專利名稱：彩色濾光片基板及制作方法和液晶顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種彩色濾光片基板及制作方 法和 一 種液晶顯示面^￡ 。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)不僅具有輕、薄、小等特點(diǎn)， 并且還具有功耗低、無輻射和制造成本相對(duì)較低的優(yōu)點(diǎn)，因此目前在平板顯 示領(lǐng)域占主導(dǎo)地位。液晶顯示器非常適合應(yīng)用在臺(tái)式計(jì)算機(jī)、掌上型計(jì)算機(jī)、 個(gè)人數(shù)字助理(Personal Digital Assistant, PDA ) 、 i更攜式電話、電^L和多種 辦公自動(dòng)化和視聽設(shè)備中。
液晶顯示面板是液晶顯示器的主要組件，目前主流的液晶顯示面板是由 一片薄膜晶體管(Thin Film Transistor, TFT )基板，與另 一片彩色濾光片(Color Filter, CF)基板貼合而成，兩片基板所夾區(qū)域之間為液晶層。為了限定液晶 分子起始狀態(tài)的排布，需要在薄膜晶體管基板和彩色濾光片基板各自靠近液 晶層的一側(cè)印刷配向?qū)?，配向?qū)油ǔＪ褂玫牟牧蠟榫埘啺?Polyimide, PI)， 因此配向?qū)佑址Q為PI層。
現(xiàn)有技術(shù)的彩色濾光片基板的剖面結(jié)構(gòu)如圖1所示，彩色濾光片基板包 括基底11、黑矩陣(Black matrix, BM)層12、色阻層13和透明導(dǎo)電層14。 黑矩陣層12位于基底11上，包括多個(gè)等距離排列的黑矩陣，起到遮光作用； 在基底11上的每?jī)蓚€(gè)黑矩陣之間為色阻層3，色阻層13由紅(R)、綠(G)、 藍(lán)(B)色阻組成，在每?jī)蓚€(gè)黑矩陣之間的區(qū)域分別設(shè)定為紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B) 色阻，起到濾光作用，透過該區(qū)域的光分別顯示為紅色、綠色和藍(lán)色；透明 導(dǎo)電層14位于黑矩陣層12和色阻層13上，作為公共電極。現(xiàn)有技術(shù)的彩色濾光片基板的制作方法是
首先在基底11上制作圖案化的黑矩陣層12。具體的制作方法是，在基
底11上整面涂敷黑矩陣層材料，然后通過曝光顯影去除不需要形成黑矩陣 的區(qū)域中的黑矩陣層材料，留下等距離排列的黑矩陣，構(gòu)成圖案化的黑矩陣
層12。
然后在基底11上的每?jī)蓚€(gè)黑矩陣之間的區(qū)域，根據(jù)設(shè)定形成由紅(R)、 綠(G)、藍(lán)(B)色阻構(gòu)成的色阻層13。形成色阻層13可以采用曝光顯影法， 也可以采用噴墨等其它方法。以形成R色阻為例，曝光顯影法的具體的制作 方法是先整面涂敷R色阻材料，然后通過曝光顯影去除不需要形成R色 阻的區(qū)域中的R色阻材料，留下R色阻。然后，可以采用同樣的方法形成G 色阻和B色阻，由R色阻、G色阻和B色阻構(gòu)成圖案化的色阻層13。
再在色阻層13和黑矩陣層12之上接著形成透明導(dǎo)電層14。
最后，要在透明導(dǎo)電層14上印刷PI層并對(duì)PI層進(jìn)行取向，取向方法 一般采用摩擦工藝。在制作液晶顯示面板時(shí)，摩擦后的PI層緊挨液晶層， 用于限定液晶的初始排布狀態(tài)。
為了防止漏光，在制作色阻層13時(shí)需要令色阻層13與黑矩陣層12交 疊。參見圖1,圖1中虛線圓所示區(qū)域?yàn)樯鑼?3和黑矩陣層12的交疊區(qū) 域，色阻層13與黑矩陣層12呈嵌入式交疊。在實(shí)際制作過程中，由于工廠 的制程能力以及色阻材料的縮水率等的限制，導(dǎo)致交疊區(qū)域色阻斷差較大， 交疊區(qū)域產(chǎn)生通常所說的"牛角"15，這就使得在后續(xù)印刷PI層的制程中 此區(qū)域出現(xiàn)PI的爬坡能力不好，甚至未形成PI層，導(dǎo)致液晶層中接近此區(qū) 域的液晶分子的配向與色阻層13對(duì)應(yīng)的有效顯示區(qū)域有差別，液晶分子的 初始排布狀態(tài)錯(cuò)誤，并且因?yàn)榇藚^(qū)域未被黑矩陣所遮擋，因此會(huì)出現(xiàn)漏光的 現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供 一 種彩色濾光片基板，該彩色濾光片基板不存在色阻
