專利名稱：曝光機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型有關(guān)一種曝光機，尤指一種較不會產(chǎn)生聚熱現(xiàn)象，且相 對可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
按， 一般印刷電路板或半導體芯片在進行曝光顯影制程時，先在被 加工物表面上涂上一層光阻，再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖 案映像至被加工物表面的光阻層上，以使光阻層的化學性質(zhì)因光源的照 射而產(chǎn)生變化，然后再利用去光阻劑來將被光源照射過的光阻或未經(jīng)曝 光的光阻自被加工物表面去除，以形成對應于原稿的線路布局。
其中，用以執(zhí)行曝光顯影加工制程的曝光機基本結(jié)構(gòu)如圖l所示，主
要在以機殼11構(gòu)成一曝光室12,以及設(shè)有一可相對進出曝光室12的曝光 平臺13,而且至少在該曝光室12內(nèi)部相對應于曝光平臺13的上方或下方 位置，設(shè)有一光源組14;請同時參照圖2所示，該曝光平臺13為一供放置 被加工物20與原稿(圖略)的透明平臺，整體曝光平臺13并藉由一組線性滑 軌15進出曝光室12。
該曝光平臺13連同被加工物及原稿進入曝光室12至定位之后， 一船: 必須在曝光室12內(nèi)部停留一段時間(約3 ~ 5秒不等)使被加工物接受光源 組1'4的曝光光源照射，待完成曝光之后再由曝光平臺13將被加工物送出。
由于， 一般習用曝光機多采用曝光平臺13停滯在曝光室12內(nèi)部的方 式進行曝光作業(yè)，因此該光源組14并必須具有大量采用數(shù)ii配置方式的 燈泡141，方得以形成足以涵蓋整個曝光平臺13的平行光源；然而，在大 量燈泡141同時運作下，將使機殼ll內(nèi)部產(chǎn)生嚴重的聚熱現(xiàn)象，需另外用 水冷系統(tǒng)散熱，致使設(shè)備成本偏高。
另有一種習用曝光機透過復眼裝置將燈泡的光線修正為所需的平行 光及面積大小，其動作方式乃讓光源燈泡透過橢圓鏡將光線利用一組第 一反射鏡投向復眼裝置使其光線均勻化，再利用一組第二反射鏡將光線改變前進方向，最后利用 一組凸透鏡將光線修正為所需的平行光及面積 大小，進而投射出所須的曝光光源，并藉以減少燈泡的數(shù)量。
然而，如次此的設(shè)計將使整體曝光機的結(jié)構(gòu)趨于復雜，且整體曝光
機的體機亦相對更趨龐大；尤其，必須使用大瓦數(shù)的燈泡， 一般大瓦數(shù) 燈泡的壽命相當短，不但增加燈泡的更換頻率，無形的中生產(chǎn)成本亦相 對增力口。

實用新型內(nèi)容
有鑒于此，本實用新型所解決的技術(shù)問題即在提供一種較不會產(chǎn)生 聚熱現(xiàn)象，而且相對可以降低設(shè)備體積及成本的曝光^L結(jié)構(gòu)。
為達上揭目的，本實用新型的曝光機在一機臺上設(shè)有至少一曝光平 臺，以及設(shè)有一輸送機組用以帶動該至少 一曝光平臺相對進出機臺的曝 光室，該曝光室內(nèi)部至少在相對應于該曝光平臺的移動4亍程上方或下方
位置設(shè)有一曝光光源組，在該曝光光源組外部有一出光罩；另外，設(shè)有 一組控制電路供設(shè)定、整合該輸送機組與該曝光光源組以及該出光罩的 運作。
其中，該出光罩在其相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設(shè)有一長 條狀的透光槽，另設(shè)有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否，待曝光光 源組的光源(本實施例為燈泡)啟動時，其光源可透過該出光罩的透光槽向 外照射，使產(chǎn)生朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配合輸送機 組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受條狀光源 的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
具體而言，本實用新型的曝光機具有下列功效
1. 用以產(chǎn)生曝光效果的光源為條狀光源，而非涵蓋整個曝光平臺的 大面積光源，故可大幅減少曝光光源組的燈泡數(shù)量，相對縮減整體曝光 機的體積，以及相對降低設(shè)備成本。
2. 該控制電路可在曝光平臺接受條狀光源照射時，再行調(diào)升啄光光 源組的功率，故可相對降低曝光室的聚熱現(xiàn)象。
3. 整體曝光機尤適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平臺依序通 過曝光室，然而可藉以提升曝光顯影制程的加工產(chǎn)能。

圖1為 一 習用曝光機的結(jié)構(gòu)剖視圖； 圖2為 一 習用曝光機的曝光平臺外觀立體圖； 圖3為本實用新型的曝光機外觀立體圖； 圖4為本實用新型曝光機的曝光室內(nèi)部結(jié)構(gòu)立體圖； 圖5為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源 組外觀結(jié)構(gòu)圖6為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源 組放大示意圖7為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源 組及出光罩的外觀結(jié)構(gòu)圖8為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源 組及出光罩的放大示意圖9為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程下方位置的出光罩結(jié) 構(gòu)分解圖10為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源 組及出光罩的外觀結(jié)構(gòu)圖ll為本實用新型中設(shè)于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源 組結(jié)構(gòu)俯^L圖12為本實用新型中燈殼的外觀結(jié)構(gòu)圖13為本實用新型中曝光平臺到達接近透光槽槽的預定行程的動作 示意圖14為本實用新型中曝光平臺到達完成曝光顯影的預定行程的動作 示意圖。
