專利名稱:光學(xué)補償層、光學(xué)補償膜及它們的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜。更具體地,本發(fā)明涉及用于液 晶顯示元件且即使在涂布流體的涂覆后膜處于未拉伸狀態(tài)或單軸拉伸狀態(tài) 時也具有光學(xué)補償功能的光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜、及它們的制造方法。
背景技術(shù):
液晶顯示器是多媒體社會中最重要的顯示器,并且廣泛用于從便攜式
電話到電腦監(jiān)視器、筆記本型個人電腦和TV的應(yīng)用中。許多光學(xué)膜用于液 晶顯示器中以改善顯示特性。
特別地,在從前面或傾斜方向觀看顯示器的情況下,光學(xué)補償膜在對 比度改善、色調(diào)補償?shù)确矫嫫鸬街匾饔谩V两褚咽褂玫墓鈱W(xué)補償膜是聚 碳酸酯、環(huán)狀聚烯烴或纖維素樹脂的拉伸膜。但是,這些膜具有例如如下 的問題雙軸拉伸步驟是必要的和進(jìn)行雙軸拉伸步驟以獲得延遲的均勻性 是困難的。而且,特別是在具有大面積的膜中,調(diào)節(jié)通過雙軸拉伸而賦予 的延遲是更困難的。
作為用于消除與雙軸拉伸相關(guān)的那些問題的技術(shù),正在研究光學(xué)補償 層,其通過涂布流體的涂覆(涂布)而形成并在未拉伸的狀態(tài)下顯示出光學(xué)補 償功能。
University Of Akron的Harris和Cheng提出了由剛性棒狀的聚酰亞胺、 聚酯、聚酰胺、聚(酰胺-酰亞胺)或聚(酯-酰亞胺)構(gòu)成的光學(xué)補償層(參見例 如專利文獻(xiàn)1和2)。這些材料具有自發(fā)地進(jìn)行分子取向的性質(zhì),且因此特 征在于通過涂布流體的涂覆不經(jīng)過拉伸步驟而顯示出延遲。
而且,已提出了由具有改善的涂布流體涂覆性(在溶劑中的溶解性)的聚 酰亞胺形成的光學(xué)補償層(參見例如專利文獻(xiàn)3)、具有涂布有碟狀液晶化合 物的保護(hù)膜的偏光片(參見例如專利文獻(xiàn)4)等。
還已提出了由苯基馬來酰亞胺/異丁烯共聚物制成的拉伸膜(參見例如 專利文獻(xiàn)5).專利文獻(xiàn)2: 專利文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)4: 專利文獻(xiàn)
美國專利No. 5,344,916 JP-T畫10-508048 JP-A-2005-070745 日本專利No. 2565644 JP-A-2004-26984
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的問題
但是,通過在專利文獻(xiàn)1-3中提出的方法得到的聚合物的延遲的波長相 關(guān)性強,因為它們是芳族聚合物。當(dāng)用作液晶顯示元件的光學(xué)補償層時, 這些聚合物引起關(guān)于圖像質(zhì)量下降的問題,如色移。
在專利文獻(xiàn)4中提出的其中使用碟狀液晶化合物的技術(shù)具有例如如下 問題必須使液晶化合物均勻取向且這使得涂布過程復(fù)雜,以及取向不均 勻性增強。另外,由于該液晶化合物也主要是芳族化合物,因此該技術(shù)還 具有延遲的波長相關(guān)性強的質(zhì)量問題。
根據(jù)專利文獻(xiàn)5得到的拉伸膜當(dāng)處于僅通過涂布流體的涂覆而形成的 狀態(tài)時,該膜未顯示出延遲(nx二ny二nz)。對于其在拉伸后的三維折射率,nz4 是最高的。
因此,本發(fā)明的目的是提供具有優(yōu)異光學(xué)性質(zhì)的光學(xué)補償層和光學(xué)補 償膜。更具體地,所述目的是提供具有在涂布流體的涂覆時或在涂布流體 的涂覆和隨后的單軸拉伸時而賦予其的光學(xué)補償功能且其延遲的波長相關(guān) 性弱的光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜。
解決問題的手段
由于這些問題,發(fā)明人勤勉地進(jìn)行了研究。結(jié)果,他們發(fā)現(xiàn)由馬來 酰亞胺樹脂形成的涂布層、通過單軸拉伸該涂布層得到的涂布層、或包括 馬來酰亞胺樹脂的光學(xué)補償膜可為具有光學(xué)補償功能的膜,特別是適于液 晶顯示元件中的光學(xué)補償?shù)耐坎夹凸鈱W(xué)補償層或光學(xué)補償膜。由此完成了 本發(fā)明。
即,本發(fā)明提供光學(xué)補償層,其中該補償層是包括馬來酰亞胺樹脂 的涂布層,和其中當(dāng)在涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作x軸和y軸,且平面外方向稱作Z軸時,那么涂布層滿足三維折射率關(guān)系