5層和黑矩陣層交疊區(qū)域的"牛角"。
本發(fā)明實(shí)施例提供 一 種彩色濾光片基板的制作方法，采用該方法制作的 彩色濾光片基板不會(huì)產(chǎn)生色阻層和黑矩陣層交疊區(qū)域的"牛角"。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種液晶顯示面板，該液晶顯示面板不存在色阻層和 黑矩陣層交疊區(qū)域的"牛角"。
本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具體是這樣實(shí)現(xiàn)的
一種彩色濾光片基板，包括基底、黑矩陣層、色阻層和透明導(dǎo)電層，所述 黑矩陣層是整層涂敷的與所述色阻層無嵌入式交疊區(qū)域的光致變色材料層。
所述色阻層位于基底上，所述透明導(dǎo)電層位于色阻層上，所述黑矩陣層位
于透明導(dǎo)電層上；
或，
所述黑矩陣層位于基底上，所述色阻層位于黑矩陣層上，所述透明導(dǎo)電層
位于色阻層上； 或，
所述色阻層位于基底上，所述黑矩陣層位于色阻層上，所述透明導(dǎo)電層位 于黑矩陣層上。
所述色阻層包括紅、綠、藍(lán)色阻；
所述紅、綠、藍(lán)色阻之間緊密相鄰或存在間隙。
所述光致變色材料為有機(jī)材料或無機(jī)材料；
所述有機(jī)材料包括螺吡喃、螺噁口秦、六苯基雙咪唑、水楊醛縮苯胺類化 合物、周萘靛蘭類染料、偶氮化合物、稠環(huán)芳香化合物、p塞。秦類、俘精酸酐類、 二芳基乙烯類；
所述無機(jī)材料包括過渡金屬氧化物、金屬卣化物、稀土配合物。 所述光致變色材料為3- (1， 2-二- (2， 5_二曱基-3-p塞喻基)全氟
環(huán)戊蹄)3 -笨基-萘并吡喃。
一種彩色濾光片基板制作方法，在基底上按設(shè)定順序分別形成色阻層、透
明導(dǎo)電層和黑矩陣層，所述形成黑矩陣層包括整層涂敷光致變色材料，形成光致變色材料層；
對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光，形成所述黑矩陣層。
所述的設(shè)定順序?yàn)?br> 由下而上依次形成色阻層、透明導(dǎo)電層和光致變色材料層，在形成光致變 色材料層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光； 或，
由下而上依次形成光致變色材料層、色阻層和透明導(dǎo)電層，在形成透明導(dǎo) 電層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光； 或，
由下而上依次形成色阻層、光致變色材料層和透明導(dǎo)電層，在形成透明導(dǎo) 電層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光。
所述對(duì)光致變色材料曝光為采用光罩遮擋不需要形成黑矩陣的區(qū)域，從光 致變色材料層靠近色阻層的一側(cè)或從光致變色材料層背離色阻層的一側(cè)對(duì)需要 形成黑矩陣的區(qū)域曝光。
所述光致變色材料為3- (1， 2-二- (2， 5-二曱基-3-p塞吩基)全氟 環(huán)戊蜂)3 _笨基-萘并吡喃，對(duì)其進(jìn)行曝光的光的波長(zhǎng)為313nm。
一種液晶顯示面板，包括如上所述的彩色濾光片基板、薄膜晶體管基板 和液晶層。
由上述的技術(shù)方案可見，本發(fā)明選用光致變色材料制作黑矩陣層，通過 對(duì)整層涂敷的光致變色材料進(jìn)行曝光形成黑矩陣層。因?yàn)椴恍枰@影去除黑 矩陣層中每個(gè)黑矩陣之間的區(qū)域，不需在每個(gè)黑矩陣之間的區(qū)域中制作色阻 層，因此避免了色阻層和黑矩陣層的嵌入式交疊，避免了產(chǎn)生"牛角，，。從 而使得在后續(xù)制程中不會(huì)出現(xiàn)因PI的爬坡能力不好或者未形成PI層導(dǎo)致的 漏光。由于不需要顯影過程，因此減小了彩色濾光片基板的制作周期和制作 成本。由于制作黑矩陣層采用的材料為可變色材料，在制成的彩色濾光片基 板的像素出現(xiàn)亮點(diǎn)時(shí)，可以通過紫外光照射等方法進(jìn)行修復(fù)。


