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光電組件的制造方法

文檔序號:3783436閱讀:152來源:國知局
專利名稱:光電組件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種光電組件的制造方法。
背景技術(shù)
一般而言,光電組件(例如液晶顯示器等)是用摩擦配向的技術(shù)形成配向?qū)?。在摩擦配向技術(shù)中,需先將配向液涂布于光電組件的基板上,然后再固化配向液,以形成準(zhǔn)配向?qū)?。之后,再利用絨布摩擦準(zhǔn)配向?qū)?,而形成配向?qū)印H欢?,由于光電組件的基板表面不一定是平坦的,因此絨布摩擦配置于基板表面的準(zhǔn)配向?qū)右自斐膳湎驅(qū)拥牟涣?,進(jìn)而使光電組件中光學(xué)異方向性材料(例如液晶等)的配向狀況不理想。由于摩擦配向技術(shù)的缺點,有人開發(fā)出了光配向技術(shù),雖然光配向技術(shù)可解決摩擦配向技術(shù)的問題,但光配向技術(shù)所使用的配向液價格昂貴,而使得利用光配向技術(shù)制造的光電組件成本過高。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種光電組件的制造方法,其所制造的光電組件成本低且
質(zhì)量佳。本發(fā)明的一實施例的光電組件制造方法包括下列步驟。提供二基板以及包括光學(xué)異方向性材料、成膜材料、配向材料以及光起始劑的混合物。在基板之間填入混合物。令成膜材料以及配向材料于基板上分別形成成膜層以及配向?qū)印E湎驅(qū)右约俺赡游挥诠鈱W(xué)異方向性材料與基板之間。成膜層位于配向?qū)优c基板之間。在本發(fā)明的一實施例中,上述的二基板包括相對的第一基板與第二基板。令配向材料于二基板上形成配向?qū)拥姆椒òㄏ铝胁襟E。提供第一偏極光以及第二偏極光,其中第一偏極光沿著由第一基板向第二基板的方向傳遞,第二偏極光沿著由第二基板向第一基板的方向傳遞。令第一偏極光與第二偏極光同時照射配向材料。在本發(fā)明的一實施例中,上述的令配向材料于基板上形成配向?qū)拥姆椒òㄏ铝胁襟E。提供偏極光。令光學(xué)異方向性材料在偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零。于光學(xué)異方向性材料在偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零時,令偏極光照射配向材料。在本發(fā)明的一實施例中,上述的令光學(xué)異方向性材料在偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零的方法包括下列步驟。對光學(xué)異方向性材料的多個光學(xué)異方向性分子施加電壓以使每一光學(xué)異方向性分子的光軸與偏極光的傳遞方向?qū)嵸|(zhì)上平行,或加熱光學(xué)異方向性材料以使光學(xué)異方向性材料的溫度大于或等于光學(xué)異方向性材料的澄清點。在本發(fā)明的一實施例中,上述的成膜材料為自組裝型高分子材料。令成膜材料于基板上形成成膜層的方法包括:令成膜材料自然地與基板鍵結(jié)。在本發(fā)明的一實施例中,上述的令成膜材料于基板上形成成膜層的方法包括:力口熱成膜材料,或令光束照射成膜材料。在本發(fā)明的一實施例中,上述的令成膜材料以及配向材料于基板上分別形成成膜層以及配向?qū)拥姆椒ò?提供偏極光;以及令偏極光同時照射成膜材料以及配向材料,其中在偏極光照射下,成膜材料的聚合反應(yīng)速率實質(zhì)上大于配向材料的聚合反應(yīng)速率。在本發(fā)明的一實施例中,上述的成膜材料的吸收波長范圍與配向膜材料的吸收波長范圍不同。令成膜材料以及配向材料于基板上分別形成成膜層以及配向?qū)拥姆椒òㄏ铝胁襟E。提供偏極光以及光束,其中偏極光的波長分布范圍與光束的波長分布范圍不同。令光束照射成膜材料,以使成膜材料吸收光束而形成成膜層。令偏極光照射配向材料,以使配向材料吸收偏極光而形成配向膜層。 在本發(fā)明的一實施例中,上述的成膜材料表示為下列化學(xué)式(I ),

權(quán)利要求
1.一種光電組件的制造方法,包括: 提供二基板以及一混合物,該混合物包括一光學(xué)異方向性材料、一成膜材料、一配向材料以及一光起始劑; 在該些基板之間填入該混合物;以及 令該成膜材料以及該配向材料于該些基板上分別形成一成膜層以及一配向?qū)?,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該些基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該些基板之間。
2.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該些基板包括相對的一第一基板與一第二基板,而令該配向材料于該些基板上形成該配向?qū)拥姆椒ò? 提供一第一偏極光以及一第二偏極光,其中該第一偏極光沿著由該第一基板向該第二基板的方向傳遞,該第二偏極光沿著由該第二基板向該第一基板的方向傳遞;以及 令該第一偏極光與該第二偏極光同時照射該配向材料。
