一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其結(jié)構(gòu)為：玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù)合介質(zhì)層/第二銀層/第二保護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì)層/氧化鋯膜；本實(shí)用新型的膜層能夠經(jīng)受700℃的高溫鋼化，鋼化后顏色穩(wěn)定，膜層鋼化后無外觀缺陷。
【專利說明】
一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002] 低輻射鍍膜玻璃被證明是當(dāng)今最好的建筑節(jié)能玻璃。通過在普通玻璃表面鍍低輻 射膜而改善其性能，有效限制紅外光透過，充分降低玻璃兩側(cè)的熱交換，使其與普通玻璃和 傳統(tǒng)鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)良的節(jié)能性能、光學(xué)性能和環(huán)保性能。低輻射鍍膜玻璃己被廣泛 應(yīng)用于世界各地的建筑中，特別是經(jīng)濟(jì)和科學(xué)技術(shù)比較發(fā)達(dá)的國(guó)家和地區(qū)。低輻射鍍膜本 身隨著研發(fā)的深入也在進(jìn)行著更新?lián)Q代，不僅滿足建筑設(shè)計(jì)潮流審美的需要，而且節(jié)能性 也得到進(jìn)一步提高。其中，三銀低輻射鍍膜玻璃因?yàn)槠渚哂懈偷募t外線透過率、輻射率和 傳熱系數(shù)，使其更節(jié)能，從而被廣泛應(yīng)用。
[0003] 但是，三銀低輻射鍍膜玻璃因膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜，在鋼化過程中容易產(chǎn)生鋼化后顏色 不穩(wěn)定、有色道、膜層擦拭實(shí)驗(yàn)不合格等問題。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 為了解決上述問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻 璃，該玻璃膜層能夠經(jīng)受700°C的高溫鋼化，鋼化后顏色穩(wěn)定，膜層鋼化后無外觀缺陷。
[0005] -種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu) 為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù)合介質(zhì)層/第二銀層/第二保 護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì)層/氧化鋯膜。
[0006]較佳地，所述第一復(fù)合介質(zhì)層的厚度為20~50nm、第一銀層的厚度為5~15nm、第 一保護(hù)層的厚度為1~l-l〇nm、第二復(fù)合介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第二銀層的厚度為5~ 15nm、第二保護(hù)層的厚度為1~10nm、第三復(fù)合介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第三銀層的厚度 為5~15nm、第三保護(hù)層的厚度為1~10nm、第四復(fù)合介質(zhì)層的厚度為35~70nm、氧化錯(cuò)膜的 厚度為3~10nm。厚度在一定的范圍內(nèi)，可起到減少摩擦，提升抗劃傷性能。太厚的話，表面 就過于粗糙，反而起到相反的效果。此膜層能夠有效增加膜系的抗劃傷性能，提高產(chǎn)品的可 處理加工特性，減少膜面劃傷等缺陷。
[0007] 較佳地，所述第一復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅和ΑΖ0;所述氮化硅的厚度為10 ~25nm、所述氧化鋅的厚度為5~15nm、所述ΑΖ0的厚度為5~10nm。較佳地，所述第一保護(hù) 層、第二保護(hù)層和第三保護(hù)層為鎳鉻層。
[0008] 較佳地，所述第二復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅和ΑΖ0，所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度為5~10nm〇
[0009] 較佳地，所述第三復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅、ΑΖ0,所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度為5~10nm〇
[0010] 較佳地，第四復(fù)合介質(zhì)層包括ΑΖ0、氧化鋅和氮化娃，所述ΑΖ0的厚度為5~10nm、所 述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述氮化娃的厚度為20~40nm。制備所述可鋼化的三銀低福 射鍍膜玻璃，具體為:玻璃基片清洗一磁控濺射鍍膜一切割一磨邊一鋼化；
[0011] 其中，
[0012] 1)、底部SiN的N2量要較少;例如，氮化硅的基礎(chǔ)配比為，氬氣:氮?dú)?1000:900(單 位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮?dú)?1000:700，以形成致密的結(jié)構(gòu)，能夠增加 跟玻璃基片的結(jié)合力。
[0013] 2)、中間層SiN與上下的氧化物介質(zhì)層接觸的介面處通入少量的〇2,形成SiOxNy 結(jié)構(gòu)，與上下兩層的氧化物介質(zhì)層之間的結(jié)合力更好。例如，第二復(fù)合介質(zhì)層中，氮化硅的 下一層是氧化鋅錫，則在靠近氧化鋅錫的那層氮化硅將氣氛配比改為，氬氣:氮?dú)?氧氣= 1000 :900 : 50(單位：SCCM)，這里指的是兩層之間的介面處，形成SiOxNy的厚度一般為1~ 5nm〇
[0014] 3)、頂部Si_^N2量要多，形成應(yīng)力小的稍疏松結(jié)構(gòu)。例如，氮化硅的基礎(chǔ)配比為， 氬氣:氮?dú)?1000:900(單位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮?dú)?800:1100。
[0015] 4)、ZnSn0、ZnA10膜應(yīng)按化學(xué)計(jì)量比或者過氧工藝濺射以減少應(yīng)力。