圖l為現(xiàn)有技術(shù)的彩色濾光片基板的剖面圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例彩色濾光片基板的制作流程圖4為本發(fā)明第二實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖5為本發(fā)明第二實(shí)施例彩色濾光片基板的制作流程圖6為本發(fā)明第三實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖7為本發(fā)明第三實(shí)施例彩色濾光片基板的制作流程圖。
具體實(shí)施例方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下參照附圖并舉 實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。
本發(fā)明實(shí)施例在彩色濾光片基板的制作過程中，選用光致變色材料制作 黑矩陣層，通過對(duì)光致變色材料進(jìn)行曝光的方法形成黑矩陣層，因此無需顯 影即可完成黑矩陣層的制作，從而使得色阻層與黑矩陣層無嵌入式交疊。
i羊細(xì)-沈明。
第一實(shí)施例
本發(fā)明第一實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖如圖2所示，在本實(shí)施例 中，彩色濾光片基板主要包括基底21、黑矩陣層22、色阻層23和透明導(dǎo) 電層24?；?1是透明的，可以是采用玻璃、石英等為材料的硬質(zhì)基底， 也可以是采用塑料、高分子材料等為材料的可撓性基底。在基底21上直接 形成色阻層23,與現(xiàn)有技術(shù)相同，色阻層23的不同區(qū)域分別設(shè)定為紅(R)、 綠(G)、藍(lán)(B)色阻，透過該區(qū)域的光分別顯示為紅色、綠色和藍(lán)色，紅(R)、 綠(G)、藍(lán)(B)色阻之間緊密相鄰或存在間隙。透明導(dǎo)電層24位于色阻層23 上，透明導(dǎo)電層24的材料要求是透明導(dǎo)電材料，例如可以是銦錫氧化物 (ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅鋁氧化物(ZAO)等無機(jī)透明導(dǎo)電材料，或是聚-3,4-乙烯二氧噻吩(PEDOT)等有機(jī)透明導(dǎo)電聚合材料。黑矩陣層 22位于透明導(dǎo)電層24上，包括多個(gè)等距離排列的黑矩陣，與現(xiàn)有技術(shù)不同 的是，本發(fā)明的實(shí)施例中黑矩陣層22與色阻層23是各自獨(dú)立的兩層，兩者 無嵌入式交疊區(qū)域，并且黑矩陣層22采用光致變色材料制成。
黑矩陣層22可以采用的光致變色材料包括螺吡喃、螺噁。秦、六苯基 雙咪唑、水楊醛縮苯胺類化合物、周萘靛蘭類染料、偶氮化合物、稠環(huán)芳香 化合物、噻。秦類、俘精酸酐類、二芳基乙烯類等有機(jī)材料，還可以采用過渡 金屬氧化物、金屬卣化物、稀土配合物等無機(jī)材料。以下通過一個(gè)具體實(shí)例 對(duì)黑矩陣層22采用光致變色材料予以詳細(xì)說明。例如黑矩陣層22采用光致 變色材料3— (1， 2 —二- (2， 5-二甲基-3-p塞口分基)全氟環(huán)戊烯)3 —
苯 基-萘 并 吡 喃， 其 英 文 名 稱 為 (3-(4-(2-(2,5-dimethylthiophen-3-yl)-3，3，4，4，5，5-hexafluorocyclopent-l-enyl)-5-methylthiophen-2-yl)-3-phenyl-3H-benzo[f]chromene)，簡(jiǎn)稱OD-CN。 OD-CN 為光致變色材料，在使用波長(zhǎng)為313nm的紫外光照射后，會(huì)生成OD-CN的 二噻吩基環(huán)化物，此二噻吩基環(huán)化物為1, 2， 3， 4-二-(2， 5-二甲基-3-噻 吩基)-5， 6- (3， 3， 4, 4， 5， 5-六氟-l-環(huán)戊烯基)-3-苯基-苯并吡喃，簡(jiǎn) 稱為CD-ON。 OD-CN對(duì)380nm-800nm的光都具有很好的透過性，表現(xiàn)為無 色透明，經(jīng)紫外光照射后生成的CD-ON對(duì)380nm-760nm的光波有較好的吸 收作用，表現(xiàn)為黑色，因?yàn)榭梢姽獾牟ㄩL(zhǎng)范圍主要在400nm-700nm之間， 因此CD-ON對(duì)可見光有很好的吸收作用，可作為黑矩陣使用。