nx^ny〉nz,其中nx是x軸方向上的折射率,ny是y軸方向上的折射率, 和nz是z軸方向上的折射率;光學(xué)補償膜,其包括包含馬來酰亞胺樹脂的 涂布層(A)和拉伸膜層(B);以及光學(xué)補償層,其是通過單軸拉伸包括馬來酰 亞胺樹脂的涂布層而得到的光學(xué)補償層,其中當(dāng)涂布層中的拉伸軸方向稱 作x4軸,與該拉伸方向垂直的方向稱作y4軸,且平面外方向稱作z4軸時, 那么光學(xué)補償層滿足三維折射率關(guān)系nx4>ny4〉nz4,其中nx4是x4軸方向 上的折射率,ny4是y4軸方向上的折射率,和nz4是z4軸方向上的折射率。
本發(fā)明的效果
本發(fā)明的光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜可在容易地調(diào)節(jié)它們的光學(xué)補償功 能的同時制造。因此它們可用作有效改善液晶顯示元件(特別是以VA模式 工作的液晶TV)的對比度和視角特性的光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜。
具體實施例方式
下面將詳細(xì)說明本發(fā)明。
對光學(xué)補償層給出說明,其特征在于它是包括馬來酰亞胺樹脂的涂 布層,和當(dāng)在涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作x軸和y軸, 且平面外方向稱作z軸時,那么涂布層滿足三維折射率關(guān)系nx^ny>nz,其 中nx是x軸方向上的折射率,ny是y軸方向上的折射率,和nz是z軸方 向上的折射率。
馬來酰亞胺樹脂的實例包括N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-取代 的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。構(gòu)成馬來酰亞胺樹脂的N-取代的馬來 酰亞胺殘基單元的實例包括由下述通式(l)表示的N-取代的馬來酰亞胺的殘
基單元。
《1)
(其中Ri表示具有1-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,卣素基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基)。
N-取代的馬來酰亞胺殘基單元的具體實例包括選自如下的 一種或多
種N-甲基馬來酰亞胺殘基單元、N-乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-氯乙基 馬來酰亞胺殘基單元、N-曱氧乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丙基馬來酰 亞胺殘基單元、N-異丙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丁基馬來酰亞胺殘基 單元、N-異丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-仲丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-己基馬來酰亞胺殘基單元、N-環(huán)己基馬來 酰亞胺殘基單元、N-辛基馬來酰亞胺殘基單元、N-月桂基馬來酰亞胺殘基 單元等。特別優(yōu)選的是N-正丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-異丁基馬來酰亞 胺殘基單元、N-仲丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單 元、N-己基馬來酰亞胺殘基單元和N-辛基馬來酰亞胺殘基單元。因此這些 單元給出易于顯示出延遲以及在溶劑中的溶解性和機械強度優(yōu)異的馬來酰 亞胺樹脂。
N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂的實例包括N-曱基馬來酰亞胺聚合物 樹脂、N-乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、 N-曱氧乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丁 基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-叔丁基馬 來酰亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-環(huán)己基馬來酰亞 胺聚合物樹脂、N-辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-月桂基馬來酰亞胺聚合 物樹脂。
