專利名稱：一種金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種金屬箔鍍膜設(shè)備，具體涉及一種以卷裝金屬箔為鍍膜加工對象的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，屬于金屬表面鍍膜處理裝備技術(shù)。
背景技術(shù)：
本實用新型所述金屬箔是指銅箔或鋁箔或其它具有特好導(dǎo)熱性能的貴金屬箔。金屬箔表面鍍膜(包括單面鍍膜和雙面鍍膜)的目的在于多個方面，而本實用新型的金屬箔表面鍍膜的目的，主要在于有效提高金屬箔接受光熱輻射的能力，即降低其反射率提高其吸收率。平板型太陽能集熱器板芯所用的金屬箔，一般是在其工作表面具有包括與金屬箔表面結(jié)合的底膜層、減反射膜層、選擇性吸收膜層和表面抗氧化自潔保護(hù)膜層在內(nèi)的膜系結(jié)構(gòu)層的導(dǎo)熱性能特好的金屬箔(鋁箔或銅箔)。而所述金屬箔表面的鍍膜加工處理，可以是單片金屬箔分片鍍膜加工處理，或者是卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜加工處理。顯然，由于后者的生產(chǎn)效率高，加工成本低，而被制造業(yè)所樂意采用。已有技術(shù)的卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，諸如中國專利200810045199.4、200910166892.1,200910167664.6,201110193478.7 和 201210099029.0 等，都有與其相關(guān)的技術(shù)報道，當(dāng)然也都可以取得成功。然而已有技術(shù)的各個工作室的室內(nèi)腔體積較大，以致其抽真空的能耗和工作介質(zhì)(Ar、N、0等)的耗用量較大，且由于室內(nèi)腔有多個“死角”存在，以致影響室內(nèi)腔的工作環(huán)境和工作介質(zhì)的有效利用；與此同時，已有技術(shù)之存在于外界大氣中的金屬箔，通過真空度遞增過渡區(qū)段后，直接進(jìn)入離子清洗區(qū)段，由于金屬箔當(dāng)時的溫度較低(尤其是寒冷季節(jié)的金屬箔溫度更低)，而其表層所附著的雜質(zhì)的活性較差，以致降低了金屬箔表面實施離子轟擊清洗的效果，影響了所述底膜層與金屬箔表面的結(jié)合強度，給所述膜系結(jié)構(gòu)層與金屬箔的結(jié)合造成剝離隱患，而嚴(yán)重影響了制成品的質(zhì)量和使用壽命；而且由于金屬箔與鍍膜工作室的溫差較大，也會直接影響鍍膜的效率和包括鍍膜層厚度一致性在內(nèi)的鍍膜質(zhì)量。由于已有技術(shù)所存在的諸多結(jié)構(gòu)性不足，以致不同程度存在著膜系結(jié)構(gòu)層易于剝落，工藝成本較高，制成品質(zhì)量不穩(wěn)定等不足。為此研發(fā)一種能夠克服已有技術(shù)不足的金屬箔鍍膜設(shè)備，便成為業(yè)內(nèi)共同關(guān)注的課題。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型旨在提供一種膜系結(jié)構(gòu)層與金屬箔表面結(jié)合強度好，工藝成本較低，制成品質(zhì)量較好的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，以克服已有技術(shù)的不足。本實用新型實現(xiàn)其目的的技術(shù)思路:一是在真空度遞增過渡區(qū)段與離子清洗區(qū)段之間，加設(shè)電加熱區(qū)段，通過電加熱提高金屬箔自身的溫度，且保持金屬箔始終處在一個適宜鍍膜加工處理的溫度范圍內(nèi)，以有效提高金屬箔表面清洗效果，提高底膜層與金屬箔表面的結(jié)合強度和鍍膜質(zhì)量；二是將整個設(shè)備的所有工作室的室內(nèi)腔，改進(jìn)為呈橄欖表面形拱頂室內(nèi)腔，以有效縮小各個工作室室內(nèi)腔的體積，有效提高抽真空的效率和節(jié)約降低工作介質(zhì)(N、0、Ar等)的耗用量，且利用室內(nèi)腔兩端弧形面的反射，提高鍍膜效率和鍍膜質(zhì)量，以降低工藝成本、提高鍍膜品質(zhì)；三是在思路之二的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上，將各工藝工作室室內(nèi)腔改進(jìn)成上下對稱布置的雙工藝工作室內(nèi)腔，實施2個卷裝金屬箔同步鍍膜加工處理，以有效提高生產(chǎn)效率，從而實現(xiàn)本實用新型的目的?；谝陨纤黾夹g(shù)構(gòu)想，本實用新型實現(xiàn)其目的的技術(shù)方案是:一種金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，以卷裝金屬箔為鍍膜加工對象，且對金屬箔的表面實施連續(xù)鍍膜處理；該設(shè)備包括:具有可編程序控制器的電控器，具有包括放卷架座和布置在放卷架座上的放卷輥組件在內(nèi)的放卷裝置的放卷區(qū)段，具有至少2個由相互間保留金屬箔運動通道且密封連接的設(shè)有抽真空管路的第一真空室構(gòu)成的真空度遞增過渡區(qū)段，具有至少I個由設(shè)有抽真空管路，電極和工作介質(zhì)管路的離子清洗室構(gòu)成的金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段，具有若干組相互保留金屬箔運動通道且密封連接的，且每組至少有I個設(shè)有濺射靶基、抽真空管路和工作介質(zhì)管路的磁控濺射鍍膜室構(gòu)成的連續(xù)鍍膜區(qū)段，具有至少2個由相互保留金屬箔運動通道且密封連接的具有抽真空管路的第二真空室構(gòu)成的真空度遞減過渡區(qū)段，具有冷卻裝置的冷卻區(qū)段，以及具有包括收卷架座，分別布置在收卷架座上的卷筒紙復(fù)紙構(gòu)件和由驅(qū)動電機驅(qū)動的收卷構(gòu)件，以及其恒線速度控制器在內(nèi)的復(fù)紙收卷裝置的