本實(shí)施例中，彩色濾光片基板的制造方法流程如圖3所示，主要包括以 下步驟
步驟301:形成色阻層23。
在實(shí)施例一中，在基底21上直接形成色阻層23。
基底21可以是采用玻璃等為材料的硬質(zhì)基底，也可以是采用塑料等為 材料的可撓性基底。
色阻層23的形成方法與現(xiàn)有技術(shù)相同，可以采用曝光顯影法，也可以采用噴墨等其它方法。以曝光顯影法為例首先，在基底21上整面涂敷R 色阻材料，利用光罩遮擋曝光，然后顯影去除不需要形成R色阻的區(qū)域中的 R色阻材料，留下R色阻；采用同樣的方法形成G色阻和B色阻，形成色 阻層23。色阻層23的各個(gè)色阻之間緊密相鄰或存在間隙。 步驟302:形成透明導(dǎo)電層24。
在實(shí)施例一中，在色阻層23之上形成透明導(dǎo)電層24。要求形成透明導(dǎo) 電層24的材料是透明導(dǎo)電材料，例如可以是ITO、 IZO、 ZAO或PEDOT。 步驟303:涂敷光致變色材料。
在實(shí)施例一中，在透明導(dǎo)電層24之上整層涂敷光致變色材料，形成光 致變色材料層。光致變色材料用于制作黑矩陣層22,將其涂敷在透明導(dǎo)電 層24上。例如，采用上文所述的光致變色材料3- (1, 2-二- (2， 5-二曱基-3 -噻吩基)全氟環(huán)戊烯)3 -苯基-萘并吡喃，將該材料涂敷在透 明導(dǎo)電層24上。
步驟304:對(duì)光致變色材料層進(jìn)行曝光，形成所需的黑矩陣層。
對(duì)光致變色材料進(jìn)行曝光時(shí)，光源可以采用紫外光等，通過光罩遮擋不 需要形成黑矩陣的區(qū)域，對(duì)需要形成黑矩陣的區(qū)域進(jìn)行曝光，由于光致變色 材料自身的特性，被曝光的區(qū)域由無色透明轉(zhuǎn)化為黑色。曝光可以從光致變 色材料層靠近色阻層的 一側(cè)進(jìn)行，也可以從光致變色材料層背離色阻層的一 側(cè)進(jìn)行， 一種較佳的方法是從光致變色材料層背離色阻層的一側(cè)對(duì)光致變色 材料進(jìn)行曝光，因?yàn)檫@樣可以避免色阻層對(duì)曝光光線的吸收。因?yàn)椴煌庵?變色材料對(duì)光照的反應(yīng)時(shí)間不同，因此在曝光時(shí)可根據(jù)所選用的光致變色材 料的不同改變曝光光源的強(qiáng)度或曝光的時(shí)間。
并且，由于制作黑矩陣層采用的材料為可變色材料，如果制成的彩色濾 光片基板的像素出現(xiàn)亮點(diǎn)，可以通過本步驟所述的紫外光照射等方法對(duì)其進(jìn) 行修復(fù)，使其變?yōu)榘迭c(diǎn)。
第二實(shí)施例 ，
本發(fā)明第二實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖如圖4所示，在本實(shí)施例
10中，彩色濾光片基板主要包括基底41、黑矩陣層42、色阻層43和透明導(dǎo) 電層44。本實(shí)施例中彩色濾光片基板的各個(gè)組成部分所選的材料與第一實(shí) 施例相同，在此不再贅述。與第一實(shí)施例相比，第二實(shí)施例所示的彩色濾光 片基板的區(qū)別在于，黑矩陣層42直接位于基底41上，色阻層43位于黑矩 陣層42上，透明導(dǎo)電層44位于色阻層43上。
本實(shí)施例中，彩色濾光片基板的制造方法流程如圖5所示，主要包括以 下步驟
步驟501:涂敷光致變色材料。
在實(shí)施例二中，首先在基底41上直接整層涂敷光致變色材料，形成光 致變色材料層，其具體方法與實(shí)施例 一的步驟303相同。 步驟502:形成色阻層43。
在實(shí)施例二中，在步驟501中涂敷的光致變色材料上形成色阻層43, 色阻層43的形成方法與實(shí)施例一的步驟301相同。 步驟503:形成透明導(dǎo)電層44。 本步驟與實(shí)施例一的步驟302相同。
