一種高真空磁控軸瓦濺鍍的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，涉及濺渡裝置【技術領域】，結構包括濺渡殼體，濺渡殼體內設有濺渡腔，濺渡腔設有濺射靶和軸瓦支撐架，濺渡殼體底部設有底座，底座上設有濺射靶架旋轉軸，濺射靶架旋轉軸固定設有用來活動放置濺射靶的濺射靶支撐架，所述濺射靶為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，濺射靶支撐架中間固定連接有濺射靶架旋轉軸，兩側邊緣為凹凸鋸齒狀，在所述底座7上還設有擋板10，所述擋板邊緣設有與濺射靶支撐架3兩側邊緣為凹凸鋸齒狀配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架包括軸瓦支架旋轉軸和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸上用來懸掛軸瓦的掛柱，本種濺鍍方式是安全環(huán)保的，通過設置可旋轉的兩面靶，解決以往受降溫以及更換靶材等步驟制約，增加了工作產(chǎn)量、提高了效率。
【專利說明】一種高真空磁控軸瓦濺鍍機【技術領域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及濺渡裝置，尤其涉及一種高真空磁控軸瓦濺鍍機。
【背景技術】
[0002]目前標準軸瓦都分為四層:鋼背，燒結在鋼背上的銅基合金，鎳柵層，減磨合金層，通常加工標準軸瓦的方法是:1、先制造鋼背，2、在鋼背上燒結或澆筑銅基合金層，3、再在將鎳柵層電鍍于銅基合金層上，4、再送入濺鍍設備內濺鍍減磨合金層，這種方法缺點是:方法步驟中包含電鍍方式，屬于污染嚴重且對人體傷害較大的加工方法，另一種加工標準軸瓦的方法是:1、先制造鋼背，2、在鋼背上燒結或澆筑銅基合金層，3、將該軸瓦基體送入濺鍍設備分層濺鍍鎳柵層和減磨合金層，本方法是安全環(huán)保的，但缺點是由于要濺鍍兩層(鎳柵層和減磨合金層)，受目前濺鍍設備的限制，因此在濺鍍完鎳柵層后要降溫冷卻后更換鎳靶換成合金材料靶，這種濺鍍方式受降溫以及更換靶材等步驟制約，產(chǎn)量、效率很低。

【發(fā)明內容】

[0003]針對上述問題，本發(fā)明提供了一種高真空磁控軸瓦濺鍍機。
[0004]為解決上述技術問題，本發(fā)明所采用的技術方案是:提供了一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，包括濺渡殼體，濺渡殼體內設有濺渡腔，所述濺渡腔設有濺射靶和軸瓦支撐架，所述濺渡殼體底部設有底座，所述底座上設有濺射靶架旋轉軸，所述濺射靶架旋轉軸固定設有用來活動放置濺 射靶的濺射靶支撐架，所述所述濺射靶為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，所述濺射靶支撐架中間固定連接有濺射靶架旋轉軸，兩側邊緣為方便濺射靶支撐架之間互相配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架包括軸瓦支架旋轉軸和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸上用來懸掛軸瓦的掛柱。
[0005]進一步地，在所述底座下方設有電機，所述濺射靶架旋轉軸6和軸瓦支架旋轉軸各獨自連接一個電機。
[0006]進一步地，所述軸瓦支架旋轉軸表面設有多個螺紋孔，所述掛柱尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱中間半徑小于首段半徑。
[0007]進一步地，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸由一個擋板和擋板兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架以及濺渡殼體圍繞著，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸轉向相反，所述濺射靶架旋轉軸轉向為順時針。
[0008]進一步地，所述濺渡殼體頂部設置有液壓裝置，所述液壓裝置通過圓桿貫穿濺渡殼體頂面連接一個設置在濺渡殼體內部的圓形密封蓋。
[0009]由上述對本發(fā)明結構的描述可知，和現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
[0010]1.本種濺鍍方式是安全環(huán)保的，通過兩面靶，解決以往受降溫以及更換靶材等步驟制約，增加了工作產(chǎn)量、提高了效率。
[0011]2.掛柱活動連接在軸瓦支架旋轉軸上，選擇不同大小不同尺寸的掛柱以適應不同尺寸規(guī)格軸瓦的要求，這樣就避免了對不同軸瓦麻煩?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0012]構成本申請的一部分的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:
[0013]圖1為本發(fā)明一種高真空磁控軸瓦濺鍍機整體構示意圖；
[0014]圖2為本發(fā)明軸瓦支撐架的軸瓦支架旋轉軸和掛柱結構示意圖。
【具體實施方式】
[0015]為了使本發(fā)明的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
實施例
