專利名稱：一種制造用于產(chǎn)生光學(xué)表面的模型的方法、一種生產(chǎn)隱形眼鏡的方法和一種供這些方法 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造用于生產(chǎn)定制的光學(xué)表面的模型的方法，由此修改具有基本形狀的模型以獲得所需模型表面的形狀。本發(fā)明還涉及一種使用組合(composed)的這樣的模型生產(chǎn)定制的隱形眼鏡(contact lens)的方法以及涉及一種供這些方法使用的設(shè)備。
光學(xué)表面應(yīng)該理解為是指光學(xué)元件(例如透鏡)的表面，該表面改變通過表面的輻射光束的波前。定制的光學(xué)表面應(yīng)該理解為是指為一特定目的或為一特定用戶(例如眼鏡或隱形眼鏡佩戴者)而特別設(shè)計的表面。
一種制造隱形眼鏡的常規(guī)方法使用一個組合模型(composedmould)并且在具有凹入模型表面的第一模型部分和具有凸起模型表面的第二模型部分之間固化UV硬化聚合體。這種模型通常是由塑料材料制造的。該塑料模型是用金屬鑄模通過注射模塑法來實現(xiàn)的。
隱形眼鏡具有一個凹入表面，它鄰接人眼并且因此被稱為基面；以及一個凸起表面，它被稱為前表面。這種隱形眼鏡應(yīng)校正人眼的a/o球面和圓柱像差。校正的程度隨不同的眼睛而變化。因此，常規(guī)的制造方法需要大量預(yù)定的模型形狀以從中選擇以便獲得期望的眼睛校正。另外，除了校正球面和圓柱像差之外，還期望校正較高階像差，由此實際上必須制造定制的透鏡，即僅僅適合于一個人的透鏡。制造定制的透鏡需要特殊定制的模型并且該模型僅僅用于為這個人制造多個透鏡。
通過修改具有基本形狀的模型獲得一個用于制造定制的隱形眼鏡的模型，即定制模型。基本形狀應(yīng)該理解為是指在某一程度上接近所需定制形狀的形狀，以便僅僅需要有限修改來獲得所需的形狀。從有限數(shù)目的標(biāo)準(zhǔn)模型中選擇具有基本形狀的模型，該標(biāo)準(zhǔn)模型是以常規(guī)的方法生產(chǎn)的，例如用金屬鑄模通過注射模塑法。組合模型的修改包括修改一個或兩個表面(即分別為凹入表面和凸起表面)的形狀，在隱形眼鏡的模型處理期間每個表面鄰接隱形透鏡的不同表面。
通過機械地移除模型材料執(zhí)行所述表面的修改。然而，這是一種耗時的方法。而且，模型表面的機械區(qū)域必須經(jīng)歷拋光(finishing)操作以獲得所需模型的光滑表面。在WO02/0559169公開的另一種表面修改的方法是基于在模型操作期間在受控條件下下垂(sagging)停留在單獨可控的執(zhí)行結(jié)構(gòu)的陣列上的模型表面，使模型表面變形為期望的形狀。這個方法需要一個復(fù)雜的設(shè)備，特別是在需要詳細(xì)修改的情況下。
本發(fā)明的一個目的是提供一種制造用于生產(chǎn)定制的光學(xué)表面的模型的相對簡單便宜的方法。這個方法的特征在于使用光刻方法，包括以下步驟-提供模型表面光致抗蝕劑層；-在預(yù)定時間期間將光致抗蝕劑層曝光于曝光輻射的預(yù)定圖案；以及-顯影光致抗蝕劑層，由此根據(jù)輻射圖案選擇地移除光致抗蝕劑材料并且將該層的曝光表面形成為所需模型的最終形狀。
這個方法用于制造不僅隱形眼鏡而且眼鏡玻璃的模型，并且制造用于光學(xué)裝置中校正光學(xué)元件的模型。