3.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,令該配向材料于該些基板上形成該配向?qū)拥姆椒ò? 提供一偏極光; 令該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零;以及 于該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零時,令該偏極光照射該配向材料。
4.如權(quán)利要求3所述的光電組件的制造方法,其特征在于,令該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零的方法包括: 對該光學(xué)異方向性材料的多個光學(xué)異方向性分子施加電壓以使每一該光學(xué)異方向性分子的光軸與該偏極光的傳遞方向?qū)嵸|(zhì)上平行,或加熱該光學(xué)異方向性材料以使該光學(xué)異方向性材料的溫度大于或等于該光學(xué)異方向性材料的澄清點。
5.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該成膜材料為一自組裝型高分子材料,而令該成膜材料于該些基板上形成該成膜層的方法包括: 令該成膜材料自然地與該些基板鍵結(jié)。
6.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,令該成膜材料于該些基板上形成該成膜層的方法包括: 加熱該成膜材料,或令一光束照射該成膜材料。
7.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,令該成膜材料以及該配向材料于該些基板上分別形成該成膜層以及該配向?qū)拥姆椒ò? 提供一偏極光;以及 令該偏極光同時照射該成膜材料以及該配向材料,其中在該偏極光照射下,該成膜材料的聚合反應(yīng)速率實質(zhì)上大于該配向材料的聚合反應(yīng)速率。
8.如權(quán)利要求1所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該成膜材料的吸收波長范圍與該配向膜材料的吸收波長范圍不同,而令該成膜材料以及該配向材料于該些基板上分別形成該成膜層以及該配向?qū)拥姆椒ò? 提供一偏極光以及一光束,其中該偏極光的波長分布范圍與該光束的波長分布范圍不同;令該光束照射該成膜材料,以使該成膜材料吸收該光束而形成該成膜層;以及 令該偏極光照射該配向材料,以使該配向材料吸收該偏極光而形成該配向膜層。
9.一種光電組件的制造方法,其特征在于,包括: 提供相對的一第一基板與一第二基板以及一混合物,該混合物包括一光學(xué)異方向性材料以及一配向材料; 在該第一基板與該第二基板之間填入該混合物; 提供一第一偏極光以及一第二偏極光,其中該第一偏極光沿著由該第一基板向該第二基板的方向傳遞,該第二偏極光沿著由該第二基板向該第一基板的方向傳遞; 令該第一偏極光與該第二偏極光同時照射該混合物,以使該配向材料在該第一基板以及該第二基板上形成一配向?qū)印?br> 10.如權(quán)利要求9所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該成膜材料為一自組裝型高分子材料,而該光電組件的制造方法還包括: 令該自組裝型高分子材料自然地與該第一基板以及該第二基板鍵結(jié)而在該第一基板以及該第二基板上形成一成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該第一基板以及該第二基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該第一基板以及該第二基板之間。
11.如權(quán)利要求9所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,而該光電組件的制造方法還包括: 加熱該成膜材料,以使該成膜材料在該第一基板以及該第二基板上形成一成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該第一基板以及該第二基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該第一基板以及該第二基板之間。
12.如權(quán)利要求9所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該第一偏極光與該第二偏極光同時照射該配向材料以及該成膜材料,以使該成膜材料在該第一基板以及該第二基板上形成一成膜層,其中在該第一偏極光及該第二偏極光照射下,該成膜材料的聚合反應(yīng)速率實質(zhì)上大于該配向材料的聚合反應(yīng)速率,該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該第一基板以及該第二基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該第一基板以及該第二基板之間。