[0016]通過參考圖1和圖2，一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，包括濺渡殼體1，濺渡殼體I內設有濺渡腔2，所述濺渡腔8設有濺射靶2和軸瓦支撐架4，所述濺渡殼體I底部設有底座7，所述底座7上設有濺射靶架旋轉軸6，所述濺射靶架旋轉軸6固定設有用來活動放置濺射靶2的濺射靶支撐架3，所述所述濺射靶2為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，所述濺射靶支撐架3中間固定連接有濺射靶架旋轉軸6，兩側邊緣為凹凸鋸齒狀，在所述底座7上還設有擋板10，所述擋板邊緣設有與濺射靶支撐架3兩側邊緣為凹凸鋸齒狀配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架4包括軸瓦支架旋轉軸5和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸5上用來懸掛軸瓦的掛柱9，在所述底座7下方設有電機，所述濺射靶架旋轉軸6和軸瓦支架旋轉軸5各獨自連接一個電機，所述軸瓦支架旋轉軸5表面設有多個螺紋孔，所述掛柱9尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱9中間半徑小于首段半徑，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸5由一個擋板10和擋板10兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架3以及濺渡殼體I圍繞著，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸5轉向相反，所述濺射靶架旋轉軸6轉向為順時針，所述濺渡殼體I頂部設置有液壓裝置11，所述液壓裝置11通過圓桿貫穿濺渡殼體I頂面連接一個設置在濺渡殼體I內部的圓形密封蓋12。
[0017]所謂濺鍍，是在靶材和承載件上分別接入電源的正負極，在靶材和承載件之間即可建立起一個電磁場，電源正極為電磁場陽極，電源負極為電磁場陰極。接通電源后電磁場能量通過濺鍍設備內的惰性氣體對靶材轟擊,將靶材轟擊為中性離子濺射并沉積到對面的軸瓦基體上本發(fā)明則通過對濺射靶2設置為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，將濺射靶
2設置在濺射靶架旋轉軸6上的濺射靶支撐架3，通過旋轉濺射靶架旋轉軸6實現(xiàn)濺射靶2翻轉，在濺射靶支撐架3邊緣設置為凹凸鋸齒狀，正好與擋板10緊密配合，濺渡殼體I頂部設置有液壓裝置11，液壓裝置11通過圓桿貫穿濺渡殼體I頂面連接一個設置在濺渡殼體I內部的圓形密封蓋12，在對一面進行濺射時，密封蓋12向下緊靠擋板10和濺射靶支撐架3，使軸瓦支架旋轉軸5存在一個密閉范圍內，在對一面進行濺射不容易造成不同靶面的不同靶材的污染，才能保持濺射靶2表面平整度，提高最終濺射效果，軸瓦支架旋轉軸5表面設有多個螺紋孔，掛柱9尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱9中間半徑小于首段半徑，自行選擇不同型號掛柱9，使其方便不同軸瓦的濺渡。[0018]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種高真空磁控軸瓦濺鍍機,包括濺渡殼體(I),濺渡殼體(I)內設有濺渡腔(2 )，所述濺渡腔(8 )設有濺射靶(2 )和軸瓦支撐架(4 )，所述濺渡殼體(I)底部設有底座(7 )，其特征在于:在所述，所述底座(7 )上設有濺射靶架旋轉軸(6 )，所述濺射靶架旋轉軸(6 )固定設有用來活動放置濺射靶(2)的濺射靶支撐架(3)，所述所述濺射靶(2)為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，所述濺射靶支撐架(3)中間固定連接有濺射靶架旋轉軸(6)，兩側邊緣為凹凸鋸齒狀，在所述底座7上還設有擋板(10)，所述擋板(10)邊緣設有與濺射靶支撐架(3)兩側邊緣為凹凸鋸齒狀配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架(4)包括軸瓦支架旋轉軸(5)和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸(5)上用來懸掛軸瓦的掛柱(9)。
2.根據(jù)權利要求1所述一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于:在所述底座(7)下方設有電機，所述濺射靶架旋轉軸(6)和軸瓦支架旋轉軸(5)各獨自連接一個電機。
3.根據(jù)權利要求1所述一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于:所述軸瓦支架旋轉軸(5)表面設有多個螺紋孔，所述掛柱(9)尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱(9)中間半徑小于首段半徑。
4.根據(jù)權利要求1所述一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于:所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸(5)由一個擋板(10)和擋板(10)兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架(3)以及濺渡殼體(I)圍繞著，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸(5)轉向相反，所述濺射靶架旋轉軸(6)轉向為順時針。
5.根據(jù)權利要求1所述一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，其特征在于:所述濺渡殼體(I)頂部設置有液壓裝置(11)，所述液壓裝置(11)通過圓桿貫穿濺渡殼體(I)頂面連接一個設置在濺渡殼體(I)內部的圓形密封蓋(12)。
【文檔編號】C23C14/35GK203768450SQ201420130056
【公開日】2014年8月13日 申請日期:2014年3月21日 優(yōu)先權日:2014年3月21日
【發(fā)明者】木儉樸 申請人:煙臺大豐軸瓦有限責任公司