光刻法是一種本身眾所周知的工藝，用于制造集成電路(IC)液晶顯示器(LCD)等，由此兩維掩模圖案變換為襯底或晶片上抗蝕劑層中的二維圖像。本發(fā)明使用光刻工藝將二維掩模圖案變換為表面的三維形狀。由此，該表面涂有光致抗蝕劑層，例如對于UV輻射敏感的聚合體材料，或者如果優(yōu)選的話，對于另一波長的輻射敏感的另一材料。在將抗蝕劑層曝光于UV輻射的圖案光束之后(即，輻射穿過掩模圖案的輻射)，通過顯影液顯影抗蝕劑材料。由此，根據(jù)圖案曝光移除部分抗蝕劑材料并且剩余抗蝕劑層材料形成所需的表面形狀。
存在兩種類型的光致抗蝕劑正性和負(fù)性。對于正性光致抗蝕劑，一旦顯影就移除曝光部分。曝光正性光致抗蝕劑導(dǎo)致它化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化，這樣抗蝕劑在顯影液變得更加可溶。然后通過顯影液移除曝光抗蝕劑部分，以便留下抗蝕劑材料中的“洞”(hole)。負(fù)性光致抗蝕劑以相反的方式工作。負(fù)性抗蝕劑的曝光使它產(chǎn)生聚合，因此更加難以溶解。因此，負(fù)性抗蝕劑材料的曝光部分留在表面上并且在顯影操作期間僅僅移除材料的未曝光部分。
優(yōu)選地，使用所謂的“熱流”顯影方法，因為利用液體的顯影提供了較少的光滑度。熱流顯影指將具有曝光光致抗蝕劑的模型部分加熱到預(yù)定溫度。這使得未曝光的抗蝕劑流動。通過快速地自旋模型部分，移除過量的未聚合抗蝕劑。
本方法的一個優(yōu)選實施例的特征在于使用負(fù)性光致抗蝕劑層。
另一實施例的特征在于模型是用對曝光輻射透明的材料制造的。
本方法的又一實施例的特征在于該模型是用塑料材料制造的。
優(yōu)選地，使用負(fù)性光致抗蝕劑層的實施例的特征在于經(jīng)由模型曝光光致抗蝕劑層。
本發(fā)明還涉及一種制造用于生產(chǎn)隱形眼鏡的組合模型的方法，該組合模型包括分別用于形成隱形眼鏡的第一表面和第二表面的第一和第二模型。這個方法的特征在于通過之前所述的方法制造每個模型。
因為用于定制的隱形眼鏡的模型具有非常有限的用途，所以當(dāng)制造這種模型時使用本方法的優(yōu)點(即簡單便宜的過程)以最優(yōu)化。
本發(fā)明還涉及一種制造包括第一凹入表面和第二凸起表面的隱形眼鏡的方法，該方法包括以下步驟-提供一個包括第一模型和第二模型的組合模型；第一模型具有一個表面，該表面是第一透鏡表面的反面(negative)，第二模型具有一個表面，該表面是第二透鏡表面的反面(negative)；-利用聚合體材料填充模型表面之間的間隔；-將聚合體材料曝光于UV輻射，由此硬化該材料并且使它形成為具有所述第一和第二表面的透鏡。這個方法的特征在于使用根據(jù)上述制造組合模型的方法所制造的組合模型。
在生產(chǎn)隱形眼鏡的方法中使用簡單便宜制造的組合模型使得后面的方法也簡單便宜，從而用該方法可以實施本發(fā)明。同樣方法適用于所產(chǎn)生的隱形眼鏡。
最后，本發(fā)明還涉及一種用于執(zhí)行如上所述制造模型的方法的曝光步驟的設(shè)備。這個設(shè)備的特征在于它按如下順序包括-發(fā)射UV輻射的輻射源；-用于將該發(fā)射輻射聚集到曝光光束中的光學(xué)裝置；-空間光調(diào)制器，用于根據(jù)所述預(yù)定圖案給予曝光光束輻射分布；以及-模型夾具(holder)，被設(shè)置在來自空間光調(diào)制器的輻射路徑中，用于夾住要被曝光的模型。
空間光調(diào)制器(SLM)是該設(shè)備的一個重要元件。在常規(guī)的光刻投影裝置中，使用剛性光掩模(該剛性光掩模是數(shù)字特性，即黑/白)。與之相對比，空間光調(diào)制器能夠容易地產(chǎn)生可變化的圖像，而且，該圖像包括大量不同的灰色調(diào)。通過SLM，能夠產(chǎn)生具有逐漸可變強度的圖像，這需要獲得用于定制模型的所需表面的凹凸圖案。