步驟504:對(duì)光致變色材料層進(jìn)行曝光，形成所需的黑矩陣層。
本步驟與實(shí)施例一的步驟304相同。
第三實(shí)施例
本發(fā)明第三實(shí)施例彩色濾光片基板的剖面圖如圖6所示，在本實(shí)施例 中，彩色濾光片基板主要包括基底61、黑矩陣層62、色阻層63和透明導(dǎo) 電層64。本實(shí)施例中彩色濾光片基板的各個(gè)組成部分所選的材料與第一實(shí) 施例相同，在此不再贅述。與第一實(shí)施例相比，第三實(shí)施例所示的彩色濾光 片基板的區(qū)別在于，色阻層63位于基底61上，黑矩陣層62位于色阻層63 上，透明導(dǎo)電層64位于黑矩陣層62上。
本實(shí)施例中，彩色濾光片基板的制造方法流程如圖7所示，主要包括以 下步驟
步驟701:形成色阻層63。本步驟與實(shí)施例一中的步驟301、實(shí)施例二中的步驟502完全相同。
步驟702:涂敷光致變色材料。
在實(shí)施例三中，在形成色阻層63之后整層涂敷光致變色材料，形成光 致變色材料層，其具體方法與實(shí)施例一中的步驟303、實(shí)施例二中的步驟501相同。
步驟703:形成透明導(dǎo)電層64。
在實(shí)施例三中，在涂敷的光致變色材料上形成透明導(dǎo)電層64,透明導(dǎo) 電層64的具體形成方法與實(shí)施例一中的步驟302、實(shí)施例二中的步驟503相同。
步驟704:對(duì)光致變色材料層進(jìn)行曝光，形成所需的黑矩陣層。 本步驟與實(shí)施例一中的步驟304、實(shí)施例二中的步驟504相同。 通過上述實(shí)施例可見，由于光致變色材料在曝光前對(duì)可見光表現(xiàn)為無色 透明，經(jīng)過曝光后表現(xiàn)為黑色，曝光后可以吸收可見光，本發(fā)明選用光致變
色材料制作黑矩陣層，通過對(duì)光致變色材料進(jìn)行曝光形成黑矩陣層，所形成 的黑矩陣層中需要形成黑矩陣的區(qū)域顯示為黑色，其余區(qū)域仍舊顯示為無色透明。
本發(fā)明實(shí)施例提出的彩色濾光片基板制作方法中，因?yàn)椴恍枰@影去除 黑矩陣層中各個(gè)黑矩陣之間的區(qū)域，不需在各個(gè)黑矩陣之間的區(qū)域中制作色 阻層，因此避免了色阻層和黑矩陣層的嵌入式交疊，避免了產(chǎn)生"牛角"。 從而使得在后續(xù)制程中不會(huì)出現(xiàn)因Pl的爬坡能力不好或者未形成PI層導(dǎo)致 的液晶顯示器的漏光。由于不需要顯影過程，因此減小了彩色濾光片基板的 制作周期和制作成本。
并且，由于本發(fā)明實(shí)施例制作黑矩陣采用的材料為可變色材料，如果制 成的彩色濾光片基板的像素出現(xiàn)亮點(diǎn)，可以通過例如紫外光照射等方法對(duì)其 進(jìn)行修復(fù)，使其變?yōu)榘迭c(diǎn)。
示器。液晶顯示面板是由印刷了配向?qū)拥谋∧ぞw管基板與彩色濾光片基板
12貼合而成，兩片基板所夾區(qū)域之間為液晶層，其中，該液晶顯示面板的彩色
濾光片基板采用本發(fā)明所述的彩色濾光片基板，例如采用上述實(shí)施例一、實(shí) 施例二或?qū)嵤├龅牟噬珵V光片基板及制作方法。并且可以采用該液晶
顯示面板制作液晶顯示器。
總之，以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本發(fā)明的保 護(hù)范圍。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等， 均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種彩色濾光片基板，包括基底、黑矩陣層、色阻層和透明導(dǎo)電層，其特征在于，所述黑矩陣層是整層涂敷的與所述色阻層無嵌入式交疊區(qū)域的光致變色材料層。