金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段；而所述真空度遞增過渡區(qū)段、離子清洗區(qū)段、連續(xù)鍍膜區(qū)段和真空度遞減過渡區(qū)段依次相互保留金屬箔運動通道且密封連接，從而構(gòu)成一條連續(xù)生產(chǎn)加工線，且所述所有區(qū)段各自的工作及其工藝參數(shù)，均通過相對應(yīng)的控制件接受電控器控制；而其:a、還包括對金屬箔實施加熱的電加熱區(qū)段；所述電加熱區(qū)段由至少I個兩側(cè)保留金屬箔運動通道且具有電加熱裝置和溫度傳感器的電加熱室所構(gòu)成；所述電加熱區(qū)段布置在所述真空度遞增過渡區(qū)段與所述金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段之間且互相保留金屬箔運動通道密封連接；所述電加熱室的電加熱裝置通過溫度傳感器接受電控器控制；b、所述真空度遞增過渡區(qū)段的各個第一真空室，電加熱區(qū)段的各個電加熱室，離子清洗區(qū)段的各個離子清洗室，連續(xù)鍍膜區(qū)段的各個磁控濺射鍍膜室，以及真空度遞減過渡區(qū)段的各個第二真空室，五者直面金屬箔鍍膜面的室內(nèi)腔，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接的呈橄欖表面形第一拱形室內(nèi)腔；C、所述冷卻區(qū)段的冷卻裝置，是由2只有間距分開相對布置在支架上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒和用來探測中空冷卻滾筒表面溫度的第二溫度傳感器所組成；所述2只中空冷卻滾筒的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，通過第二溫度傳感器接受電控器控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段導(dǎo)出后，通過纏繞2個中空冷卻滾筒的表面而接受冷卻；d、所述金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段的收卷構(gòu)件，由其恒線度檢測器通過電控器控制驅(qū)動電機而實現(xiàn)勻線速度卷繞收卷，并牽引該設(shè)備的金屬箔鍍膜加工的全過程運動。出于有效提高本實用新型生產(chǎn)效率的考慮，本實用新型還主張，所述鍍膜加工對象卷裝金屬箔有2個，而其:a、由所述2個卷裝金屬箔，分別通過布置在放卷架座上的2個放卷輥組件放卷的金屬箔，經(jīng)由整合導(dǎo)箔輥整后成背靠背上下對齊的雙層金屬箔，且同步前行導(dǎo)入所述真空度遞增過渡區(qū)段而實施在后的雙金屬箔外表面的同步鍍膜加工；b、所述真空度遞增過渡區(qū)段的各個第一真空室，電加熱區(qū)段的電加熱室，離子清洗區(qū)段的各個離子清洗室，連續(xù)鍍膜區(qū)段的各個磁控濺射鍍膜室，以及真空度遞減過渡區(qū)段的各個第二真室，五者室內(nèi)腔的相對于其第一拱形室內(nèi)腔的對面，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接，且具有與所述第一拱形室內(nèi)腔相同的工藝管路和工作構(gòu)件的第二拱形室內(nèi)腔，且第二拱形室內(nèi)腔與第一拱形室內(nèi)腔相互對稱布置；當(dāng)鍍膜加工對象雙金屬箔沿著第一拱形室內(nèi)腔與第二拱形室內(nèi)腔對稱軸線通過時，對上下2層金屬箔的鍍膜面同時實施鍍膜加工處理；所述第二拱形室內(nèi)腔的工作和工藝參數(shù)，與第一拱形室內(nèi)腔的工作和工藝參數(shù)一起，接受電控器控制；C、所述冷卻區(qū)段的冷卻裝置，是由4只有間距分開相對布置在支架上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒所組成；所述4只中空冷卻滾筒的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，均通過第二溫度傳感器接受電控器控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的2行金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段導(dǎo)出后分開前行，且分別通過纏繞上、下兩組每組2個中空冷卻滾筒的表面而接受冷卻；d、所述復(fù)紙和收卷區(qū)段，通過在I個收卷架座上的2組分別由復(fù)紙構(gòu)件和收卷構(gòu)件所組成的復(fù)紙收卷裝置，分別對由冷卻區(qū)段導(dǎo)出的2行金屬箔鍍膜層表面復(fù)紙和實施收卷。在上述技術(shù)方案中，本實用新型還主張，還包括分別設(shè)在放卷區(qū)段及復(fù)紙和收卷區(qū)段部位的放卷糾偏裝置和收卷糾偏裝置；而:所述放卷糾偏裝置，是在放卷裝置的放卷架座底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第一滾輪組件；還包括與左、右第一滾輪組件相配裝的第一導(dǎo)軌副，一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿與放卷架座鉸接的第一氣動組件，以及布置在靠近所述真空度遞增過渡區(qū)入口處左右兩側(cè)的金屬箔外側(cè)邊界限部位的第一紅外探測組件，且第一氣動組件的氣路控制電磁閥接受電控器控制；當(dāng)金屬箔的外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第一紅外探測組件經(jīng)電控器通過第一氣動組件的氣路控制電磁閥，令放卷架座沿第一導(dǎo)軌副位移而實現(xiàn)對中，從而使金屬箔始終保持對中運行；所述收卷糾偏裝置，是在收卷架座的底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第二滾輪組件；還包括與左、右第二滾輪組件相配裝的第二導(dǎo)軌副，一端與固定件鉸接的而另一端的活塞桿與收卷架座鉸接的第二氣動組件，以及布置在收卷構(gòu)件入口處的左、右兩側(cè)鍍膜金屬箔外側(cè)邊界限部位的第二紅外探測組件，且第二氣動組件的氣路電磁閥接受電控器控制；當(dāng)鍍膜金屬箔外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第二紅外探測組件，經(jīng)電控器通過第二氣動組件的氣路控制電磁閥，令收卷架座沿第二導(dǎo)軌副位移而實現(xiàn)對中，從而使鍍膜金屬箔始終保持對中收卷運行。