[0016] 5)、頂部保護(hù)層Zr02高功率富02濺射，以形成納米微晶粗糙的表面，表面粗糙則接 觸面小，摩擦系數(shù)小，抗劃傷性能強(qiáng)。Zr靶功率為60~100千瓦，富〇2濺射，例如Ar: 〇2 = 500: 1200,氧氣較多。
[0017] 6)、對(duì)于Ag膜的種子層ΖηΑΙΟ等，用高功率60~100千瓦、低Ar、富02的氣氛，容易得 到柱狀的晶體結(jié)構(gòu)，有利于Ag膜的生長(zhǎng)。
[0018] 本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù) 合介質(zhì)層/第二銀層/第二保護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì) 層/氧化鋯膜;本實(shí)用新型不僅能有效提升膜層抗劃傷性能，而且膜層能夠經(jīng)受700°C的高 溫鋼化，鋼化后顏色穩(wěn)定，膜層鋼化后無外觀缺陷，并通過鋼化溫度敏感性實(shí)驗(yàn)、鋼化延時(shí) 實(shí)驗(yàn)、不同厚度玻璃基片鋼化實(shí)驗(yàn)、不同厚度玻璃基片彎鋼化實(shí)驗(yàn)。
【附圖說明】
[0019] 圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020] 下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以助于本領(lǐng)域技術(shù)人 員理解本實(shí)用新型。
[0021] 實(shí)施例1
[0022] 見圖1，一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片1/第一復(fù)合介質(zhì)層 21 [氮化娃（厚度10nm)、氧化鋅（5腦）、420(10腦）]/第一銀層31(1511111)/鎳絡(luò)41(111111)/第二 復(fù)合介質(zhì)層22 [氮化娃（20nm)、氧化鋅錫(40nm)、氧化鋅（10nm)、AZ0(5nm)]第二銀層32 (15nm)/鎳絡(luò)42(lnm)/第三復(fù)合介質(zhì)層23 [氮化娃(20nm)、氧化鋅錫(20nm)、氧化鋅（10nm)、 AZ0(10nm)]/第三銀層33(5nm)/鎳鉻43(10nm)/第四復(fù)合介質(zhì)層24[AZ0(5nm)、氧化鋅 (20nm)、氮化娃（20nm) ]/Zr0x5( 10nm)。
[0023] 實(shí)施例2
[0024] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度25nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(5nm) ]/第一銀層(5nm)/鎳絡(luò)（10nm)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮 化娃（40nm)、氧化鋅錫（20nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(10nm)]第二銀層（5nm)/鎳絡(luò)（10nm)/第 三復(fù)合介質(zhì)層[氮化娃（40nm)、氧化鋅錫（40nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(5nm) ]/第三銀層 (15nm)/鎳鉻（lnm)/第四復(fù)合介質(zhì)層[AZO(lOnm)、氧化鋅（10nm)、氮化硅（40nm)]/Zr0x (3nm)〇
[0025] 實(shí)施例3
[0026] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度15nm)、氧化鋅(8]1111)、420(811111)]/第一銀層(811111)/鎳絡(luò)(311111)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮化 娃(25nm)、氧化鋅錫(30nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(6nm)]第二銀層(10nm)/鎳絡(luò)(3nm)/第三復(fù) 合介質(zhì)層[氮化娃(35nm)、氧化鋅錫(30nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(6nm)]/第三銀層（10nm)/鎳 絡(luò)（3nm)/第四復(fù)合介質(zhì)層[AZ0(6nm)、氧化鋅（15nm)、氮化娃（25nm) ]/Zr0x(5nm) 〇
[0027] 實(shí)施例4
[0028] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度2011111)、氧化鋅（1011111)、420(711111)]/第一銀層（1〇11111)/鎳絡(luò)(511111)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮 化娃（30nm)、氧化鋅錫（25nm)、氧化鋅（12nm)、420(7]1111)]第二銀層（811111)/鎳絡(luò)（511111)/第三 復(fù)合介質(zhì)層[氮化娃(30nm)、氧化鋅錫(35nm)、氧化鋅（13nm)、AZ0(7nm)]/第三銀層(12nm)/ 鎳絡(luò)（ 5nm)/第四復(fù)合介質(zhì)層[AZ0(7nm)、氧化鋅（Πηπι)、氮化娃（30nm) ]/Zr0x(4nm) 〇
[0029] 實(shí)施例5
[0030] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度 22nm)、氧化鋅（12]1111)、420(611111)]/第一銀層（1211111)/鎳絡(luò)(711111)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮 化娃(35nm)、氧化鋅錫(35nm)、氧化鋅（18nm)、420(8]1111)]第二銀層(611111)/鎳絡(luò)(811111)/第三 復(fù)合介質(zhì)層[氮化娃(25nm)、氧化鋅錫(25nm)、氧化鋅（llnm)、AZ0(8nm)]/第三銀層(13nm)/ 鎳絡(luò)（ 8nm)/第四復(fù)合介質(zhì)層[AZ0(8nm)、氧化鋅（Πηπι)、氮化娃（35nm) ]/Zr0x(8nm) 〇