圖號說明
ll機殼 12曝光室 13曝光平臺 14光源組 141燈泡 15線性滑軌 20被力口工物 30機臺31機殼
312循環(huán)入風口 33濾網(wǎng) 50輸送機組 52皮帶
60曝光光源組
611燈殼
63散熱風扇
71透光槽
73動力缸
81觸控屏幕
32曝光室 40曝光平臺
311散熱排風口
53馬達
61燈泡
62反射鏡
70出光罩
72遮光板
80控制電3各 82感應開關(guān)
51線性滑軌
具體實施方式
本實用新型的特點，可參閱本案圖式及實施例的詳細說明而獲得清 楚地了解。
如圖3及圖4所示，本實用新型的曝光機包括有 一機臺30、至少一 曝光平臺40、 一輸送機組50、至少一曝光光源組60、至少一出光罩70, 以及一控制電路80;其中
該機臺30具有一由機殼31所包圍構(gòu)成的曝光室32,該機殼31在相對 于該曝光室32的外圍設(shè)有散熱排風口311及至少一循環(huán)入風口312，并且 在該至少一循環(huán)入風口312處設(shè)有濾網(wǎng)33,以防止灰塵、異物進入曝光室 32。
該至少一曝光平臺40,為供固定被加工物及原稿的透明平臺；該輸 送才幾組50用以帶動該至少 一曝光平臺40相對進出該才幾臺30的曝光室32， 其具有一組橫向延伸配置于該機臺30的曝光室32內(nèi)、外區(qū)域的線性滑軌 51供承載該曝光平臺40,設(shè)有一皮帶52供與該曝光平臺40連接，以及設(shè) 有一馬達53用以帶動該皮帶52運轉(zhuǎn)，并在該線性滑軌51的導引下，帶動 該曝光平臺40相對進出該機臺30的曝光室32 。
該至少一曝光光源組60設(shè)在該曝光室32內(nèi)部相對于該曝光平臺40的 移動行程上方或下方位置，如圖5至圖8所示，每一組曝光光源組60具有若干光源(本實施例為燈泡)61用以產(chǎn)生曝光光源；在本實施例中，整體曝 光機在該曝光平臺40的移動行程上方與下方位置皆設(shè)有一曝光光源組 60，同時對該曝光平臺40上、下兩面的^皮加工物進^f亍曝光顯影。
該至少一出光罩70設(shè)在該至少一曝光光源組60外部，如圖9所示，其 在相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設(shè)有一長條狀的透光槽71，另設(shè) 有一活動遮光板72控制該透光槽71開啟與否；該活動遮光^反72與該出光 罩70之間連^妄有至少一動力缸73，由該至少一動力缸73帶動該活動遮光 板72與該出光罩相對位移，進而控制該透光槽71關(guān)閉或開啟。
如圖7所示，該控制電路80供設(shè)定、整合該輸送機組50、該至少一曝 光光源組60以及該活動遮光板72的運作，其具有一設(shè)在機臺IO上的觸控 屏幕81供設(shè)定相關(guān)動作參數(shù)，以及在該機臺10相對于該曝光平臺40的移 動行程處設(shè)有至少 一感應開關(guān)82用以感測該曝光平臺40的相對位置。
請同時配合參照圖IO及圖ll所示，上揭曝光光源組60的各燈泡61呈 沿著出光罩70的透光槽71直線排列，并且設(shè)有一組反光鏡62用以將燈泡 61的光線投向該出光罩70的透光槽71;又，各燈泡以特定角度(約2。)夾 角朝向光線照射方向偏擺的方式配置，使各燈泡61的光源得以完全接續(xù)， 各燈泡61的燈殼611內(nèi)部建構(gòu)有PI鍍膜以增加其反射率(如圖12所示)，以 及在相對于各燈泡61的配設(shè)位置設(shè)有一散熱風扇63,以增加曝光光源組 60的廢熱排;故效率。
如圖13所示，本實用新型的曝光機在該曝光平臺40尚未進入曝光室 的前將原稿及被加工物固定在該曝光平臺40上，并且經(jīng)由觸控屏幕81設(shè) 定曝光光源60的輸出功率以及該輸送機組50的運轉(zhuǎn)速度之后即可開始運 作。
在曝光才幾開始運作時，首先開啟曝光光源組60的燈泡，并啟動該輸 送機組50帶動曝光平臺40朝向曝光室方向移動，當曝光平臺40進入曝光 室并且到達接近該透光槽71槽的預定行程時，會先行啟動該控制電路80 的感應開關(guān)82(如圖8所示)，由該控制電路80操控該活動遮光板動作，使 該出光罩70的透光槽71開啟，同時調(diào)升該曝光光源組60的輸出功率。
此時，該曝光光源組60的光源即可透過該出光罩70的透光槽71向外 照射，使產(chǎn)生朝向曝光平臺40移動行程照射的條狀光源；再配合輸送機組50帶動該曝光平臺40以預定速度與該出光罩70相對位移的方式接受該 條狀光源的照射，進而使該曝光平臺40上的被加工物完成曝光顯影。
如圖14所示，待該曝光平臺40相對移動至完成曝光顯影的預定行程 即令該該控制電路80的感應開關(guān)82(如圖8所示)關(guān)閉，由該控制電路80操 控該活動遮光板72動作，將該出光罩70的透光槽關(guān)閉，同時調(diào)降該曝光 光源組60的輸出功率。
由于本實用新型的曝光機用以產(chǎn)生曝光效果的光源為條狀光源，而 非涵蓋整個曝光平臺的大面積光源，故可大幅減少曝光光源組60的燈泡 數(shù)量，相對縮減整體曝光機的體積，以及相對降低設(shè)備成本；再者，該 控制電路80可在曝光平臺40接受條狀光源照射時，再行調(diào)升該曝光光源 組60的輸出功率，故可相對降低曝光室的聚熱現(xiàn)象。
