本發(fā)明涉及一種空間對(duì)準(zhǔn)光刻設(shè)備中的圖案形成裝置和襯底的方法，其中圖案形成裝置和襯底由包括一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的光路隔開(kāi)。

背景技術(shù)：

1、光刻設(shè)備是構(gòu)造成將期望的圖案施加到襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備可以用于例如制造集成電路（ic）。光刻設(shè)備可以例如將圖案形成裝置（例如掩模）處的圖案投影到設(shè)置于襯底上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上。

2、為了將圖案投影于襯底上，光刻設(shè)備可以使用電磁輻射。該輻射的波長(zhǎng)確定可以形成于襯底上的特征的最小尺寸。相比于可以例如使用波長(zhǎng)為193?nm的輻射的光刻設(shè)備，使用波長(zhǎng)在4-20?nm的范圍內(nèi)（例如6.7?nm或13.5?nm）的極紫外（euv）輻射的光刻設(shè)備可以用于在襯底上形成較小特征。

3、為了使襯底準(zhǔn)確地圖案化有圖案形成裝置的圖案，需要準(zhǔn)確對(duì)準(zhǔn)襯底和圖案形成裝置。為此，已知通過(guò)將存在于圖案形成裝置上的一個(gè)或多個(gè)標(biāo)記的圖案或圖像投影到布置在保持襯底的襯底臺(tái)上的傳感器上，來(lái)確定圖案形成裝置和襯底或保持襯底的襯底臺(tái)之間的對(duì)準(zhǔn)位置。通常，這種對(duì)準(zhǔn)過(guò)程涉及沿包括一個(gè)或多個(gè)光學(xué)部件（諸如反射鏡或透鏡）的光路投影圖案。在這種對(duì)準(zhǔn)過(guò)程中，光學(xué)部件通常被保持在固定位置。在后續(xù)的圖案化或曝光過(guò)程期間，這些部件發(fā)生移位或需要移位的情況下，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)所確定的對(duì)準(zhǔn)位置可能有缺陷或不準(zhǔn)確，從而可能會(huì)在圖案化過(guò)程中導(dǎo)致重疊誤差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是提供圖案形成裝置和襯底之間的改進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)，特別是在光刻設(shè)備中的圖案化過(guò)程期間使用可移動(dòng)光學(xué)部件的情況下。

2、根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種空間對(duì)準(zhǔn)圖案形成裝置和襯底的方法，其中所述圖案形成裝置和所述襯底由包括一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的光路隔開(kāi)，所述方法包括：

3、-沿所述光路投影來(lái)自所述圖案形成裝置的輻射束；

4、-執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件沿預(yù)定軌跡的移位；

5、-在所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的移位期間，在多個(gè)時(shí)刻確定由支撐所述襯底的襯底臺(tái)上的傳感器接收的輻射束的光學(xué)特性；

6、-基于在所述多個(gè)時(shí)刻確定的所述光學(xué)特性，空間對(duì)準(zhǔn)所述圖案形成裝置和所述襯底。

7、根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種設(shè)備，所述設(shè)備包括：

8、-支撐結(jié)構(gòu)，所述支撐結(jié)構(gòu)被配置為支撐圖案形成裝置；

9、-襯底臺(tái)，所述襯底臺(tái)被配置為支撐襯底；

10、-投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件，所述可移動(dòng)光學(xué)部件在所述圖案形成裝置和所述襯底之間提供光路；

11、-定位系統(tǒng)，所述定位系統(tǒng)被配置為定位所述圖案形成裝置、所述襯底以及所述投影系統(tǒng)的所述可移動(dòng)光學(xué)部件；

12、-位置測(cè)量系統(tǒng)，所述位置測(cè)量系統(tǒng)被配置為測(cè)量所述支撐結(jié)構(gòu)、所述襯底臺(tái)以及所述投影系統(tǒng)的所述可移動(dòng)光學(xué)部件的位置；

13、-控制單元，所述控制單元被配置為控制所述定位系統(tǒng)；

14、-其中所述設(shè)備被配置為接收輻射束以照射所述圖案形成裝置，并且其中所述控制單元被配置為控制所述設(shè)備執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的第一方面的空間對(duì)準(zhǔn)所述圖案形成裝置和所述襯底的方法。