2、 如權(quán)利要求1所述的彩色濾光片基板，其特征在于，所述色阻層位于基底上，所述透明導(dǎo)電層位于色阻層上，所述黑矩陣層位于透明導(dǎo)電層上； 或，所述黑矩陣層位于基底上，所述色阻層位于黑矩陣層上，所述透明導(dǎo)電層 位于色阻層上； 或，所述色阻層位于基底上，所述黑矩陣層位于色阻層上，所述透明導(dǎo)電層位 于黑矩陣層上。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的彩色濾光片基板，其特征在于， 所述色阻層包括紅、綠、藍(lán)色阻； 所述紅、綠、藍(lán)色阻之間緊密相鄰或存在間隙。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的彩色濾光片基板，其特征在于， 所述光致變色材料為有機(jī)材料或無機(jī)材料；所述有機(jī)材料包括螺吡喃、螺噁。秦、六苯基雙咪唑、水楊醛縮苯胺類化 合物、周萘靛蘭類染料、偶氮化合物、稠環(huán)芳香化合物、噻嗪類、俘精酸酐類、 二芳基乙烯類；所述無機(jī)材料包括過渡金屬氧化物、金屬卣化物、稀土配合物。
5、 如權(quán)利要求1或2所述的彩色濾光片基板，其特征在于， 所述光致變色材料為3- (1, 2-二- (2， 5-二曱基-3-p塞吩基)全氟環(huán)戊烯)3 -苯基-萘并吡喃。
6、 一種彩色濾光片基板制作方法，在基底上按設(shè)定順序分別形成色阻層、透明導(dǎo)電層和黑矩陣層，其特征在于，所述形成黑矩陣層包括 整層涂敷光致變色材料，形成光致變色材料層； 對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光，形成所述黑矩陣層。
7、 如權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述的設(shè)定順序?yàn)?由下而上依次形成色阻層、透明導(dǎo)電層和光致變色材料層，在形成光致變色材料層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光； 或，由下而上依次形成光致變色材料層、色阻層和透明導(dǎo)電層，在形成透明導(dǎo) 電層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光； 或，由下而上依次形成色阻層、光致變色材料層和透明導(dǎo)電層，在形成透明導(dǎo) 電層之后對(duì)所述光致變色材料層按照黑矩陣區(qū)域曝光。
8、 如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述對(duì)光致變色材料曝光為采用光罩遮擋不需要形成黑矩陣的區(qū)域，從光 致變色材料層靠近色阻層的 一側(cè)或從光致變色材料層背離色阻層一側(cè)對(duì)需要形 成黑矩陣的區(qū)域曝光。
9、 如權(quán)利要求6至8任一項(xiàng)所述的制作方法，其特怔在于，所述光致變色 材料為3— (1, 2-二- (2, 5-二曱基-3-瘞吩基)全氟環(huán)戊烯)3-苯基-萘并吡喃，對(duì)其進(jìn)^"曝光的光的波長(zhǎng)為313nm。
10、 一種液晶顯示面板，包括薄膜晶體管基板、彩色濾光片基板和液晶層， 其特征在于，所述彩色濾光片基板是如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的彩色濾光 片基板。
全文摘要
本發(fā)明提出一種彩色濾光片基板的制作方法，選用光致變色材料制作黑矩陣層，通過對(duì)整層涂敷的光致變色材料進(jìn)行曝光形成黑矩陣層，因此不需要顯影去除黑矩陣層中各個(gè)黑矩陣之間的區(qū)域，避免了色阻層和黑矩陣層的嵌入式交疊。本發(fā)明還提出一種采用上述方法制作的彩色濾光片基板和一種液晶顯示面板。由于色阻層和黑矩陣層的交疊區(qū)域不存在“牛角”，因此在后續(xù)制程中不會(huì)出現(xiàn)因PI的爬坡能力不好或者未形成PI層導(dǎo)致的漏光；由于不需要顯影過程，減小了彩色濾光片基板的制作周期和制作成本；并且當(dāng)制成的彩色濾光片基板的像素出現(xiàn)亮點(diǎn)時(shí)，可以通過紫外光照射等方法進(jìn)行修復(fù)。
文檔編號(hào)G03F7/00GK101581852SQ20091014622
公開日2009年11月18日 申請(qǐng)日期2009年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月24日
發(fā)明者蘇子芳, 邱郁雯 申請(qǐng)人:昆山龍騰光電有限公司