附帶一提的是，由于本實用新型的曝光機在進行曝光顯影時，該曝 光平臺以預定的速度持續(xù)朝向深入曝光室的方向移動，因此整體曝光機 尤適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平臺依序通過曝光室，而可藉 以提升曝光顯影制程的加工產(chǎn)能。
綜上所述，本實用新型提供一較佳可行的曝光機，爰依法提呈新型 專利的申請；本實用新型的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點巳揭示如上，然而熟悉 本項技術(shù)的人士仍可能基于本實用新型的揭示而作各種不背離本案實用 新型精神的替換及修飾。因此，本實用新型的保護范圍應不限于實施例 所揭示者，而應包括各種不背離本實用新型的替換及修飾，并為以下的
申請專利范圍所涵蓋。
權(quán)利要求1、一種曝光機，其特征在于，包括有一機臺，具有一由機殼所包圍構(gòu)成的曝光室；至少一曝光平臺，為供固定被加工物及原稿的透明平臺；一輸送機組，用以帶動該至少一曝光平臺相對進出該機臺的曝光室；至少一曝光光源組，設(shè)在該曝光室內(nèi)部相對于該曝光平臺的移動行程上方或下方位置，每一組曝光光源組具有若干光源用以產(chǎn)生曝光光源；至少一出光罩，設(shè)在該至少一曝光光源組外部，其在相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設(shè)有一長條狀的透光槽，另設(shè)有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否；一控制電路，供設(shè)定、整合該輸送機組、該至少一曝光光源組以及該活動遮光板的運作；以及，該曝光光源組的燈泡啟動時，其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射，使產(chǎn)生朝向該曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配合該輸送機組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受該條狀光源的照射，使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
2、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，在該曝光平臺的移動行程上方與下方位置皆設(shè)有 一曝光光源組。
3、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該機殼在相對于該瀑光室的外圍設(shè)有散熱排風口及至少一循環(huán)入風口 ，并且在該至少一循環(huán)入風口處設(shè)有濾網(wǎng)。
4、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該輸送機組具有一組橫向延伸配置于該機臺的曝光室內(nèi)、外區(qū)域的線性滑軌供承載該曝光平臺，設(shè)有一皮帶供與該曝光平臺連接，以及設(shè)有一用以帶動該皮帶運轉(zhuǎn)的馬達。
5、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該活動遮光板與該出光罩之間連接有至少 一用于帶動該活動遮光板與該出光罩相對位移，進而控制該透光槽關(guān)閉或開啟的動力缸。
6、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該控制電路具有一設(shè)在機臺上的供設(shè)定相關(guān)動作參數(shù)的觸控屏幕，以及在該機臺相對于該曝光平臺的移動行程處設(shè)有至少一用以感測該曝光平臺相對位置的感應開關(guān)。
7、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡呈沿著該出光罩的透光槽直線排列，并且設(shè)有一組用以將燈泡 的光線投向該出光罩透光槽的反光鏡。
8、 如權(quán)利要求7所述的曝光機，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡朝向光線照射方向偏擺的方式配置。
9、 如權(quán)利要求7所述的曝光機，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡以2°夾角朝向光線照射方向偏擺的方式配置。
10、 如權(quán)利要求1所述的曝光機，其特征在于，該光源燈泡或LED 光源。
專利摘要本實用新型曝光機主要在曝光光源組外部設(shè)有一出光罩，該出光罩在其相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設(shè)有一長條狀的透光槽，以及設(shè)有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否，使得以在該透光槽開啟的狀態(tài)下產(chǎn)生朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源；再配該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受條狀光源的照射，進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
文檔編號G03F7/20GK201402366SQ20092015225
公開日2010年2月10日 申請日期2009年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月29日
發(fā)明者呂金水, 鐘政學 申請人:翊暉科技股份有限公司