15、根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種設(shè)備，所述設(shè)備包括：

16、-支撐結(jié)構(gòu)，所述支撐結(jié)構(gòu)被配置為支撐圖案形成裝置；

17、-襯底臺(tái)，所述襯底臺(tái)被配置為支撐襯底；

18、-投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件，所述可移動(dòng)光學(xué)部件在所述圖案形成裝置和所述襯底之間提供光路；

19、-定位系統(tǒng)，所述定位系統(tǒng)被配置為定位所述圖案形成裝置、所述襯底以及所述投影系統(tǒng)的所述可移動(dòng)光學(xué)部件；

20、-位置測(cè)量系統(tǒng)，所述位置測(cè)量系統(tǒng)被配置為測(cè)量所述支撐結(jié)構(gòu)、所述襯底臺(tái)以及所述投影系統(tǒng)的所述可移動(dòng)光學(xué)部件的位置；

21、-控制單元，所述控制單元被配置為控制所述定位系統(tǒng)；

22、其中所述設(shè)備被配置為沿所述光路將來(lái)自所述圖案形成裝置的輻射束投影到支撐所述襯底的所述襯底臺(tái)；以及

23、其中所述控制單元被配置為：

24、-控制所述定位系統(tǒng)以執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件沿預(yù)定軌跡的移位；

25、-在所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的移位期間，在多個(gè)時(shí)刻確定由所述襯底臺(tái)上的傳感器接收的輻射束的光學(xué)特性；

26、-基于在所述多個(gè)時(shí)刻確定的所述光學(xué)特性，確定所述圖案形成裝置和所述襯底的對(duì)準(zhǔn)位置。

技術(shù)特征：

1.一種空間對(duì)準(zhǔn)圖案形成裝置和襯底的方法，其中所述圖案形成裝置和所述襯底由包括一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的光路隔開(kāi)，所述方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述輻射束是包括布置在所述圖案形成裝置上的標(biāo)記的圖案的經(jīng)圖案化的輻射束。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述光學(xué)特性是所述經(jīng)圖案化的輻射束的強(qiáng)度。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，還包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述襯底臺(tái)相對(duì)于所述輻射束的移位包括：在相應(yīng)的多個(gè)不同的豎直位置處的多個(gè)實(shí)質(zhì)上水平移位。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的移位引起所述輻射束的空間圖像相對(duì)于所述襯底臺(tái)的移位，并且其中所述襯底臺(tái)相對(duì)于所述輻射束的移位至少部分地補(bǔ)償或跟隨由所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的移位引起的所述輻射束的空間圖像相對(duì)于所述襯底臺(tái)的移位。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述預(yù)定軌跡至少跨越所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的位置測(cè)量的循環(huán)誤差的一個(gè)周期。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件沿所述預(yù)定軌跡的移位引起所述輻射束的空間圖像相對(duì)于所述襯底臺(tái)的一系列多個(gè)實(shí)質(zhì)上水平移位。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，還包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述實(shí)質(zhì)上豎直移位是實(shí)質(zhì)上連續(xù)的移位或階梯式移位。

11.一種設(shè)備，包括：

12.一種設(shè)備，所述設(shè)備包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的設(shè)備，其中所述預(yù)定軌跡至少跨越所述位置測(cè)量系統(tǒng)的循環(huán)誤差的一個(gè)周期。

14.一種光刻系統(tǒng)，所述光刻系統(tǒng)包括根據(jù)權(quán)利要求11、12或13所述的設(shè)備，以及

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光刻系統(tǒng)，其中所述輻射源是euv輻射源和/或其中所述可移動(dòng)光學(xué)部件是euv反射鏡。

技術(shù)總結(jié)
空間對(duì)準(zhǔn)圖案形成裝置和襯底的方法，其中圖案形成裝置和襯底由包括一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的光路隔開(kāi)，該方法包括：?沿光路投影來(lái)自圖案形成裝置的輻射束；?執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件沿預(yù)定軌跡的移位；?在一個(gè)或多個(gè)可移動(dòng)光學(xué)部件的移位期間，在多個(gè)時(shí)刻確定由支撐襯底的襯底臺(tái)上的傳感器接收的輻射束的光學(xué)特性；?基于在多個(gè)時(shí)刻確定的光學(xué)特性，空間對(duì)準(zhǔn)圖案形成裝置和襯底。

技術(shù)研發(fā)人員：H·巴特勒,A·M·A·范松
受保護(hù)的技術(shù)使用者：ASML荷蘭有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6