這個設(shè)備的一個實施例的特征在于空間光調(diào)制器是以下其中一個類型液晶顯示器(LCD)、數(shù)字反射鏡設(shè)備(DMD)和可變形的反射鏡設(shè)備。
液晶顯示器本身是眾所周知的并且目前用于圖像投影裝置以產(chǎn)生放大比例的顯示的圖像。LCD可以是透射LCD或反射LCD。后者的優(yōu)點是形成曝光光束的圖案伴隨較少的輻射損失。數(shù)字反射鏡設(shè)備包括單獨可控的可傾斜微鏡(micro mirrors)的陣列，它通過投影透鏡的孔反射入射輻射或者相反并且以此方式表示圖像的亮或黑像素。DMD目前作為圖像投影設(shè)備中LCD的一個替換。相比于LCD，DMD示出的優(yōu)點是它能夠被更快速地切換?？勺冃畏瓷溏R設(shè)備或自適應(yīng)光學(xué)元件是一個反射鏡，可以局部地變形該反射鏡的表面以便局部控制由該反射鏡反射的光的方向。
優(yōu)選地，該設(shè)備的特征還在于光學(xué)投影系統(tǒng)被設(shè)置在空間光調(diào)制器和模型夾具之間。
投影系統(tǒng)在其焦平面中形成空間光調(diào)制器的像素結(jié)構(gòu)的清晰圖像。通常，投影系統(tǒng)是包括一個或多個透鏡的透鏡系統(tǒng)?？商鎿Q地，投影系統(tǒng)是包括一個或多個成像反射鏡的反射鏡系統(tǒng)。如果曝光輻射具有一個波長，對于該波長沒有可接受的透鏡材料，則將使用反射鏡投影系統(tǒng)。
可替換地，該設(shè)備的特征在于模型夾具和空間光調(diào)制器被相互靠近設(shè)置而在它們之間不插入光學(xué)裝置。
在這個實施例中，不使用投影系統(tǒng)并且通過所謂的鄰近成像形成空間光調(diào)制器的像素結(jié)構(gòu)的圖像。
相比于常規(guī)光掩模(它是數(shù)字的)，空間光調(diào)制器能夠產(chǎn)生包括大量不同灰色調(diào)的UV光圖像?？梢缘玫骄哂兄饾u可變強度的圖像，期望該圖像獲得用于定制模型的所需表面的凹凸圖案。
該設(shè)備的一個優(yōu)選實施例的特征還在于擴(kuò)散器元件被設(shè)置在空間光調(diào)制器和模型夾具之間的曝光光束的路徑中。
如果SLM圖像結(jié)構(gòu)的圖像在光抗蝕劑層中成像太清晰，即SLM圖像的各個像素在該層是“可見”的，則將使用這種擴(kuò)散器元件。如果擴(kuò)散器元件被設(shè)置在曝光光束的路徑中，則曝光輻射將被散射到預(yù)定程度以便在光抗蝕劑層中形成的圖像將變得不太清晰并且顯影劑層的表面將變得更加光滑?？梢杂扇跬哥R元件構(gòu)成散射器元件，例如在圓形平移運動中快速或慢速移動該散射器元件。擴(kuò)散器元件也可以是相對于曝光光束的軸稍微傾斜的旋轉(zhuǎn)玻璃板。
一個可替換實施例的特征在于模型夾具被設(shè)置在遠(yuǎn)離投影系統(tǒng)的一距離處以便要被曝光的模型上的光致抗蝕劑層在投影系統(tǒng)的焦平面之外。
這種設(shè)置也確保在光抗蝕劑層形成的SLM圖片的圖像不清晰，并且因此顯影劑層的表面足夠光滑。
優(yōu)選地，該設(shè)備的特征還在于空間光調(diào)制器與計算機耦合，該空間光調(diào)制器提供關(guān)于要在光致抗蝕劑層形成的曝光圖案的數(shù)據(jù)。
如果必須制造用于隱形眼鏡的模型，則由計算機將關(guān)于所需眼睛校正的數(shù)據(jù)處理為用于空間光調(diào)制器的參數(shù)值并且計算機控制整個曝光過程。
通過非限制性實例并參考在下文描述的用于制造生產(chǎn)隱形眼鏡的模型的方法的一個實施例，本發(fā)明的這些和其它方面變得顯而易見并且本發(fā)明的這些和其它方面被說明。在附圖中