[0031 ]上述實(shí)施例，只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用來限制本實(shí)用新型實(shí)施范圍， 故凡以本實(shí)用新型權(quán)利要求所述的特征及原理所做的等效變化或修飾，均應(yīng)包括在本實(shí)用 新型權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
[0032] 試驗(yàn)：
[0033] 1、鋼化加工溫度敏感性實(shí)驗(yàn)(結(jié)果見表1):檢驗(yàn)?zāi)釉阡摶庸囟茸兓瘯r(shí)是否 穩(wěn)定。實(shí)驗(yàn)條件如下:在雙室鋼化爐加工。試樣規(guī)格:6mm玻璃基片，規(guī)格1000mm*1000mm。
[0034] 表 1
[0035]
[0036] 結(jié)論:試樣經(jīng)過不同的爐溫鋼化后，無氧化、脫膜等外觀缺陷。鋼化后玻面最大色 差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 〇. 4，Δ b*g = 0.5，顏色變化極小，加工溫度敏感性實(shí)驗(yàn)合格。
[0037] 2、鋼化加熱時(shí)間延時(shí)實(shí)驗(yàn)(結(jié)果見表2):檢驗(yàn)?zāi)釉阡摶庸r(shí)間變化時(shí)膜層是 否穩(wěn)定。在雙室鋼化爐加工，上部爐溫695 °C，下部爐溫685 °C。試樣規(guī)格:6mm玻璃基片，規(guī)格 1000mm*1000mm。
[0038] 表 2
[0039]
[0040] 結(jié)論:試樣經(jīng)過不同的加熱時(shí)間鋼化后，無氧化、脫膜等外觀缺陷。鋼化后玻面最 大色差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 0.2，Δ b*g = 0.5，顏色變化極小，加熱時(shí)間延時(shí)實(shí)驗(yàn)合格。
[0041] 3、不同厚度玻璃基片鋼化實(shí)驗(yàn)(結(jié)果見表3):采用6、8、10、12111111試樣，在雙室鋼化 爐加工，上部爐溫695°C，下部爐溫685°C，加熱時(shí)間按相應(yīng)的玻璃基片厚度作調(diào)整。
[0042] 表 3
[0044] 結(jié)論:不同厚度玻璃鋼化后無外觀缺陷，實(shí)驗(yàn)合格。
[0045] 4、彎鋼化實(shí)驗(yàn)(結(jié)果見表4):檢驗(yàn)不同厚度基片的彎鋼化實(shí)驗(yàn)后，膜層是否完好、 穩(wěn)定。采用6、8、10、12mm試樣，在彎鋼爐加工，上部爐溫690°C，下部爐溫685°C。
[0046] 表 4
[0047]
[0048] 結(jié)論:試樣彎鋼化無脫膜、邊部無裂紋，外觀良好，顏色穩(wěn)定;不同厚度玻璃彎鋼化 實(shí)驗(yàn)合格。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻 璃的結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù)合介質(zhì)層/第二銀 層/第二保護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì)層/氧化鋯膜。2. 如權(quán)利要求1所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一復(fù)合介質(zhì)層 的厚度為20~50nm、第一銀層的厚度為5~15nm、第一保護(hù)層的厚度為1~l-10nm、第二復(fù)合 介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第二銀層的厚度為5~15nm、第二保護(hù)層的厚度為1~10nm、第 三復(fù)合介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第三銀層的厚度為5~15nm、第三保護(hù)層的厚度為1~ 10nm、第四復(fù)合介質(zhì)層的厚度為35~70nm、氧化錯(cuò)膜的厚度為3~IOnm 03. 如權(quán)利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一復(fù)合介質(zhì)層 包括氮化娃、氧化鋅和AZO;所述氮化娃的厚度為10~25nm、所述氧化鋅的厚度為5~15nm、 所述AZO的厚度為5~IOnm。4. 如權(quán)利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一保護(hù)層、第 二保護(hù)層和第三保護(hù)層為鎳鉻層。5. 如權(quán)利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二復(fù)合介質(zhì)層 包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅和ΑΖ0,所述氮化硅的厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度 為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述AZO的厚度為5~10nm。6. 如權(quán)利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三復(fù)合介質(zhì)層 包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅、ΑΖ0,所述氮化硅的厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度 為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述AZO的厚度為5~10nm。7. 如權(quán)利要求2所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，第四復(fù)合介質(zhì)層包括 ΑΖ0、氧化鋅和氮化娃，所述AZO的厚度為5~10nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述氮化 娃的厚度為20~40nm〇
【文檔編號(hào)】C03C17/36GK205501127SQ201620114585
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年2月4日
【發(fā)明人】余華駿, 黃穎, 梁瑞記, 葉光岱
【申請(qǐng)人】東莞南玻工程玻璃有限公司, 中國(guó)南玻集團(tuán)股份有限公司