專利名稱：一種高溫爐管氣隔斷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氣氛隔斷裝置，具體涉及一種用于高溫爐馬弗爐管的氣 氛隔斷裝置。
背景技術(shù)：
在可閥合金管殼的氧化工藝和銅電極漿料的燒結(jié)工藝中，用戶要求產(chǎn)品在 極低的氧含量下進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)。該工藝過去通常在石英管式爐內(nèi)完成但效率低， 為滿足批量化生產(chǎn)要求制造商需要開發(fā)出某一區(qū)域能獲得極低的氧含量的氮?dú)?保護(hù)網(wǎng)帶爐。目前網(wǎng)帶爐生產(chǎn)廠家提出了多種解決方案，典型的解決方式有兩種 結(jié)構(gòu)，其一，是在爐膛馬弗爐管內(nèi)需要低氧含量的某區(qū)域均勻地布置幾根耐熱鋼 氮?dú)膺M(jìn)氣管，并在進(jìn)氣管上做出許多小孔，氮?dú)鈬娤蛟搮^(qū)域形成局部正壓，將該 區(qū)域的氧氣趕走。早期應(yīng)用到VFD領(lǐng)域的封接爐大都采用該結(jié)構(gòu)，但實(shí)驗(yàn)下來 發(fā)現(xiàn)爐膛內(nèi)的某區(qū)域最低氧含量只能到達(dá)10-20ppm。其二，是在爐膛馬弗爐管 內(nèi)需要低氧含量的某區(qū)域布置一根其上做出許多小孔的耐熱鋼氮?dú)膺M(jìn)氣管，并在 該區(qū)域的兩端各布置一個(gè)氣幕形成氣隔斷阻斷其相鄰區(qū)域的氧氣進(jìn)入。該結(jié)構(gòu)應(yīng) 用到了可閥合金管殼氧化工藝的氧化爐中，基本上能滿足產(chǎn)品的低氧燒結(jié)工藝要 求，爐膛馬弗爐管內(nèi)的某一區(qū)域氧含量可達(dá)5ppm。上述兩種結(jié)構(gòu)中的第二種比 第一種好，但都有共同的缺點(diǎn)無法阻隔網(wǎng)帶連續(xù)進(jìn)入爐膛時(shí)工件和網(wǎng)帶帶入爐 內(nèi)的氧含量，不易做到相鄰區(qū)域氣氛氧含量的相互獨(dú)立。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，設(shè)計(jì)開發(fā)出了一種能有效地防止氣氛網(wǎng)帶 爐進(jìn)出口的空氣帶入到需要低氧含量的馬弗爐管區(qū)域內(nèi)，也能容易地在馬弗爐管 內(nèi)的相鄰各區(qū)域獲得各自不同氧含量要求的高溫爐管氣隔斷裝置。
本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種高溫爐管氣隔斷裝置，包括在馬弗爐管高溫區(qū)的兩端上設(shè)有氣幕進(jìn)氣 管，在所述馬弗爐管的下端，與氣幕進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)處設(shè)有與馬弗爐管相連通的氣幕 排氣管；在所述氣幕排氣管相鄰內(nèi)側(cè)，與馬弗爐管連通內(nèi)排氣管。
一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述的馬弗爐管的下端，與氣幕進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)處設(shè) 有凹槽，所述的氣幕排氣管與凹槽相連通。
一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述氣幕排氣管相鄰內(nèi)側(cè)，馬弗爐管的下端設(shè)有 凹槽，所述內(nèi)排氣管與凹槽連通。
一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述的氣幕排氣管或內(nèi)排氣管在排氣口的另一端 設(shè)有文氏管效應(yīng)的助排進(jìn)氣管。
一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述氣幕排氣管或內(nèi)排氣管在排氣口的一端設(shè)有 調(diào)節(jié)風(fēng)門。
一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述凹槽為氣室。 一種高溫爐管氣隔斷裝置，所述的氣室為集氣盒。
本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是由于在耐熱鋼馬弗爐管內(nèi)設(shè)置有 四根排氣管，有效地阻斷了網(wǎng)帶爐進(jìn)出口帶入爐管內(nèi)的空氣并阻隔了相鄰區(qū)域之 間的氣氛干擾。同時(shí)使用戶產(chǎn)品要求實(shí)現(xiàn)相鄰溫區(qū)之間氧含量的凸變成為可能， 實(shí)現(xiàn)氧含量的實(shí)時(shí)曲線控制。該技術(shù)可以廣泛地應(yīng)用于對(duì)高溫網(wǎng)帶爐內(nèi)有較低氧 含量曲線要求的氮?dú)夥毡Ｗo(hù)網(wǎng)帶爐中。四根排氣管的底部都設(shè)置有文氏管效應(yīng)的 助排氣管，通過調(diào)節(jié)助排氣管開度大小可以改變排氣管底部形成的負(fù)壓大小，從 而方便地調(diào)節(jié)四根排氣管內(nèi)的氣氛抽速大小，可以控制氧含量的多少。通過調(diào)節(jié) 調(diào)節(jié)風(fēng)門也可以控制氧含量的多少。