在上述技術(shù)方案中，本實用新型還主張，還包括恒張力控制裝置；所述恒張力控制裝置有2個，2個恒張力控制裝置，分別布置在所述放卷區(qū)段及復(fù)紙和收卷區(qū)段；而所述恒張力控制裝置，由與金屬箔或鍍膜金屬箔相滾動抵接的張力感受組件，和恒張力調(diào)節(jié)組件所組成；所述恒張力調(diào)節(jié)組件，由一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿和與金屬箔或鍍膜金屬箔滾動抵接的張力調(diào)節(jié)滾筒鉸接的恒張力調(diào)節(jié)氣動組件所組成；當(dāng)處在所述放卷區(qū)段的金屬箔或處在復(fù)紙和收卷區(qū)段的鍍膜金屬箔的運動張力大于或小于所設(shè)定的張力時，所述張力感受組件即時通過電控器控制恒張力調(diào)節(jié)氣動組件的氣路控制電磁閥，令張力調(diào)節(jié)滾筒沿恒張力調(diào)節(jié)氣動組件的軸向伸縮運動，對金屬箔或鍍膜金屬箔實施恒張力調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)金屬箔或鍍膜金屬箔的恒張力控制。在上述技術(shù)方案中，本實用新型還主張，所述連續(xù)鍍膜區(qū)段可根據(jù)金屬箔表面的膜系結(jié)構(gòu)層，設(shè)定其適應(yīng)多種不同鍍層的鍍膜區(qū)段；而所述連續(xù)鍍膜區(qū)段由第一鍍膜片段，第二鍍膜片段，第三鍍膜片段和第四鍍膜片段所組成，且所述第一、第二、第三和第四鍍膜片段相互保留金屬箔運動通道依次密封連接。但不局限于此，可以根據(jù)金屬箔表面所鍍布的膜系結(jié)構(gòu)層的層數(shù)要求，再增加第五及其以上的鍍膜片段。在上述技術(shù)方案中，本實用新型還主張，所述真空度遞增區(qū)段的第一真空室有3個；且在其入口處和相鄰2個第一真空室之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第一隔離室，且所述第一隔離室分別與相鄰的第一真空室保留金屬箔運行通道密封連接；而所述真空度遞減區(qū)段的第二真空室有3個，且在其入口處和出口處以及相鄰2個第二真空室之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第二隔離室，且所述第二隔離室分別與相鄰的第二真空室保留金屬箔運行通道密封連接。其中，所述機械式阻尼結(jié)構(gòu)是一種公知的已有技術(shù)，它是通過金屬板件和橡塑件以及導(dǎo)輥副組合成的用于避免竄漏氣體介質(zhì)的一種密封件。但并不局限于此。在上述技術(shù)方案中，本實用新型還主張，所述電加熱區(qū)段的電加熱室有I個；所述離子清洗區(qū)段的離子清洗室有2個；所述連續(xù)鍍膜區(qū)段的磁控濺射鍍膜室有8個，且分別由連續(xù)2個磁控濺射鍍膜室分成4組不同鍍膜工作內(nèi)容的鍍膜區(qū)段；且在電加熱室與離子清洗室之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的真空度遞增區(qū)段的第一真空室與離子清洗區(qū)段的清洗室之真空度的具有抽真空管路的第一真空隔離室；在離子清洗區(qū)段的離子清洗與連續(xù)鍍膜區(qū)段的磁控濺射鍍膜室之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的離子清洗室和磁控濺射鍍膜室之真空度的具有抽真空管路的第二真空隔離室；在連續(xù)鍍膜區(qū)段的相鄰2個磁控濺射鍍膜室之間，均還設(shè)有真空度大于或等于相鄰磁控濺射鍍膜室之真空度的具有抽真空管路的第三真空隔離室；且所述第一、第二和第三真空隔離室，均保留金屬箔運行通道且分別與其相鄰接的相關(guān)工藝工作室密封連接，且第一、第二和第三真空隔室的抽真空工作接受電控器控制。其目的顯然在于避免相鄰2個工藝工作室之間相互發(fā)生干擾影響。但并不局限于此。尤其是在相鄰2個工藝工作室密封連接優(yōu)良條件下，不設(shè)真空隔離室也是可以的。本實用新型還主張，當(dāng)采用一個卷裝金屬箔作為鍍膜加工對象時，還適用于金屬箔雙面鍍膜加工處理。以實現(xiàn)“一機二用”，有效提高本實用新型的設(shè)備利用率。上述技術(shù)方案得以實施后，我們結(jié)合在前所述的實現(xiàn)其目的的技術(shù)構(gòu)想可以明了，其所具有的結(jié)構(gòu)合理，自動化程度高，節(jié)能減耗，工藝成本低，制成品質(zhì)量好，生產(chǎn)效率聞等特點是顯而易見的。

圖1是本實用新型具體實施雙卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型放卷糾編裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；[0033]圖3是圖2的俯視圖；圖4是本實用新型收卷糾偏裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是圖4的俯視圖；圖6是本實用新型放卷區(qū)段的恒張力控制裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本實用新型收卷區(qū)段的恒張力控制裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖，通過具體實施方式