13.如權(quán)利要求9所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該成膜材料的吸收波長范圍與該配向膜材料的吸收波長范圍不同,而該光電組件的制造方法還包括: 提供一光束,其中該光束的波長分布范圍與該第一偏極光的波長分布范圍以及該第二偏極光的波長分布范圍不同;以及 令該光束照射該成膜材料,以使該成膜材料吸收該光束而形成該成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該第一基板以及該第二基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該第一基板以及該第二基板之間。
14.一種光電組件的制造方法,其特征在于,包括: 提供二基板以及一混合物,該混合物包括一光學(xué)異方向性材料以及一配向材料; 在該些基板之間填入該混合物; 提供一偏極光;令該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零;以及 于該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零時,令該偏極光照射該配向材料,以使該配向材料在該些基板上形成一配向?qū)印?br> 15.如權(quán)利要求14所述的光電組件的制造方法,其特征在于,令該光學(xué)異方向性材料在該偏極光傳遞方向上的相延遲量實質(zhì)上為零的方法包括: 對該光學(xué)異方向性材料的多個光學(xué)異方向性分子施加電壓以使每一該光學(xué)異方向性分子的光軸與該偏極光的傳遞方向?qū)嵸|(zhì)上平行,或加熱該光學(xué)異方向性材料以使該光學(xué)異方向性材料的溫度大于或等于該光學(xué)異方向性材料的澄清點。
16.如權(quán)利要求14所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該成膜材料為一自組裝型高分子材料,而該光電組件的制造方法還包括: 令該自組裝型高分子材料自然地與該些基板鍵結(jié)而在該些基板上形成一成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該些基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該些基板之間。
17.如權(quán)利要求14所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,而該光電組件的制造方法還包括: 加熱該成膜材料以使該成膜材料在該些基板上形成一成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該些基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該些基板之間。
18.如權(quán)利要求14所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該偏極光同時照射該配向材料以及該成膜材料,以使該成膜材料在該些基板上形成一成膜層,其中在該偏極光照射下,該成膜材料的聚合反應(yīng)速率實質(zhì)上大于該配向材料的聚合反應(yīng)速率,該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該些基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該些基板之間。
19.如權(quán)利要求14所述的光電組件的制造方法,其特征在于,該混合物還包括一成膜材料,該成膜材料的吸收波長范圍與該配向膜材料的吸收波長范圍不同,而該光電組件的制造方法還包括: 提供一光束,其中該偏極光的波長分布范圍與該光束的波長分布范圍不同;以及令該光束照射該成膜材料,以使該成膜材料吸收該光束而形成該成膜層,該成膜材料吸收該光束而形成一成膜層,其中該配向?qū)右约霸摮赡游挥谠摴鈱W(xué)異方向性材料與該些基板之間,而該成膜層位于該配向?qū)优c該些基板之間。
全文摘要
一種光電組件的制造方法,包括下列步驟。提供二基板以及包括光學(xué)異方向性材料、成膜材料、配向材料以及光起始劑的混合物。在基板之間填入混合物。令成膜材料以及配向材料于基板上分別形成成膜層以及配向?qū)?。配向?qū)右约俺赡游挥诠鈱W(xué)異方向性材料與基板之間。成膜層位于配向?qū)优c基板之間。此外,另二種光電組件的制造方法亦被提出。
文檔編號C09K19/52GK103197470SQ20131007671
公開日2013年7月10日 申請日期2013年3月11日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月11日
發(fā)明者吳宏昱, 丁子鈺, 連詹田, 余芷妍 申請人:華映視訊(吳江)有限公司, 中華映管股份有限公司
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