圖l為結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2為圖1的A—A剖視圖。 圖3為圖2的B處放大圖。 圖4為圖1的C-C剖視圖。
具體實(shí)施方式
4參見圖1、 2、 3、 4所示。
本實(shí)用新型在馬弗爐管1高溫區(qū)的兩端上設(shè)有氣幕進(jìn)氣管5，在馬弗爐管1 的下端，與氣幕進(jìn)氣管5對(duì)應(yīng)處設(shè)有氣幕集氣盒3，氣幕排氣管2與氣幕集氣盒 3相連通。氣幕排氣管2相鄰內(nèi)側(cè)，馬弗爐管l的下端設(shè)有內(nèi)排氣集氣盒6，內(nèi) 排氣管4與內(nèi)排氣集氣盒6連通。氣幕排氣管2和內(nèi)排氣管4在排氣口的一端設(shè) 有調(diào)節(jié)風(fēng)門8。氣幕排氣管2和內(nèi)排氣管4在排氣口的另一端設(shè)有文氏管效應(yīng)的 助排進(jìn)氣管7。
阿帶式加熱爐膛內(nèi)的耐熱馬弗爐管1在網(wǎng)帶運(yùn)行長度方向可以分成預(yù)熱區(qū)、 高溫區(qū)、降溫區(qū)，產(chǎn)品工藝要求在這三個(gè)區(qū)域內(nèi)能獲得不同的氧含量，而且高溫 區(qū)的氧含量要低于5ppm。在高溫區(qū)的兩端均設(shè)有氣幕進(jìn)氣管5，形成二處由上 向下噴的高速氮?dú)饽?，阻擋了相鄰區(qū)域的氣氛干擾，由上向下噴的高速氮?dú)馔ㄟ^ 氣幕集氣盒3聚集再從氣幕排氣管2排向爐外，不對(duì)相鄰區(qū)域的氣氛產(chǎn)生干擾； 從進(jìn)出口帶入爐膛馬弗爐管1內(nèi)的空氣也從這兩個(gè)氣幕排氣管2中排向爐外，不 能進(jìn)入高溫區(qū)。爐膛高溫區(qū)的殘留空氣和工藝燒結(jié)產(chǎn)生的廢氣可進(jìn)入內(nèi)排氣集氣 盒6聚集，再從與內(nèi)排氣集氣盒6相連通的內(nèi)排氣管4中排出爐外。四根排氣管 的底部都設(shè)置有文氏管效應(yīng)的助排氣管7，通過調(diào)節(jié)助排氣管7開度大小可以改 變排氣管底部形成的負(fù)壓大小，從而方便地調(diào)節(jié)四根排氣管內(nèi)的氣氛抽速大小。
權(quán)利要求1、一種高溫爐管氣隔斷裝置，包括在馬弗爐管高溫區(qū)的兩端上設(shè)有氣幕進(jìn)氣管，其特征在于在所述馬弗爐管的下端，與氣幕進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)處設(shè)有與馬弗爐管相連通的氣幕排氣管；在所述氣幕排氣管相鄰內(nèi)側(cè)，與馬弗爐管連通內(nèi)排氣管。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述的馬弗爐 管的下端，與氣幕進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)處設(shè)有凹槽，所述的氣幕排氣管與凹槽相連通。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述氣幕排氣 管相鄰內(nèi)側(cè)，馬弗爐管的下端設(shè)有凹槽，所述內(nèi)排氣管與凹槽連通。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述 的氣幕排氣管或內(nèi)排氣管在排氣口的另一端設(shè)有文氏管效應(yīng)的助排進(jìn)氣管。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述 氣幕排氣管或內(nèi)排氣管在排氣口的一端設(shè)有調(diào)節(jié)風(fēng)門。
6、 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述凹槽 為氣室。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高溫爐管氣隔斷裝置，其特征在于所述的氣室為~X品.°
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種高溫爐管氣隔斷裝置，在馬弗爐管高溫區(qū)的兩端上設(shè)有氣幕進(jìn)氣管，在馬弗爐管的下端，與氣幕進(jìn)氣管對(duì)應(yīng)處設(shè)有氣幕集氣盒，氣幕排氣管與氣幕集氣盒相連通。氣幕排氣管相鄰內(nèi)側(cè)，馬弗爐管的下端設(shè)有內(nèi)排氣集氣盒，內(nèi)排氣管與內(nèi)排氣集氣盒連通。氣幕排氣管和內(nèi)排氣管在排氣口的一端設(shè)有調(diào)節(jié)風(fēng)門。氣幕排氣管和內(nèi)排氣管在排氣口的另一端設(shè)有文氏管效應(yīng)的助排進(jìn)氣管。本實(shí)用新型能有效地防止氣氛網(wǎng)帶爐進(jìn)出口的空氣帶入到需要低氧含量的馬弗爐管區(qū)域內(nèi)，也能容易地在馬弗爐管內(nèi)的相鄰各區(qū)域獲得各自不同氧含量要求的高溫爐管氣隔斷裝置。
文檔編號(hào)F27B5/16GK201331256SQ20082019952
公開日2009年10月21日 申請(qǐng)日期2008年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月15日
發(fā)明者石金林 申請(qǐng)人:合肥恒力電子技術(shù)開發(fā)公司