移及旋轉(zhuǎn)角度的第二組偏移量Λ Χ3、Λ Υ3、Δ θ 3，用以補(bǔ)償在該第一及第二等待空間中的該些影像擷取單元的視覺差異。
[0091]請?jiān)賲⒄請D1b及9，在步驟(S09)中，將二基板的其中該基板移動至該第二組偏移量所補(bǔ)償?shù)奈恢谩Ｔ诒緦?shí)施例中，根據(jù)步驟(S08)所得到的第二組偏移量，以該三軸移動機(jī)構(gòu)40將該第一基板20’移動至該第二組偏移量所補(bǔ)償?shù)奈恢?。本發(fā)明所指的第二組偏移量厶乂3、厶￥3、厶Θ 3不包含該第一基板20’由該第一等待空間100移動到該對位組裝空間300所需的X軸方向的第一預(yù)定移動量Λ ΧΓ以及該第二基板30’由該第二等待空間200移動到該對位組裝空間300所需的X軸方向的第二預(yù)定移動量Λ Χ2’，也就是該第一基板20’的第一實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)與該第二基板30’的第二實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)在X軸方向上的差異值實(shí)際上是Λ Χ3+ Λ ΧΓ + Λ Χ2’，但該第一基板20’在X軸方向上由該第一實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)移動到該對位組裝空間300則需使用該偏移量Λ Χ3+ Λ ΧΓ。
[0092]在步驟(SlO)中，確認(rèn)該第二組偏移量是否小于欲達(dá)到的目標(biāo)值。在本實(shí)施例中，若沒有小于欲達(dá)到的目標(biāo)值，則回到步驟(S08);反之，若有小于欲達(dá)到的目標(biāo)值，則進(jìn)入下一個步驟(Sll)。
[0093]請參照圖1b及10，在步驟(Sll)中，利用一第一預(yù)定移動量，使二基板的其中該基板由該第一等待空間移動到一對位組裝空間中。在本實(shí)施例中，利用該三軸移動機(jī)構(gòu)40移動該第一基板20’，其根據(jù)該第一預(yù)定移動量Λ ΧΓ使該第一基板20’移動到該對位組裝空間300中的一正確待組裝位置。
[0094]請?jiān)賲⒄請D1b及10，在步驟(S12)中，利用一第二預(yù)定移動量，使二基板的其中另一基板由該第二等待空間移動到該對位組裝空間中。在本實(shí)施例中，可利用該旋轉(zhuǎn)臺70沿Χ/Υ平面水平旋轉(zhuǎn)移動該承載臺60及第二基板30’至該對位組裝空間300中，其依據(jù)該第二預(yù)定移動量Λ Χ2’使該第二基板30’移動到該對位組裝空間300中的另一正確待組裝位置(例如位在該第一基板20’的Z軸的正下方或正上方)處，以等待組裝。
[0095]請?jiān)賲⒄請D1b及11，在步驟(S13)中，使該二基板在對位組裝空間中完成堆疊對位組裝。在本實(shí)施例中，可利用該三軸移動機(jī)構(gòu)40使該第一基板20’沿Z軸移動一預(yù)定移動量Λ Z (例如垂直向下移動一預(yù)定距離)，直到與該對位組裝空間300中的承載臺60上的第二基板30’完成堆疊對位組裝為止。如此，即可完成該第一基板20’及第二基板30’的對位組裝作業(yè)。
[0096]本發(fā)明的對位方法可適用于在不同等待空間下的具有標(biāo)記或無標(biāo)記的不同尺寸的二基板的對位。該二基板位于不同等待空間時，利用該二基板的實(shí)際局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記(或特定外形)，以進(jìn)行計算后續(xù)該二基板的特定標(biāo)記的坐標(biāo)(或特定外形)的坐標(biāo)值。修正該二基板的其中一基板的特定標(biāo)記(或特定外形)的坐標(biāo)值，使該不同尺寸的二基板模擬成相同尺寸的二基板。然后，進(jìn)行異空間下的異尺寸基材對位偏差修正補(bǔ)償，并續(xù)進(jìn)行后工藝(例如:貼合或組裝)，不需建立影像坐標(biāo)系統(tǒng)與對位坐標(biāo)系統(tǒng)的復(fù)雜轉(zhuǎn)換關(guān)系，因此可有效減少大量的數(shù)學(xué)計算與減少設(shè)備調(diào)機(jī)時間，并增加對位貼合工藝的彈性。
[0097]與公知方法不同的是，本發(fā)明的異空間異尺寸基材的對位方法提供一個解決方法，可確實(shí)解決在工藝上無法將異尺寸基材進(jìn)行精密對位貼合的問題。本發(fā)明的異空間異尺寸基材的對位方法可應(yīng)用于各式高科技產(chǎn)業(yè)中，例如觸控面板產(chǎn)業(yè)，在其多樣且異尺寸的多層貼合工藝中，此方法可解決無法在異空間下異尺寸基材進(jìn)行影像對位的情況，提升工藝的生產(chǎn)速度與彈性。
[0098]綜上所述，乃僅記載本發(fā)明為呈現(xiàn)解決問題所采用的技術(shù)手段的實(shí)施方式或?qū)嵤├?，并非用來限定本發(fā)明專利實(shí)施的范圍。即凡與本發(fā)明專利申請范圍文義相符，或依本發(fā)明專利范圍所做的均等變化與修飾，皆為本發(fā)明專利范圍所涵蓋。