的描述，對本實用新型作進(jìn)一步說明。
具體實施方式
之一，請參閱附圖1，且如附圖2 7所示。一種金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，以卷裝金屬箔10為鍍膜加工對象，而所述卷裝金屬箔10有I個,且對金屬箔的表面實施連續(xù)鍍膜處理；該設(shè)備包括安裝在機座上的:具有可編程序控制器的電控器I，具有包括放卷架座2-1和布置在放卷架座2-1上的放卷輥組件2-2在內(nèi)的放卷裝置的放卷區(qū)段2，具有至少2個由相互間保留金屬箔運動通道且密封連接的設(shè)有抽真空管路3-1-1的第一真空室3-1構(gòu)成的真空度遞增過渡區(qū)段3，具有至少I個由設(shè)有抽真空管路4-1-1，電極2-1-2和工作介質(zhì)管路4-1-3的離子清洗室4-1構(gòu)成的金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段4，具有若干組相互保留金屬箔運動通道且密封連接的，且每組至少有I個設(shè)有濺射靶基5-1-1、抽真空管路5-1-2和工作介質(zhì)管路5-1-3的磁控濺射鍍膜室5-1構(gòu)成的連續(xù)鍍膜區(qū)段5，和具有至少2個由相互保留金屬箔運動通道且密封連接的具有抽真空管路6-1-1的第二真空室6-1構(gòu)成的真空度遞減過渡區(qū)段6，以及具有冷卻裝置7-1的冷卻區(qū)段7，和具有包括收卷架座8-1，分別布置在收卷架座8-1上的卷筒紙復(fù)紙構(gòu)件8-2和由驅(qū)動電機8-3驅(qū)動的收卷構(gòu)件8-4，以及其恒線速度控制器8-5在內(nèi)的復(fù)紙收卷裝置的金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段8 ;而所述真空度遞增過渡區(qū)段3、離子清洗區(qū)段4、連續(xù)鍍膜區(qū)段5和真空度遞減過渡區(qū)段6依次相互保留金屬箔運動通道且密封連接，從而構(gòu)成一條連續(xù)生產(chǎn)加工線，且所述所有區(qū)段2、3、4、5、6、7、8各自的工作及其工藝參數(shù)，均通過相對應(yīng)的控制件接受電控器I控制；而其:a、還包括對金屬箔實施加熱的電加熱區(qū)段9 ;所述電加熱區(qū)段9由至少I個兩側(cè)保留金屬箔運動通道且具有電加熱裝置9-1-1和溫度傳感器9-1-2的電加熱室9-1所構(gòu)成；所述電加熱區(qū)段9布置在所述真空度遞增過渡區(qū)段3與所述金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段4之間且互相保留金屬箔運動通道密封連接；所述電加熱室9-1的電加熱裝置9-1-1通過溫度傳感器9-1-2接受電控器I控制；b、所述真空度遞增過渡區(qū)段3的各個第一真空室3-1，電加熱區(qū)段9的各個電加熱室9-1，離子清洗區(qū)段4的各個離子清洗室4-1，連續(xù)鍍膜區(qū)段5的各個磁控濺射鍍膜室5-1，以及真空度遞減過渡區(qū)段6的各個第二真空室6-1，五者直面金屬箔鍍膜面的室內(nèi)腔，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接的呈橄欖表面形第一拱形室內(nèi)腔G1 ；C、所述冷卻區(qū)段7的冷卻裝置7-1，是由2只有間距分開相對布置在支架7-1-1上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒7-1-2和用來探測中空冷卻滾筒7-1-2表面溫度的第二溫度傳感器7-1-3所組成；所述2只中空冷卻滾筒7-1-2的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，通過第二溫度傳感器7-1-3接受電控器I控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段6導(dǎo)出后，通過纏繞2個中空冷卻滾筒7-1-2的表面而接受冷卻；d、所述金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段8的收卷構(gòu)件8-4，由其與收卷構(gòu)件8-4的收卷輥配裝的恒線度檢測器8-5通過電控器I控制變速驅(qū)動電機8-3而實現(xiàn)勻線速度卷繞收卷，并牽引該設(shè)備的金屬箔鍍膜加工的全過程運動。還包括分別設(shè)在放卷區(qū)段2及復(fù)紙和收卷區(qū)段8部位的放卷糾偏裝置12和收卷糾偏裝置13 ;而:所述放卷糾偏裝置12，是在放卷裝置的放卷架座2-1底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第一滾輪組件2-1-1 ;還包括與左、右第一滾輪組件2-1-1相配裝的第一導(dǎo)軌副12-1，一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿與放卷架座2-1鉸接的第一氣動組件12-2，以及布置在靠近所述真空度遞增過渡區(qū)3入口處左右兩側(cè)的金屬箔外側(cè)邊界限部位的第一紅外探測組件12-3，且第一氣動組件12-2的氣路控制電磁閥接受電控器I控制；當(dāng)金屬箔的外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第一紅外探測組件12-3經(jīng)電控器I通過第一氣動組件12-2的氣路控制電磁閥，令放卷架座2-1沿第一導(dǎo)軌副12-1位移而實現(xiàn)對中，從而使金屬箔始終保持對中運行；所述收卷糾偏裝置13，是在收卷架座8-1的底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第二滾輪組件8-1-1 ;還包括與左、右第二滾輪組件
