[0082]現(xiàn)有的光學(xué)低通濾波器190是:在光學(xué)基板110直接形成著第二帶通濾波器150，而并未形成第一帶通濾波器140。S卩，圖4A所示的光學(xué)低通濾波器190的分光特性，主要表示:第二帶通濾波器150的分光特性。
[0083]如圖4A所示，第二帶通濾波器150中，對(duì)入射角Θ為O。時(shí)與入射角Θ為30°時(shí)的透過(guò)率增高的透過(guò)范圍進(jìn)行比較時(shí)，可知:入射角Θ為30°時(shí)比起入射角Θ為0°時(shí)，向低波長(zhǎng)側(cè)偏移。即，第二帶通濾波器150中，分光特性根據(jù)入射光的入射角而變化。如果將入射角Θ為O。時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紅外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為Xla，入射角Θ為30°時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紅外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X2a，則Xla約為682nm，X2a約為654nm。因此，入射光的透過(guò)率為50%的紅外線(IR)側(cè)的波長(zhǎng)的偏移量(入射角依存性IR側(cè)半值偏移量)Sla約為28nm。而且，如果將入射角Θ為O。時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紫外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為Xlb，入射角Θ為30°時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紫外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X2b，則Xlb約為428nm，X2b約為414nm。因此，入射光的透過(guò)率為50%的紫外線(UV)側(cè)的波長(zhǎng)的偏移量(入射角依存性UV側(cè)半值偏移量)Slb約為14nm。
[0084]光學(xué)低通濾波器190中，如圖4A所示，在構(gòu)成第二帶通濾波器150的第二帶通濾波器A部160及第二帶通濾波器B部170的組合中，可確?？梢?jiàn)光范圍的透過(guò)率并且可去除紫外線及紅外線。然而，在使用了此種光學(xué)低通濾波器的數(shù)字照相機(jī)等中，入射角依存性的透過(guò)率的波長(zhǎng)的偏移量大，因而存在所拍攝的圖像的色調(diào)不均勻地發(fā)生變化的問(wèn)題。因此，期望光學(xué)低通濾波器中，將入射角依存性的透過(guò)率的波長(zhǎng)的偏移量抑制得小。
[0085]圖4B是表示光學(xué)低通濾波器100的分光特性的入射角依存性的曲線圖。圖4B中，橫軸表不:對(duì)光學(xué)低通濾波器100的入射光的波長(zhǎng)(nm),縱軸表不:入射光的透過(guò)率(％ )。而且，實(shí)線表示:對(duì)光學(xué)低通濾波器100的入射光的入射角Θ為O。時(shí)的分光特性。虛線表示:對(duì)光學(xué)低通濾波器100的入射光的入射角Θ為30°時(shí)的分光特性。
[0086]如圖4B所示，光學(xué)低通濾波器100中，對(duì)入射角Θ為0°時(shí)與入射角Θ為30°時(shí)的透過(guò)率增高的透過(guò)范圍進(jìn)行比較時(shí)，入射角Θ為30°時(shí)比入射角Θ為0°時(shí)，也向低波長(zhǎng)側(cè)偏移。如果將入射角Θ為O。時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紅外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X3a，入射角Θ為30°時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紅外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X4a，則X3a約為681nm，X4a約為667nm。因此，入射光的透過(guò)率為50%的紅外線側(cè)的波長(zhǎng)的偏移量(入射角依存性IR側(cè)半值偏移量)S2a約為14nm。而且，如果將入射角Θ為O。時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紫外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X3b，入射角Θ為30°時(shí)的入射光的透過(guò)率為50%的紫外線側(cè)的波長(zhǎng)設(shè)為X4b，則X3b約為415nm，X4b約為408nm。因此，入射光的透過(guò)率為50%的紫外線側(cè)的波長(zhǎng)的偏移量(入射角依存性UV側(cè)半值偏移量)S2b約為7nm。