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，包括下列步驟: 利用在一第一等待空間中的校正后的二影像擷取單元及在一第二等待空間中的校正后的二影像擷取單元，分別擷取在該第一及第二等待空間中的不同尺寸的二基板的至少二實(shí)際局部圖像； 分別比對該二基板的標(biāo)準(zhǔn)局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記或特定外形，并取得該二基板的至少二實(shí)際局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記或特定外形； 分別建立該二基板的實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)，以合成一對位組裝坐標(biāo)系統(tǒng)； 比對該二實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)中的二基板的特定標(biāo)記或特定外形的坐標(biāo)值以取得第一組偏移量，并比對該二基板的尺寸以取得尺寸差量； 利用該第一組偏移量及該尺寸差量，修正該二基板的其中一基板的特定標(biāo)記或特定外形的坐標(biāo)值； 比對該二實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)中的二基板的其中該基板修正后的特定標(biāo)記或特定外形的坐標(biāo)值與該二基板的其中另一基板的特定標(biāo)記或特定外形的坐標(biāo)值，以取得第二組偏移量；將二基板的其中該基板移動至該第二組偏移量所補(bǔ)償?shù)奈恢茫? 利用一第一預(yù)定移動量，使二基板的其中該基板由該第一等待空間移動到一對位組裝空間中；以及 利用一第二預(yù)定移動量，使二基板的其中另一基板由該第二等待空間移動到該對位組裝空間中。
2.如權(quán)利要求1所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，還包含下列步驟: 預(yù)校正在一第一等待空間中的二影像擷取單元及在一第二等待空間中的二影像擷取單元的空間位置。
3.如權(quán)利要求2所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，還包含下列步驟: 利用在該第一等待空間中的校正后的二影像擷取單元及在該第二等待空間中的校正后的二影像擷取單元，預(yù)定義不同尺寸的二基板的標(biāo)準(zhǔn)局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記或特定外形。
4.如權(quán)利要求3所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，還包含下列步驟: 確認(rèn)該第二組偏移量是否小于欲達(dá)到的目標(biāo)值。
5.如權(quán)利要求4所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，還包含下列步驟: 使該二基板在對位組裝空間中完成堆疊對位組裝。
6.如權(quán)利要求2所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，其中預(yù)校正在一第一等待空間中的二影像擷取單元及在一第二等待空間中的二影像擷取單元的空間位置的步驟包含下列步驟: 將兩個校正片疊合，使該些校正片的特定標(biāo)記重疊； 將疊合后的該些校正片設(shè)置于在該第一等待空間中的第一及第二影像擷取單元上方，移動該第一及第二影像擷取單元以擷取在該第一等待空間中的疊合后的該些校正片的虛線環(huán)繞區(qū)域的第一對角線的兩端的特定標(biāo)記，如此以校正該第一及第二影像擷取單元在該第一等待空間的位置； 將疊合后的該些校正片設(shè)置于在該第二等待空間中的第三及第四影像擷取單元下方，移動第三及第四影像擷取單元以擷取在該第二等待空間中的疊合后的該些校正片的虛線環(huán)繞區(qū)域的第二對角線的兩端的特定標(biāo)記，如此以校正該第三及第四影像擷取單元在該第二等待空間的位置；以及 校正后的該第一至第四影像擷取單元將被固定不動。
7.如權(quán)利要求1所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，其中該二基板的其中該基板的特定標(biāo)記為十字形標(biāo)記，且該~■基板的其中另一基板的特定標(biāo)記為十字管形標(biāo)記。
8.如權(quán)利要求1所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，其中該二基板的其中該基板的特定外形為直角角隅，且該二基板的其中另一基板的特定外形為直角角隅。
9.如權(quán)利要求1所述的異空間異尺寸基材對位方法，其特征在于，其中該第二組偏移量用以補(bǔ)償在該第一及第二等待空間中的該些影像擷取單元的視覺差異所需的X、Y軸方向位移及旋轉(zhuǎn)角度。
【專利摘要】一種異空間異尺寸基材對位方法，包括：擷取不同尺寸的二基板的實(shí)際局部圖像；比對該二基板的標(biāo)準(zhǔn)局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記，并取得該二基板的實(shí)際局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標(biāo)記；分別建立該二基板的實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)，以合成一對位組裝坐標(biāo)系統(tǒng)；比對該二實(shí)際坐標(biāo)系統(tǒng)中的二基板的特定標(biāo)記的坐標(biāo)值以取得第一組偏移量，并比對該二基板的尺寸以取得尺寸差量；利用該第一組偏移量及該尺寸差量，修正該二基板的其中一基板的特定標(biāo)記的坐標(biāo)值；比對該二基板的特定標(biāo)記的坐標(biāo)值，以取得第二組偏移量；將該基板移動至該第二組偏移量所補(bǔ)償?shù)奈恢谩?br>【IPC分類】G03F9-00
【公開號】CN104730871
【申請?zhí)枴緾N201310699737
【發(fā)明人】林崇田, 溫志群, 楊駿明, 林世偉
【申請人】財團(tuán)法人金屬工業(yè)研究發(fā)展中心
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2013年12月18日