8-1-1相配裝的第二導(dǎo)軌副13-1，一端與固定件鉸接的而另一端的活塞桿與收卷架座8-1鉸接的第二氣動組件13-2，以及布置在收卷構(gòu)件8-4入口處的左、右兩側(cè)鍍膜金屬箔外側(cè)邊界限部位的第二紅外探測組件13-3，且第二氣動組件13-2的氣路電磁閥接受電控器I控制；當(dāng)鍍膜金屬箔外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第二紅外探測組件13-3，經(jīng)電控器I通過第二氣動組件13-2的氣路控制電磁閥，令收卷架座8-1沿第二導(dǎo)軌副13-1位移而實現(xiàn)對中，從而使鍍膜金屬箔始終保持對中收卷運行。還包括恒張力控制裝置14 ;所述恒張力控制裝置14有2個，2個恒張力控制裝置14，分別布置在所述放卷區(qū)段2及復(fù)紙和收卷區(qū)段8 ;而所述恒張力控制裝置14，由與金屬箔或鍍膜金屬箔相滾動抵接的張力感受組件14-1，和恒張力調(diào)節(jié)組件14-2所組成；所述恒張力調(diào)節(jié)組件14-2，由一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿和與金屬箔或鍍膜金屬箔滾動抵接的張力調(diào)節(jié)滾筒14-2-1鉸接的恒張力調(diào)節(jié)氣動組件14-2-2所組成；當(dāng)處在所述放卷區(qū)段2的金屬箔或處在復(fù)紙和收卷區(qū)段8的鍍膜金屬箔的運動張力大于或小于所設(shè)定的張力時，所述張力感受組件14-1即時通過電控器I控制恒張力調(diào)節(jié)氣動組件14-2-2的氣路控制電磁閥，令張力調(diào)節(jié)滾筒14-2-1沿恒張力調(diào)節(jié)氣動組件14-2-2的軸向伸縮運動,對金屬箔或鍍膜金屬箔實施恒張力調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)金屬箔或鍍膜金屬箔的恒張力控制。而所述連續(xù)鍍膜區(qū)段5可根據(jù)金屬箔表面的膜系結(jié)構(gòu)層，設(shè)定其適應(yīng)多種不同鍍層的鍍膜區(qū)段；而所述連續(xù)鍍膜區(qū)段5由第一鍍膜片段5a，第二鍍膜片段5b，第三鍍膜片段5c和第四鍍膜片段5d所組成，且所述第一、第二、第三和第四鍍膜片段5a、5b、5c、5d相互保留金屬箔運動通道依次密封連接。而所述真空度遞增區(qū)段3的第一真空室3-1有3個；且在其入口處和相鄰2個第一真空室3-1之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第一隔離室15，且所述第一隔離室15分別與相鄰的第一真空室3-1保留金屬箔運行通道密封連接；而所述真空度遞減區(qū)段6的第二真空室6-1有3個，且在其入口處和出口處以及相鄰2個第二真空室6-1之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第二隔離室16，且所述第二隔離室16分別與相鄰的第二真空室6-1保留金屬箔運行通道密封連接。而所述電加熱區(qū)段9的電加熱室9-1有I個；所述離子清洗區(qū)段4的離子清洗室4-1有2個；所述連續(xù)鍍膜區(qū)段5的磁控濺射鍍膜室5-1有8個，且分別由連續(xù)2個磁控濺射鍍膜室5-1分成4組不同鍍膜工作內(nèi)容的鍍膜區(qū)段；且在電加熱室9-1與離子清洗室4-1之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的真空度遞增區(qū)段3的第一真空室3-1與離子清洗區(qū)段4的清洗室4-1之真空度的具有抽真空管17-1的第一真空隔離室17 ;在離子清洗區(qū)段4的離子清洗4-1與連續(xù)鍍膜區(qū)段5的磁控濺射鍍膜室5-1之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的離子清洗室4-1和磁控濺射鍍膜室5-1之真空度的具有抽真空管路18-1的第二真空隔離室18 ;在連續(xù)鍍膜區(qū)段5的相鄰2個磁控濺射鍍膜室5-1之間，均還設(shè)有真空度大于或等于相鄰磁控濺射鍍膜室5-1之真空度的具有抽真空管路19-1的第三真空隔離室19 ;且所述第一、第二和第三真空隔離室17、18、19，均保留金屬箔運行通道且分別與其相鄰接的相關(guān)工藝工作室密封連接，且第一、第二和第三真空隔離室17、18、19的抽真空工作接受電控器I控制。
具體實施方式
之二，如附圖f 7所示。一種卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，所述鍍膜加工對象卷裝金屬箔10有2個，且其:a、由所述2個卷裝金屬箔10，分別通過布置在放卷架座2_1上的2個放卷輥組件2-2放卷的金屬箔，經(jīng)由整合導(dǎo)箔輥11整后成背靠背上下對齊的雙層金屬箔，且同步前行導(dǎo)入所述真空度遞增過渡區(qū)段3而實施在后的雙金屬箔外表面的同步鍍膜加工；b、所述真空度遞增過渡區(qū)段3的各個第一真空室3-1，電加熱區(qū)段9的電加熱室
9-1，離子清洗區(qū)段的各個離子清洗室4-1，連續(xù)鍍膜區(qū)段5的各個磁控濺射鍍膜室5-1，以及真空度遞減過渡區(qū)段6的各個第二真室6-1，五者室內(nèi)腔的相對于其第一拱形室內(nèi)腔G1的對面，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接，且具有與所述第一拱形室內(nèi)腔G1相同的工藝管路和工作構(gòu)件的第二拱形室內(nèi)腔G2，且第二拱形室內(nèi)腔G2與第一拱形室內(nèi)腔匕相互對稱布置；當(dāng)鍍膜加工對象雙金屬箔沿著第一拱形室內(nèi)腔G1與第二拱形室內(nèi)腔62對稱軸線通過時，對上下2層金屬箔的鍍膜面同時實施鍍膜加工處理；所述第二拱形室內(nèi)腔G2的工作和工藝參數(shù)，與第一拱形室內(nèi)腔G1的工作和工藝參數(shù)一起，接受電控器I控制；C、所述冷卻區(qū)段7的冷卻裝置7-1，是由4只有間距分開相對布置在支架7-1-1上