圖1示出了一種用于生產(chǎn)隱形眼鏡的模型的部分視圖；以及圖2示出了用于形成模型的設(shè)備的一個實施例。
附圖僅僅是示意性表示，并且僅僅示出了對于理解本發(fā)明相關(guān)的這些部分。
圖1示出了用于生產(chǎn)隱形眼鏡的組合模型。該組合模型包括兩個模型，模型1具有凹入模型表面1’，它用于形成隱形眼鏡的凸起前表面；和模型2具有凸起模型表面2’，它用于形成隱形眼鏡的凹入后表面。當(dāng)隱形眼鏡放于眼睛上時后表面鄰接眼睛并且該后表面也被稱為隱形眼鏡的基側(cè)。兩個模型1，2被提供圓形邊緣部分4，在生產(chǎn)隱形眼鏡期間通過該圓形邊緣部分4夾住部分1，2以使部分1，2保持在預(yù)定位置。模型1和2都是由透明塑料材料制成并且例如通過金屬模型的模制操作來制造。模型1的凹入表面和模型2的凸起表面必須光滑以便通過這些模型產(chǎn)生的隱形眼鏡的表面在模制過程之后不需要額外的拋光操作。
為了生產(chǎn)隱形眼鏡，將UV硬化聚合體引入兩個透明塑料模型1，2之間的間隔3中。隨后，具有聚合體的組合模型經(jīng)受UV光輻射以便固化或硬化聚合體。所得結(jié)果是具有凸起透鏡表面(它的形狀是由模型表面1’限定)和凹入透鏡表面(它的形狀是由模型表面2’限定)的隱形眼鏡。這種通常已知的用于生產(chǎn)隱形眼鏡的方法相對簡單并且能夠以低成本執(zhí)行該方法。
圖2示意性地示出了通過光刻技術(shù)形成模型(象模型1或2)的設(shè)備的一個實施例。該設(shè)備包括輻射源6，例如燈6，它發(fā)出紫外(UV)輻射。該光源被放置在設(shè)備的光軸7上并且例如是500瓦汞弧光燈。設(shè)置在燈背面的反射鏡8反射設(shè)備中向后發(fā)出的輻射以便有效地使用由燈發(fā)出的輻射。由射線9表示曝光輻射。兩個聚光透鏡10、11將這個輻射聚集為一個會聚曝光光束。這個光束通過空間光調(diào)制器18，它充當(dāng)可編程光掩模的作用，在計算機的控制下能夠隨意改變光掩模的掩模圖案(未示出)。
在圖2的實施例中，空間光調(diào)制器是液晶顯示器(LCD)，它包括偏振器12、液晶面板13和分析器14。面板13包括大量單元或像素元件(像素)的二維陣列，它可以單獨地通過集成在該面板上的電子電路來控制。取決于面板的類型，在接通或斷開狀態(tài)該單元旋轉(zhuǎn)入射輻射的偏振方向，由偏振器12將該偏振方向偏振為預(yù)定方向，以便來自這個單元的輻射不能通過分析器14，該分析器具有與偏振器相同的偏振方向。這個單元表示黑像素并且不能旋轉(zhuǎn)偏振方向的單元表示白像素。以此方式，LCD產(chǎn)生白和黑區(qū)域的圖案。一旦通過LCD，就利用這個圖案調(diào)制曝光光束。這個LCD面板不僅能夠顯示黑和白圖案，而且能夠顯示具有灰色調(diào)的圖案，即強度的范圍是從高到零。
代替在圖2的實施例中使用的透射LCD，也可以使用反射LCD。反射LCD的優(yōu)點是它顯示了較少的輻射損失以便在使用反射LCD的設(shè)備中更加有效地使用可用的輻射。
也可以通過數(shù)字反射鏡設(shè)備(DMD)構(gòu)成空間光調(diào)制器18。這種設(shè)備包括可以單獨地控制的大量微鏡(micro mirror)的二維陣列?？梢酝ㄟ^集成在該設(shè)備中的電子電路的控制傾斜這些反射鏡。取決于設(shè)備的類型，傾斜的反射鏡在它的接通或斷開狀態(tài)反射入射輻射以便它不能進(jìn)入模型成形設(shè)備的另一光學(xué)元件。這種傾斜反射鏡表示黑像素，在其零位置的反射鏡表示白像素。微鏡能夠在不同角度上被傾斜以便像素被給出不同的灰色調(diào)。以此方式，目前用于圖像顯示的DMD設(shè)備可以用于產(chǎn)生具有可變亮度(從高到零)的區(qū)域的圖案。
