎折變向延長了管路長度，延長了絮凝反應(yīng)的時(shí)間，提高了絮凝效果。

7、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述排泥單元包括排泥泵、多個(gè)排泥管道和與每個(gè)排泥管道對(duì)應(yīng)的排泥閥，排泥閥輪流開啟，并且排泥單元還包括連接到絮凝混合反應(yīng)單元的管道。通過多個(gè)排泥管道以及輪流開啟排泥閥可以使得收集區(qū)中的每個(gè)收集斗具有一定的污泥收集時(shí)間，進(jìn)一步降低污泥的含水率。此外，為了提高絮凝速度，還可以將排泥單元排出的少量污泥回流至絮凝混合反應(yīng)單元，以增加絮體數(shù)量。

8、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述分離沉淀單元還包括排水區(qū)，其包括由多個(gè)隔板形成的s形水流通道。這樣設(shè)置的水流通道可以延緩水流流速，增加分離沉淀區(qū)的處理時(shí)間。

9、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述凈水裝置安裝在船體上。凈水裝置可以實(shí)現(xiàn)浮動(dòng)操控平臺(tái)的功能，可以配合水下清淤裝置的工作在水面上作業(yè)，工作人員也可以監(jiān)督及操控水下清淤裝置的運(yùn)行，及時(shí)處理突發(fā)情況。

10、根據(jù)本公開的一方面的凈水裝置，可選地，所述混凝劑投加單元包括藥筒、計(jì)量泵和閥門。

11、本實(shí)用新型的凈水裝置，能在有限尺寸的船體上實(shí)現(xiàn)較高的泥水分離效率，用于各種水體的底泥處理。

12、實(shí)施本公開的任一裝置并不一定需要同時(shí)達(dá)到以上所述的所有優(yōu)點(diǎn)。本公開的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書實(shí)施例中闡述，并且，部分地從說明書實(shí)施例中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本公開而了解。本公開實(shí)施例的目的和優(yōu)點(diǎn)可通過在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。

技術(shù)特征：

1.一種凈水裝置，其特征在于，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述粗沉淀區(qū)的導(dǎo)流單元包括從上到下交錯(cuò)設(shè)置的傾斜向下的多個(gè)導(dǎo)流板。

3.如權(quán)利要求2所述的凈水裝置，其特征在于所述多個(gè)導(dǎo)流板與其所安裝的腔壁之間的角度和所述多個(gè)導(dǎo)流板與其各自延伸方向上的相鄰的腔壁之間的水平距離隨著水流方向逐漸增加。

4.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述細(xì)沉淀區(qū)的分離沉淀區(qū)還包括多個(gè)滑泥槽，在相鄰的滑泥槽之間設(shè)置所述多個(gè)分離管，每個(gè)分離管的下部具有與所述滑泥槽連通的分離口，所述多個(gè)分離管處于水平方向。

5.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述粗沉淀區(qū)和所述細(xì)沉淀區(qū)設(shè)置在同一高度，水流從所述粗沉淀區(qū)經(jīng)由同程布水的方式流入所述細(xì)沉淀區(qū)。

6.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述反應(yīng)管路的至少一部分設(shè)置在所述凈水裝置的下部，沿著所述凈水裝置的長度方向設(shè)置并且多次彎折變向。

7.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述排泥單元包括排泥泵、多個(gè)排泥管道和與每個(gè)排泥管道對(duì)應(yīng)的排泥閥，排泥閥輪流開啟，并且排泥單元還包括連接到絮凝混合反應(yīng)單元的管道。

8.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述分離沉淀單元還包括排水區(qū)，其包括由多個(gè)隔板形成的s形水流通道。

9.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述凈水裝置安裝在船體上。

10.如權(quán)利要求1所述的凈水裝置，其特征在于所述混凝劑投加單元包括藥筒、計(jì)量泵和閥門。

技術(shù)總結(jié)
根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例，提供了一種凈水裝置，其包括混凝劑投加單元、絮凝混合反應(yīng)單元、分離沉淀單元和排泥單元，該混凝劑投加單元儲(chǔ)存藥劑；絮凝混合反應(yīng)單元與混凝劑投加單元和輸送泥水混合物的管道連通，其包括混合器和與混合器連接的反應(yīng)管路；分離沉淀單元包括粗沉淀區(qū)和細(xì)沉淀區(qū)，該粗沉淀區(qū)包括導(dǎo)流單元以及在導(dǎo)流單元下方設(shè)置的排放管；該細(xì)沉淀區(qū)包括進(jìn)水通道、包括多個(gè)分離管的分離沉淀區(qū)、排水區(qū)和設(shè)置在分離沉淀區(qū)下方的收集污泥的收集區(qū)；所述排泥單元與所述收集區(qū)連通，將污泥排出所述凈水裝置。凈水裝置可以將河道底泥中的砂石、污泥和水進(jìn)行分離，有利于保留河床的生態(tài)環(huán)境，同時(shí)對(duì)泥水進(jìn)行一定的脫水處理。

技術(shù)研發(fā)人員：王玉峰,許元敏,黃麗華,呂穎哲,張亞偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京天河水環(huán)境科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240522
技術(shù)公布日：2025/1/9