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒7-1-2所組成；所述4只中空冷卻滾筒7-1-2的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，均通過第二溫度傳感器7-1-3接受電控器I控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的2行金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段6導(dǎo)出后分開前行，且分別通過纏繞上、下兩組每組2個中空冷卻滾筒7-1-2的表面而接受冷卻；d、所述復(fù)紙和收卷區(qū)段8，通過在I個收卷架座8-1上的2組分別由復(fù)紙構(gòu)件8-2和收卷構(gòu)件8-4所組成的復(fù)紙收卷裝置，分別對由冷卻區(qū)段7導(dǎo)出的2行金屬箔鍍膜層表面復(fù)紙和實施收卷。除以上所述內(nèi)容之外，其它均如同具體實施方式
之二。
具體實施方式
之三，請參讀附圖1，且如附圖2 I所示。一種卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，當(dāng)采用一個卷裝金屬箔10作為鍍膜加工對象時，還適用于金屬箔雙面鍍膜加工處理。除此之外，其它均如同具體實施方式
之二。本實用新型具體實施方式
所描述的3種卷裝金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，在給其電控器I的可編程控制器輸入工藝軟件，接通抽真空輸入管路和工藝介質(zhì)輸入管路，并在濺射靶基上裝置靶材后，即可開機投入正常鍍膜加工，而所述鍍膜加工的程序，均按通常的鍍膜工藝步驟安排布置，而其工藝工作參數(shù)，均按通常的工藝參數(shù)執(zhí)行。這里還應(yīng)當(dāng)說明的是，可利用所述第一真空隔離室17、第二真空隔離室18和第三真空隔離室19，分別對電加熱室9-1，離子清洗室4-1和磁控濺射鍍膜室5-1實施抽真空，然后通過導(dǎo)入工作介質(zhì)，分別使電加熱室9-1，離子清洗室4-1和磁控濺射鍍膜室5-1的真空度達(dá)到工藝真空度。在這樣的條件下，所述電加熱室9-1，離子清洗室4-1和磁控濺射鍍膜室5-1，均可以不設(shè)抽真空管路。本實用新型初樣實施鍍膜加工處理的過程是令人滿意的，可比已有技術(shù)節(jié)能降耗15%以上，制成品質(zhì)量好于已有技術(shù)，生產(chǎn)效率至少提高20%，取得了明顯的技術(shù)經(jīng)濟效益，實現(xiàn)了本實用新型的初衷。本實用新型的使用范圍不受說明書描述的限制，至少還可以適用于裝飾板材表面的鍍膜處理，以及反光鏡面材料的表面鍍膜處理等等。
權(quán)利要求1.一種金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，以卷裝金屬箔(10)為鍍膜加工對象，且對金屬箔的表面實施連續(xù)鍍膜處理；該設(shè)備包括:具有可編程序控制器的電控器(1)，具有包括放卷架座(2-1)和布置在放卷架座(2-1)上的放卷輥組件(2-2)在內(nèi)的放卷裝置的放卷區(qū)段(2)，具有至少2個由相互間保留金屬箔運動通道且密封連接的設(shè)有抽真空管路(3-1-1)的第一真空室(3-1)構(gòu)成的真空度遞增過渡區(qū)段(3)，具有至少I個由設(shè)有抽真空管路(4-1-1)，電極(2-1-2)和工作介質(zhì)管路(4-1-3)的離子清洗室(4-1)構(gòu)成的金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段(4)，具有若干組相互保留金屬箔運動通道且密封連接的，且每組至少有I個設(shè)有濺射靶基(5-1-1)、抽真空管路(5-1-2)和工作介質(zhì)管路(5-1-3)的磁控濺射鍍膜室(5-1)構(gòu)成的連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)，具有至少2個由相互保留金屬箔運動通道且密封連接的具有抽真空管路(6-1-1)的第二真空室(6-1)構(gòu)成的真空度遞減過渡區(qū)段(6)，具有冷卻裝置(7-1)的冷卻區(qū)段(7)，以及具有包括收卷架座(8-1)，分別布置在收卷架座(8-1)上的卷筒紙復(fù)紙構(gòu)件(8-2)和由驅(qū)動電機(8-3)驅(qū)動的收卷構(gòu)件(8-4)，以及其恒線速度控制器(8-5)在內(nèi)的復(fù)紙收卷裝置的金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段(8);而所述真空度遞增過渡區(qū)段(3)、離子清洗區(qū)段(4)、連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)和真空度遞減過渡區(qū)段(6)依次相互保留金屬箔運動通道且密封連接，從而構(gòu)成一條連續(xù)生產(chǎn)加工線，且所述所有區(qū)段(2、3、4、5、6、7、8)各自的工作及其工藝參數(shù)，均通過相對應(yīng)的控制件接受電控器(I)控制； 其特征在于: a、還包括對金屬箔實施加熱的電加熱區(qū)段(9);所述電加熱區(qū)段(9)由至少I個兩側(cè)保留金屬箔運動通道且具有電加熱裝置(9-1-1)和溫度傳感器(9-1-2)的電加熱室(9-1)所構(gòu)成；所述電加熱區(qū)段(9)布置在所述真空度遞增過渡區(qū)段(3)與所述金屬箔鍍膜面離子清洗區(qū)段(4)之間且互相保留金屬箔運動通道密封連接；所述電加熱室(9-1)的電加熱裝置(9-1-1)通過溫度傳感器(9-1-2)接受電控器(I)控制； b、所述真空度遞增過渡區(qū)段(3)的各個第一真空室(3-1)，電加熱區(qū)段(9)的各個電加熱室(9-1)，離子清洗區(qū)段( 