[0087]因此，可知圖4B所示的光學(xué)低通濾波器100的分光特性的變化量為:圖4A所示的現(xiàn)有的光學(xué)低通濾波器190的分光特性的變化量的約一半。此處，如果考慮到光學(xué)低通濾波器100與現(xiàn)有的光學(xué)低通濾波器190的不同點(diǎn)在于:有無(wú)第一帶通濾波器140，則因具有第一帶通濾波器140，而如所述般，可達(dá)到分光特性的變化量的約一半。即，利用第一帶通濾波器140，光學(xué)低通濾波器100可降低分光特性的入射角依存性。
[0088]圖5是表示材料折射率比率與入射角依存性IR側(cè)半值偏移量的關(guān)系的曲線圖。參照?qǐng)D5，對(duì)構(gòu)成第一帶通濾波器140的低折射率層141及高折射率層142的條件，與第一帶通濾波器140的分光特性的入射角依存性的關(guān)系進(jìn)行說(shuō)明。圖5中表示如下情況下的關(guān)系，即，低折射率層141(圖5中記載為“L”)中使用S12 ;高折射率層142(圖5中記載為“H”)中使用Ta2O5(圖5的O標(biāo)記)、Nb205(圖5的X標(biāo)記)或T12(圖5的▲標(biāo)記)。而且，圖5的橫軸為材料折射率比率(=(%Xcg/(nHXdH))，縱軸表示入射角依存性IR側(cè)半值偏移量(nm)。圖5的縱軸所示的入射角依存性IR側(cè)半值偏移量(nm)表示:從入射角Θ為30°時(shí)的波長(zhǎng)中減去入射角Θ為O。時(shí)的波長(zhǎng)所得的值。即，若為正的值，則從入射角Θ為O。時(shí)到入射角Θ為30°時(shí)的變化是向紅外線側(cè)偏移；若為負(fù)的值，則是向紫外線側(cè)偏移。圖5的縱軸表示負(fù)的值，因而，圖5所示的從入射角Θ為O。時(shí)向入射角Θ為30°時(shí)的變化均是向紫外線側(cè)偏移。
[0089]圖4A、圖4B中表示實(shí)測(cè)值，圖5所示的數(shù)據(jù)為如下的理論值，該理論值是使高折射率層的物理膜厚士及低折射率層的物理膜厚4之比(ct/dH)任意地變化、而求出相對(duì)于材料折射率比率的入射角依存性IR側(cè)半值偏移量所得。因此，例如，圖4A中，使用了 T12 (圖5的▲標(biāo)記)的材料折射率比率為1.0時(shí)的IR側(cè)半值偏移量約為28nm，圖5中表示約為22nm。圖4A及圖4B所示的實(shí)際的光學(xué)低通濾波器中，基于將透過(guò)率相對(duì)于入射光的波長(zhǎng)的變化的波紋(ripple)去除等理由而形成調(diào)整層，因此，具有實(shí)測(cè)值的入射角依存性IR側(cè)半值偏移量比理論值大的傾向。
[0090]圖5中，各膜構(gòu)成中，隨著材料折射率比率減小，而入射角依存性IR側(cè)半值偏移量的絕對(duì)值減小。而且，二氧化硅(S12)的折射率為1.46，二氧化鈦(T12)的折射率為2.4，五氧化二鈮(Nb2O5)的折射率為2.25，五氧化二鉭(Ta2O5)的折射率為2.1。如果對(duì)材料折射率比率為1.0左右的各膜構(gòu)成的折射率進(jìn)行比較，則在高折射率層142的折射率^最大，且高折射率層142的折射率nH與低折射率層141的折射率之比1?/?最大的二氧化鈦(T12)和二氧化硅(S12)的組合中，入射角依存性IR側(cè)半值偏移量的絕對(duì)值最小。而且，在高折射率層142的折射率％最小，且高折射率層142的折射率％與低折射率層141的折射率％之比nH/V最小的五氧化二鉭(Ta2O5)與二氧化硅(S12)的組合中，入射角依存性IR側(cè)半值偏移量的絕對(duì)值最大。即，就構(gòu)成第一帶通濾波器140的材料而言，理想的是，選擇高折射率層142的折射率nH大，且高折射率層142的折射率nH與低折射率層141的折射率％之比nH/V大的材料。
[0091]如圖5所示，隨著材料折射率比率減小而入射角依存性IR側(cè)半值偏移量減小，因而，材料折射率比率越小，則越優(yōu)選。材料折射率比率如式(I)所示，尤其優(yōu)選為0.5以下。在材料折射率比率為0.5時(shí)，使用了 T12 (圖5的▲標(biāo)記)的情況下的入射角依存性IR側(cè)半值偏移量約為18.5 (nm)，而在入射角依存性IR側(cè)半值偏移量為18.5 (nm)以下的情況下，數(shù)字照相機(jī)等中實(shí)際使用時(shí)所拍攝到的圖像的色調(diào)成為問(wèn)題的可能性低。考慮到，在包含調(diào)整膜的實(shí)際產(chǎn)品中，即便入射角依存性IR側(cè)半值偏移量稍有增加，也可充分改善圖像的色調(diào)等問(wèn)題。而且，將材料折射率比率設(shè)為0.5，在制造中也可充分應(yīng)對(duì)所述問(wèn)題。
[0092]而且，材料折射率比率進(jìn)而優(yōu)選為0.2以下。在材料折射率比率為0.2時(shí)，制造上的困難性增加，但在使用了 Ti02(圖5的▲標(biāo)記)的情況下，入射角依存性IR側(cè)半值偏移量約為15 (nm)，從而可滿(mǎn)足要求高品質(zhì)的光學(xué)低通濾波器的顧客的要求。
[0093]本發(fā)明的光學(xué)低通濾波器100不限定于所述實(shí)施方式中例示的構(gòu)成，也可作為將其進(jìn)行適當(dāng)變更的例如如下形態(tài)而實(shí)施。
[0094]光學(xué)低通濾波器100中，也可使用Al2O3或La2O3的薄膜來(lái)代替S12而作為低折射率層141。這些均為IkS 1.6。而且，光學(xué)低通濾波器100中，可進(jìn)而在表面形成抗靜電膜，也可在帶通濾波器130的表面形成Mg