用于本發(fā)明成形設(shè)備的另一種類型的空間光調(diào)制器是可變形反射鏡或自適應(yīng)光學(xué)元件。在電子電路的控制下局部變形這種元件的形狀，該電子電路將控制信號提供給迫使反射鏡或元件的區(qū)域變形的裝置。局部變形改變了入射輻射的方向或相位，這導(dǎo)致來自可變形反射鏡或自適應(yīng)元件的光束中強度圖案的形成。
也可以使用其它類型的空間光調(diào)制器。必要的是，空間光調(diào)制器生成在寬范圍上變化的強度圖案以便將寬范圍的強度投影到要處理的模型上。
應(yīng)該清楚的是，如果反射SLM(反射LCD、DMD或可變形反射鏡)、輻射源7和光束成形裝置10和11放置在SLM18的左側(cè)而不是SLM18的右側(cè)，則如圖2所示用于透射SLM。
在圖2中通過參考數(shù)字2表示這個模型。通過模型夾具19中的其圓形邊緣固定這個模型。為了改變模型的原始凸起模型形狀20，則給該原始凸起模型形狀20涂上光致抗蝕劑層16，該光致抗蝕劑層對用于圖2的設(shè)備中的曝光輻射很敏感，在這種情況下是UV輻射。例如，光致抗蝕劑是UV敏感聚合體。在例如通過旋轉(zhuǎn)涂布已經(jīng)將光致抗蝕劑層涂在模型上之后，在預(yù)定時間和預(yù)定溫度烘烤該模型，由此移除溶劑。然后具有光致抗蝕劑層的模型被放置在模型夾具中并且被曝光于曝光光束9，根據(jù)上述眼科數(shù)據(jù)通過空間光調(diào)制器該曝光光束9已經(jīng)被形成圖案。在曝光之后顯影光致抗蝕劑層，由此取決于光致抗蝕劑的類型，將曝光部分或非曝光部分移除到取決于局部曝光強度的深度。以此方式，二維SLM圖案被變換為光致抗蝕劑層中的三維圖案并且將所需模型表面印在光致抗蝕劑層16的外表面22。
在圖2所示的實施例中，通過模型2材料曝光光致抗蝕劑層，該材料需要透明的模型材料。這種材料例如是透明塑料。如果光致抗蝕劑是負(fù)性光致抗蝕劑以荻得具有逐漸可變層16的厚度的光滑抗蝕劑外形，則通過該模型的曝光是優(yōu)選的。由于同樣的原因，優(yōu)選地從前側(cè)曝光在該模型之上的正性光致抗蝕劑。
如果仍需要模型表面22有較好的光滑度，則光致抗蝕劑層16經(jīng)受表面拋光烘烤步驟，由此在預(yù)定時間期間將模型2和層16加熱到預(yù)定溫度，該步驟使表面22變得更加光滑。
優(yōu)選地，如圖2所示的，投影系統(tǒng)15被設(shè)置在SLM18和具有光致抗蝕劑層的模型之間以在光致抗蝕劑層中成像SLM圖案。投影系統(tǒng)通常是包括一個或多個透鏡的透鏡系統(tǒng)，而且也可以是包括一個或多個反射鏡的反射鏡投影系統(tǒng)。如果優(yōu)選地使用具有一波長(深UV)的曝光輻射，對于該波長沒有可接受的透鏡材料，則將使用反射鏡投影系統(tǒng)。
也可能通過接近式印刷技術(shù)變換光致抗蝕劑層中的SLM圖案。然后將前側(cè)22設(shè)置靠近SLM而不需要在它們之間設(shè)置投影系統(tǒng)(插入光學(xué)裝置)。來自SLM的輻射經(jīng)由這個表面和SLM之間的小氣隙直接入射到前表面。對于這種設(shè)置，正性光致抗蝕劑將是優(yōu)選的。
因為SLM圖案具有像素結(jié)構(gòu)并且如果光致抗蝕劑層被設(shè)置在投影系統(tǒng)的焦平面則投影系統(tǒng)在光致抗蝕劑層中形成這個圖案的清晰圖像，所以印刷圖案也顯示像素，即不光滑的結(jié)構(gòu)。這可以通過將光致抗蝕劑層設(shè)置在投影系統(tǒng)的焦平面之外來避免。SLM圖案的圖像將在足夠程度上變得模糊以便印刷模型表面將在不同表面水平之間顯示光滑的過渡。