4)的各個離子清洗室(4-1)，連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)的各個磁控濺射鍍膜室(5-1)，以及真空度遞減過渡區(qū)段(6)的各個第二真空室(6-1)，五者直面金屬箔鍍膜面的室內(nèi)腔，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接的呈橄欖表面形第一拱形室內(nèi)腔(G1); C、所述冷卻區(qū)段(7)的冷卻裝置(7-1)，是由2只有間距分開相對布置在支架(7-1-1)上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒(7-1-2)和用來探測中空冷卻滾筒(7-1-2)表面溫度的第二溫度傳感器(7-1-3)所組成；所述2只中空冷卻滾筒(7-1-2)的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，通過第二溫度傳感器(7-1-3 )接受電控器(I)控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段(6)導(dǎo)出后，通過纏繞2個中空冷卻滾筒(7-1-2)的表面而接受冷卻； d、所述金屬箔鍍膜面復(fù)紙和收卷區(qū)段(8)的收卷構(gòu)件(8-4)，由其恒線度檢測器(8-5)通過電控器(I)控制驅(qū)動電機(8-3)而實現(xiàn)勻線速度卷繞收卷，并牽引該設(shè)備的金屬箔鍍膜加工的全過程運動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述鍍膜加工對象卷裝金屬箔(10)有2個，且其: a、由所述2個卷裝金屬箔(10)，分別通過布置在放卷架座(2-1)上的2個放卷輥組件(2-2)放卷的金屬箔，經(jīng)由整合導(dǎo)箔輥(11)整后成背靠背上下對齊的雙層金屬箔，且同步前行導(dǎo)入所述真空度遞增過渡區(qū)段(3)而實施在后的雙金屬箔外表面的同步鍍膜加工； b、所述真空度遞增過渡區(qū)段(3)的各個第一真空室(3-1)，電加熱區(qū)段(9)的電加熱室(9-1)，離子清洗區(qū)段的各個離子清洗室(4-1)，連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)的各個磁控濺射鍍膜室(5-1)，以及真空度遞減過渡區(qū)段(6)的各個第二真室(6-1)，五者室內(nèi)腔的相對于其第一拱形室內(nèi)腔(G1)的對面，均為兩端分別是弧形線而中間由直線過渡連接，且具有與所述第一拱形室內(nèi)腔(G1)相同的工藝管路和工作構(gòu)件的第二拱形室內(nèi)腔(G2),且第二拱形室內(nèi)腔(G2)與第一拱形室內(nèi)腔(G1)相互對稱布置；當(dāng)鍍膜加工對象雙金屬箔沿著第一拱形室內(nèi)腔(G1)與第二拱形室內(nèi)腔(G2)對稱軸線通過時，對上下2層金屬箔的鍍膜面同時實施鍍膜加工處理；所述第二拱形室內(nèi)腔(G2)的工作和工藝參數(shù)，與第一拱形室內(nèi)腔(G1)的工作和工藝參數(shù)一起，接受電控器(I)控制； C、所述冷卻區(qū)段(7)的冷卻裝置(7-1)，是由4只有間距分開相對布置在支架(7-1-1)上的且分別由循環(huán)冷卻介質(zhì)致冷的中空冷卻滾筒(7-1-2)所組成；所述4只中空冷卻滾筒(7-1-2)的循環(huán)冷卻介質(zhì)控制電磁閥，均通過第二溫度傳感器(7-1-3)接受電控器(I)控制；經(jīng)鍍膜加工后的具有膜系結(jié)構(gòu)層的2行金屬箔，由真空度遞減過渡區(qū)段(6)導(dǎo)出后分開前行，且分別通過纏繞上、下兩組每組2個中空冷卻滾筒(7-1-2)的表面而接受冷卻； d、所述復(fù)紙和收卷區(qū)段(8)，通過在I個收卷架座(8-1)上的2組分別由復(fù)紙構(gòu)件(8-2)和收卷構(gòu)件(8-4)所組成的復(fù)紙收卷裝置，分別對由冷卻區(qū)段(7)導(dǎo)出的2行金屬箔鍍膜層表面復(fù)紙和實施收卷。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，還包括分別設(shè)在放卷區(qū)段(2)及復(fù)紙和收卷區(qū)段(8)部位的放卷糾偏裝置(12)和收卷糾偏裝置(13);而: 所述放卷糾偏裝置(12) ，是在放卷裝置的放卷架座(2-1)底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第一滾輪組件(2-1-1);還包括與左、右第一滾輪組件(2-1-1)相配裝的第一導(dǎo)軌副(12-1)，一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿與放卷架座(2-1)鉸接的第一氣動組件(12-2)，以及布置在靠近所述真空度遞增過渡區(qū)(3)入口處左右兩側(cè)的金屬箔外側(cè)邊界限部位的第一紅外探測組件(12-3)，且第一氣動組件(12-2)的氣路控制電磁閥接受電控器(I)控制；當(dāng)金屬箔的外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第一紅外探測組件(12-3)經(jīng)電控器(I)通過第一氣動組件(12-2)的氣路控制電磁閥，令放卷架座(2-1)沿第一導(dǎo)軌副(12-1)位移而實現(xiàn)對中，從而使金屬箔始終保持對中運行；所述收卷糾偏裝置(13)，是在收卷架座(8-1)的底部兩側(cè)，各設(shè)有沿長度方向分開布置的且處在同一直線上的前后2只第二滾輪組件(8-1-1);還包括與左、右第二滾輪組件(8-1-1)相配裝的第二導(dǎo)軌副(13-1)，一端與固定件鉸接的而另一端的活塞桿與收卷架座(8-1)鉸接的第二氣動組件(13-2)，以及布置在收卷構(gòu)件(8-4)入口處的左、右兩側(cè)鍍膜金屬箔外側(cè)邊界限部位的第二紅外探測組件(13-3)，且第二氣動組件(13-2)的氣路電磁閥接受電控器(I)控制；當(dāng)鍍膜金屬箔外側(cè)邊移出其外側(cè)界限時，所述第二紅外探測組件(13-3)，經(jīng)電控器(I)通過第二氣動組件(13-2)的氣路控制電磁閥，令收卷架座(8-1)沿第二導(dǎo)軌副(13-1)位移而實現(xiàn)對中，從而使鍍膜金屬箔始終保持對中收卷運行。