專利名稱：真空感應(yīng)鍍錫裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍍錫裝置，特別是一種真空感應(yīng)鍍錫裝置。
技術(shù)背景真空蒸鍍金屬薄膜是在高真空(10 —4mba以上)條件下，以電阻、高頻 或電子?xùn)|加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一 種工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鉬等，其中用的最多的 是鋁。傳統(tǒng)的真空蒸鍍機(jī)由真空系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)，薄膜巻繞系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng) 和控制系統(tǒng)構(gòu)成，圖1為傳統(tǒng)真空蒸鍍機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖l所示，真空 系統(tǒng)為真空室l;蒸發(fā)系統(tǒng)為蒸發(fā)舟il;薄膜巻繞系統(tǒng)為卷繞輥簡(jiǎn)3，放 卷輥5,還有調(diào)整張力的張緊輪7;冷卻系統(tǒng)為水冷輥簡(jiǎn)6。將卷簡(jiǎn)狀的待 鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)的放卷輥5上，將薄膜穿過水冷卻輥6 (蒸鍍輥) 卷繞在收卷站的卷繞輥簡(jiǎn)3上，用真空泵將真空室l抽真空，使蒸鍍室中的 真空度達(dá)到4 x 10—4mba以上，加熱蒸發(fā)舟11使高純度的鋁絲在1300°C ~ 1400 'C的溫度下融化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。啟動(dòng)薄膜卷繞系統(tǒng)，當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到 一定數(shù)值后，打開擋板機(jī)構(gòu)10使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷 卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄 膜的移動(dòng)速度以及蒸鍍室內(nèi)的真空度等來控制鍍鋁層的厚度。真空室1上有 觀察孔2，還有下室排氣口12，蒸發(fā)舟ll的上方還設(shè)有隔板?？刂葡到y(tǒng)用于調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量，開通冷 卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后 形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程基材放巻—抽 真空—加熱蒸發(fā)舟—送鋁絲—蒸鍍—冷卻—測(cè)厚—展平—收卷。 現(xiàn)在巿場(chǎng)上用于塑料薄膜的真空鍍鋁設(shè)備主要有纏繞式和懸浮式兩種類 型，但無論是纏繞式還是懸浮式， 一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜巻 繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。傳統(tǒng)的塑料薄膜上鍍錫多釆用磁控濺射方式蒸發(fā)，但存在著蒸發(fā)量小， 產(chǎn)量很低的缺陷，每分鐘只能鍍3米，成本較高，無法大規(guī)模生產(chǎn)。還有采 用電子加熱式或電阻加熱式在塑料薄膜上鍍錫，這些都是產(chǎn)量很小，良品率 很低，不具備大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)的條件。電子加熱式和磁控濺射式都屬于低蒸 發(fā)量蒸發(fā)手段，速度很慢，效率低。電阻式的加熱，由于錫的物理特征，熔點(diǎn)只有230。C，蒸發(fā)點(diǎn)為125(TC，所以加熱體很難選擇，致使在塑料基材上 鍍錫比較困難，長(zhǎng)期以來都無法用鍍鋁的裝置來進(jìn)行鍍錫操作，由于成品率 低，生產(chǎn)速度慢，致使鍍錫薄膜由于成本較高，造成薄膜的針孔數(shù)量較多， 難以滿足巿場(chǎng)的要求。 實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中鍍錫設(shè)備產(chǎn)量低， 速度慢的不足，提供一種真空感應(yīng)鍍錫裝置，該裝置通過改變傳統(tǒng)蒸發(fā)舟的 結(jié)構(gòu)，使得鍍錫成品率提高，提高了鍍錫膜的質(zhì)量，解決了傳統(tǒng)鍍錫膜過程 中，速度慢的缺陷，可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。為此，本實(shí)用新型提供了一種真空感應(yīng)鍍錫裝置，包括真空蒸鍍機(jī)，所 述真空蒸鍍機(jī)由真空系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)，薄膜卷繞系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng) 構(gòu)成，其中，所述蒸發(fā)系統(tǒng)為蒸發(fā)舟，所述蒸發(fā)舟包括用于放置、熔化并蒸 發(fā)錫金屬的石墨坩堝，所述石墨坩堝外設(shè)置保溫層，所述保溫層外環(huán)繞設(shè)置 有用于通過電感應(yīng)磁場(chǎng)加熱的線圈感應(yīng)器，所述線圈感應(yīng)器連接高頻電源。本實(shí)用新型通過改變蒸發(fā)舟的結(jié)構(gòu)，解決了使用傳統(tǒng)真空蒸鍍機(jī)鍍錫時(shí)， 鍍錫薄膜上針孔多，成品率低的缺陷，而且由于錫的熔點(diǎn)較低，無法像鍍鋁 膜時(shí)將鋁絲慢慢送至蒸發(fā)舟上方，因?yàn)樵缇腿刍袅?，所以針?duì)這一特點(diǎn)， 本實(shí)用新型采用可以加熱至120(TC的石墨坩堝，石墨坩堝外周用感應(yīng)線圈環(huán)