防止形成古怪(pixilated)模型表面的另一方法是在投影系統(tǒng)和光致抗蝕劑層之間設(shè)置擴(kuò)散器。這種擴(kuò)散器將曝光光束的輻射散射到預(yù)定程度，這導(dǎo)致模糊SLM圖案的圖像。這個擴(kuò)散器優(yōu)選地是一個動態(tài)擴(kuò)散器，即呈現(xiàn)隨時間變化的空間散射的擴(kuò)散器。可以通過弱透鏡元件形成這種擴(kuò)散器，例如在圓形平移運動中快速或慢速移動該擴(kuò)散器。擴(kuò)散器也可以是相對于曝光光束的軸稍微傾斜的旋轉(zhuǎn)玻璃板。
在顯影和后期烘烤之后剩余光致抗蝕劑層的最后材料厚度分布取決于許多參數(shù)，例如由SLM生成的圖案、總的曝光時間、來自光源的曝光光束的強度和光致抗蝕劑材料的特性，例如其速度和對比度。
如果必須制造用于生產(chǎn)隱形眼鏡的定制的組合模型，則以上述方法生產(chǎn)兩個模型，由此從眼科測量數(shù)據(jù)中得到由SLM生成的所需灰色調(diào)圖案，該眼睛測量數(shù)據(jù)經(jīng)由計算機被提供給設(shè)備。
如果必須制造具有復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的模型，則根據(jù)所需表面外形的復(fù)雜度，重復(fù)一次或多次上述模型制造過程。
本發(fā)明已經(jīng)描述了制造用于隱形眼鏡的模型，這并不意味著本發(fā)明局限于這個申請。本發(fā)明也可以用于制造用于眼鏡玻璃的模型，該玻璃是通過玻璃壓制或塑料模型技術(shù)生產(chǎn)的。本發(fā)明還可以用于生產(chǎn)校正的相移片，該相移片用于光學(xué)儀器或裝置中用于校正在這些儀器或裝置中的剩余光學(xué)像差。以與隱形眼鏡相同的方法產(chǎn)生這種校正板，即經(jīng)由模型，而且直接地并且以與這種模型相同的方法產(chǎn)生這種校正板，因為所用的技術(shù)是簡單便宜的。本發(fā)明通常用于生產(chǎn)小數(shù)量(從1到少許)的光學(xué)表面。
權(quán)利要求
1.一種制造用于生產(chǎn)定制的光學(xué)表面的模型的方法，由此修改具有基本形狀的模型以獲得所需模型表面的形狀，其特征在于使用光刻方法，包括以下步驟-給模型表面提供光致抗蝕劑層；-在預(yù)定時間期間將光致抗蝕劑層曝光于曝光輻射的預(yù)定圖案；以及-顯影光致抗蝕劑層，由此根據(jù)輻射圖案選擇地移除光致抗蝕劑材料并且將該層的曝光表面形成為所需模型的最終形狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于使用負(fù)性光致抗蝕劑層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于該模型是由對曝光輻射透明的材料制成的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3的方法，其特征在于該模型是由塑料材料制成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，其特征在于經(jīng)由該模型曝光該光致抗蝕劑層。
6.一種制造用于生產(chǎn)隱形眼鏡的組合模型的方法，該組合模型包括用于分別形成隱形眼鏡的第一表面和第二表面的第一和第二模型，其特征在于通過權(quán)利要求1-5的任一權(quán)利要求的方法制造每個模型。