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，還包括恒張力控制裝置(14);所述恒張力控制裝置(14)有2個，2個恒張力控制裝置(14)，分別布置在所述放卷區(qū)段(2)及復(fù)紙和收卷區(qū)段(8);而所述恒張力控制裝置(14)，由與金屬箔或鍍膜金屬箔相滾動抵接的張力感受組件(14-1)，和恒張力調(diào)節(jié)組件(14-2)所組成；所述恒張力調(diào)節(jié)組件(14-2)，由一端與固定件鉸接而另一端的活塞桿和與金屬箔或鍍膜金屬箔滾動抵接的張力調(diào)節(jié)滾筒(14-2-1)鉸接的恒張力調(diào)節(jié)氣動組件(14-2-2)所組成；當(dāng)處在所述放卷區(qū)段(2)的金屬箔或處在復(fù)紙和收卷區(qū)段(8)的鍍膜金屬箔的運動張力大于或小于所設(shè)定的張力時，所述張力感受組件(14-1)即時通過電控器(I)控制恒張力調(diào)節(jié)氣動組件(14-2-2 )的氣路控制電磁閥，令張力調(diào)節(jié)滾筒(14-2-1)沿恒張力調(diào)節(jié)氣動組件(14-2-2)的軸向伸縮運動，對金屬箔或鍍膜金屬箔實施恒張力調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)金屬箔或鍍膜金屬箔的恒張力控制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)可根據(jù)金屬箔表面的膜系結(jié)構(gòu)層，設(shè)定其適應(yīng)多種不同鍍層的鍍膜區(qū)段；而所述連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)由第一鍍膜片段(5a)，第二鍍膜片段(5b)，第三鍍膜片段(5c)和第四鍍膜片段(5d)所組成，且所述第一、第二、第三和第四鍍膜片段(5a、5b、5c、5d)相互保留金屬箔運動通道依次密封連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述真空度遞增區(qū)段(3)的第一真空室(3-1)有3個；且在其入口處和相鄰2個第一真空室(3-1)之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第一隔離室(15)，且所述第一隔離室(15)分別與相鄰的第一真空室(3-1)保留金屬箔運行通道密封連接；而所述真空度遞減區(qū)段(6)的第二真空室(6-1)有3個，且在其入口處和出口處以及相鄰2個第二真空室(6-1)之間，還各設(shè)有I個具有機械式阻尼結(jié)構(gòu)的第二隔離室(16)，且所述第二隔離室(16)分別與相鄰的第二真空室(6-1)保留金屬箔運行通道密封連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述電加熱區(qū)段(9)的電加熱室(9-1)有I個；所述離子清洗區(qū)段(4)的離子清洗室(4-1)有2個；所述連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)的磁控濺射 鍍膜室(5-1)有8個，且分別由連續(xù)2個磁控濺射鍍膜室(5-1)分成4組不同鍍膜工作內(nèi)容的鍍膜區(qū)段；且在電加熱室(9-1)與離子清洗室(4-1)之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的真空度遞增區(qū)段(3)的第一真空室(3-1)與離子清洗區(qū)段(4)的清洗室(4-1)之真空度的具有抽真空管路(17-1)的第一真空隔離室(17);在離子清洗區(qū)段(4)的離子清洗(4-1)與連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)的磁控濺射鍍膜室(5-1)之間，還設(shè)有真空度大于或等于與其相鄰接的離子清洗室(4-1)和磁控濺射鍍膜室(5-1)之真空度的具有抽真空管路(18-1)的第二真空隔離室(18);在連續(xù)鍍膜區(qū)段(5)的相鄰2個磁控濺射鍍膜室(5-1)之間，均還設(shè)有真空度大于或等于相鄰磁控濺射鍍膜室(5-1)之真空度的具有抽真空管路(19-1)的第三真空隔離室(19);且所述第一、第二和第三真空隔離室(17、18、19)，均保留金屬箔運行通道且分別與其相鄰接的相關(guān)工藝工作室密封連接，且第一、第二和第三真空隔離室的抽真空工作接受電控器(I)控制。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于，當(dāng)采用一個卷裝金屬箔(10)作為鍍膜加工對象時，還適用于金屬箔雙面鍍膜加工處理。
專利摘要本實用新型所公開的是一種金屬箔連續(xù)鍍膜設(shè)備，與已有技術(shù)相比，以其還具有電加熱區(qū)段，各個工藝工作室室內(nèi)腔呈橄欖表面形拱形室內(nèi)腔，由中空冷卻滾筒冷卻鍍膜金屬箔，由收卷區(qū)段的收卷構(gòu)件的驅(qū)動電機實現(xiàn)勻線速度卷繞收卷，且牽引金屬箔鍍膜加工全過程運動；整個設(shè)備由電控器按照工藝軟件實現(xiàn)自動控制為主要特征，具有結(jié)構(gòu)合理，自動化程度高，節(jié)能減耗，工藝成本低，制成品質(zhì)量好，生產(chǎn)效率高等特點。
文檔編號C23C14/56GK203159705SQ20132007031
公開日2013年8月28日 申請日期2013年2月7日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月7日
發(fā)明者楊紀(jì)忠, 郭廷瑋, 夏建業(yè) 申請人:江蘇夏博士節(jié)能工程股份有限公司