繞，又采用高頻電源供電，以保證放置在石墨坩堝內(nèi)的錫金屬能夠快速熔化 并蒸發(fā)，使用本實(shí)用新型鍍錫，能使鍍錫薄膜的產(chǎn)量提高，生產(chǎn)效率提高， 并保證較高的成品率，解決了一直以來鍍錫薄膜不能大量生產(chǎn)的缺陷，使得 鍍錫薄膜的應(yīng)用巿場(chǎng)成為可能。下面通過附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

圖l為傳統(tǒng)真空蒸鍍機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型蒸發(fā)舟的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明l一真空室；2—-觀察孔；3—-卷繞輥簡(jiǎn)；4一上室排氣口；5 —-放巻輥；6 —-水冷輥簡(jiǎn)；7—張緊輪；8 —-隔板縫；9 —-隔板；10—擋板機(jī)構(gòu)；11-一蒸發(fā)舟；12-一下室排氣口;21 —石墨坩堝；22-一保溫層；23-一線圈感應(yīng)器;24—高頻電源；25-一錫金屬。
具體實(shí)施方式
圖2為本實(shí)用新型蒸發(fā)舟的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型包括真空蒸鍍機(jī)， 所述真空蒸鍍機(jī)由真空系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)，薄膜卷繞系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)和控制系 統(tǒng)構(gòu)成，所述蒸發(fā)系統(tǒng)為蒸發(fā)舟11,蒸發(fā)舟11包括用于放置、熔化并蒸發(fā) 錫金屬25的石墨坩堝21，石墨坩堝21外設(shè)置保溫層22，保溫層22外環(huán)繞 設(shè)置有用于通過電感應(yīng)磁場(chǎng)加熱的線圈感應(yīng)器23，線圏感應(yīng)器23連接高頻 電源24。上述實(shí)施例中，高頻電源24的頻率范圍可為6 KHz至20KHz,功率可為 IOKW至30KW。上述實(shí)施例中，石墨坩堝21加熱后溫度可達(dá)到12001C至150(TC。 最后所應(yīng)說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非
限制，盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而 不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求1. 一種真空感應(yīng)鍍錫裝置，包括真空蒸鍍機(jī)，所述真空蒸鍍機(jī)由真 空系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)，薄膜巻繞系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng)構(gòu)成，其特征在 于，所述蒸發(fā)系統(tǒng)為蒸發(fā)舟，所述蒸發(fā)舟包括用于放置、熔化并蒸發(fā)錫金 屬的石墨坩堝，所述石墨坩堝外設(shè)置保溫層，所述保溫層外環(huán)繞設(shè)置有用 于通過電感應(yīng)磁場(chǎng)加熱的線圏感應(yīng)器，所述線圈感應(yīng)器連接高頻電源。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空感應(yīng)鍍錫裝置，其特征在于，所述高頻 電源的頻率范圍為6 KHz至20KHz，功率為10KW至30KW。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空感應(yīng)鍍錫裝置，其特征在于，所述石墨 坩堝加熱后溫度為120(TC至150(TC。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種真空感應(yīng)鍍錫裝置，包括真空蒸鍍機(jī)，所述真空蒸鍍機(jī)由真空系統(tǒng)，蒸發(fā)系統(tǒng)，薄膜卷繞系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)和控制系統(tǒng)構(gòu)成，其中，所述蒸發(fā)系統(tǒng)為蒸發(fā)舟，所述蒸發(fā)舟包括用于放置、熔化并蒸發(fā)錫金屬的石墨坩堝，所述石墨坩堝外設(shè)置保溫層，所述保溫層外環(huán)繞設(shè)置有用于通過電感應(yīng)磁場(chǎng)加熱的線圈感應(yīng)器，所述線圈感應(yīng)器連接高頻電源。使用本實(shí)用新型鍍錫，能使鍍錫薄膜的產(chǎn)量提高，生產(chǎn)效率提高，并保證較高的成品率，解決了一直以來鍍錫薄膜不能大量生產(chǎn)的缺陷，使得鍍錫薄膜的應(yīng)用市場(chǎng)成為可能。
文檔編號(hào)C23C14/26GK201037150SQ200720031519
公開日2008年3月19日 申請(qǐng)日期2007年4月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月10日
發(fā)明者健 王, 王越喜 申請(qǐng)人:西安中意高頻設(shè)備廠