7.一種制造包括第一凹入表面和第二凸起表面的隱形眼鏡的方法，該方法包括以下步驟-提供一個包括第一模型和第二模型的組合模型；第一模型具有一個表面，該表面是第一透鏡表面的反面，第二模型具有一個表面，該表面是第二透鏡表面的反面；-利用聚合體材料填充模型表面之間的間隔；-將聚合體材料曝光于UV輻射，由此硬化材料并且使它成形為具有所述第一和第二表面的透鏡，其特征在于使用根據(jù)權(quán)利要求6的方法制造的組合模型。
8.一種根據(jù)權(quán)利要求7的方法制造的隱形眼鏡。
9.一種執(zhí)行權(quán)利要求1的方法的曝光步驟的設(shè)備，其特征在于它按如下順序包括-發(fā)射UV輻射的輻射源；-用于將該發(fā)射輻射聚集到曝光光束的光學(xué)裝置；-空間光調(diào)制器，用于根據(jù)所述預(yù)定圖案給予曝光光束輻射分布；以及-模型夾具，被設(shè)置在來自空間光調(diào)制器的輻射路徑中，用于夾住要被曝光的模型。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的設(shè)備，其特征在于空間光調(diào)制器是以下其中一個類型液晶顯示器(LCD)、數(shù)字反射鏡設(shè)備和可變形的反射鏡設(shè)備。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10的設(shè)備，其特征在于光學(xué)投影系統(tǒng)被設(shè)置在空間光調(diào)制器和模型夾具之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10的設(shè)備，其特征在于模型夾具和空間光調(diào)制器被相互靠近設(shè)置而在它們之間不插入光學(xué)裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求9-12的任一權(quán)利要求的設(shè)備，其特征在于擴(kuò)散器元件被設(shè)置在空間光調(diào)制器和模型夾具之間的曝光光束的路徑中。
14.根據(jù)權(quán)利要求9-12的任一權(quán)利要求的設(shè)備，其特征在于模型夾具被設(shè)置在遠(yuǎn)離投影系統(tǒng)的一距離處以便要被曝光的模型上的光致抗蝕劑層在投影系統(tǒng)的焦平面之外。
15.根據(jù)權(quán)利要求9-14的任一權(quán)利要求的設(shè)備，其特征在于空間光調(diào)制器與計算機耦合，該空間光調(diào)制器提供關(guān)于要在光致抗蝕劑層形成的曝光圖案的數(shù)據(jù)。
全文摘要
一種制造用于生產(chǎn)定制的光學(xué)表面的模型的方法，由此修改具有基本形狀的模型(1，2)以獲得所需模型的形狀。通過光刻方法執(zhí)行該修改，該光刻方法包括給模型表面涂上光致抗蝕劑層(16)、將該層曝光于曝光輻射(9)的預(yù)定圖案和顯影該曝光層，由此移除該層的部分以獲得所需的模型形狀(22)。這個方法用于生產(chǎn)小數(shù)量的光學(xué)表面，例如用于單獨的隱形眼鏡。
文檔編號B29C67/00GK1822935SQ200480019834
公開日2006年8月23日 申請日期2004年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月11日
發(fā)明者A·J·M·內(nèi)利森, H·G·P·C·范多爾馬倫, T·J·M·范德普滕 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司