N-取代的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的實例包括N-甲基馬來酰 亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-乙基馬來酰亞胺-馬來酸肝共聚物樹脂、N-氯乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-甲氧乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐 共聚物樹脂、N-正丙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來酰 亞胺-馬來酸肝共聚物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共 聚物樹脂、N-叔丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-己基馬來酰亞胺-馬來酸肝共聚物樹脂、N-環(huán)己基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-辛基 馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂和N-月桂基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物 樹脂。
10這些中特別優(yōu)選的是N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來酰
亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-辛基馬來酰亞胺-馬來
酸酐共聚物樹脂。因此這些樹脂在層的形成方面具有優(yōu)異的成膜性質(zhì)且給 出在光學(xué)補償功能和耐熱性方面優(yōu)異的光學(xué)補償層。
構(gòu)成本發(fā)明的該光學(xué)補償層的馬來酰亞胺樹脂可包括不同于N-取代的 馬來酰亞胺殘基單元和馬來酸酐殘基單元的殘基單元,只要這不背離本發(fā) 明的目的。這種任選的殘基單元的實例包括以下的一種或多種苯乙烯化 合物殘基單元如苯乙烯殘基單元和a-曱基苯乙烯殘基單元;丙烯酸殘基單 元;丙烯酸酯殘基單元如丙烯酸甲酯殘基單元、丙烯酸乙酯殘基單元和丙 烯酸丁酯殘基單元;曱基丙烯酸殘基單元;曱基丙烯酸酯殘基單元如甲基 丙烯酸甲酯殘基單元、曱基丙烯酸乙酯殘基單元和曱基丙烯酸丁酯殘基單 元;乙烯基酯殘基如乙酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、新戊酸乙烯酯殘 基、月桂酸乙烯酯殘基和硬脂酸乙烯酯殘基;丙烯腈殘基;曱基丙烯腈殘 基等。
優(yōu)選,馬來酰亞胺樹脂應(yīng)為由凝膠滲透色語法(下文中稱作GPC)中得到 的洗脫曲線以標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯計算的數(shù)均分子量(Mn)為1 x io3或更高的樹 脂。其數(shù)均分子量特別優(yōu)選為2x 104至2x 105,因為這種馬來酰亞胺樹脂 給出具有優(yōu)異機械性質(zhì)且在層的形成中具有優(yōu)異的可成形性的光學(xué)補償層。
方法,只要得到該馬來酰亞胺樹脂。例如,該樹脂可通過如下制造使至 少一種N-取代的馬來酰亞胺和馬來酸酐任選地與 一種或多種與N-取代的馬 來酰亞胺可共聚的單體一起進(jìn)行自由基聚合或自由基共聚。N-取代的馬來 酰亞胺的實例包括如下的一種或多種N-曱基馬來酰亞胺、N-乙基馬來酰 亞胺、N-氯乙基馬來酰亞胺、N-曱氧乙基馬來酰亞胺、N-正丙基馬來酰亞 胺、N-異丙基馬來酰亞胺、N-正丁基馬來酰亞胺、N-異丁基馬來酰亞胺、 N-仲丁基馬來酰亞胺、N-叔丁基馬來酰亞胺、N-己基馬來酰亞胺、N-環(huán)己 基馬來酰亞胺、N-辛基馬來酰亞胺等。所述可共聚單體的實例包括如下的 一種或多種苯乙烯化合物如苯乙烯和a-曱基苯乙烯;丙烯酸;丙烯酸酯 如丙烯酸曱酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯;曱基丙烯酸;曱基丙烯酸酯如 曱基丙烯酸曱酯、甲基丙烯酸乙酯和曱基丙烯酸丁酯;乙烯基酯如乙酸乙
ii烯酯、丙酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯和硬脂酸乙烯酯;丙烯
腈;曱基丙烯腈等。
可使用已知的聚合技術(shù)進(jìn)行自由基聚合。例如,可使用如本體聚合、 溶液聚合、懸浮聚合、沉淀聚合和乳液聚合的所有聚合技術(shù)。
在進(jìn)行自由基聚合的情況下可用的聚合引發(fā)劑的實例包括有機過氧化 物如過氧化苯曱酰、月桂基過氧化物、過氧化辛酰、過氧化乙酰、二叔丁 基過氧化物、叔丁基枯基過氧化物、二枯基過氧化物、過氧乙酸叔丁酯和
過氧苯曱酸叔丁酯;和偶氮引發(fā)劑如2,2,-偶氮二(2,4-二曱基戊腈)、2,2,-偶 氮二(2-丁腈)、2,2,-偶氮二異丁腈、2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯和l,l,-偶氮二 (環(huán)己烷-l-腈)。
不特別限制在溶液聚合、懸浮聚合、沉淀聚合和乳液聚合中可用的溶 劑。其實例包括芳族溶劑如苯、曱苯和二曱苯;醇溶劑如曱醇、乙醇、丙 醇和丁醇;環(huán)己烷;二喝烷;四氫呋喃(THF);丙酮;曱乙酮;二曱基曱酰 胺;乙酸異丙酯;水;和N-曱基吡咯烷酮。其實例還包括由這些的兩種或 更多種構(gòu)成的混合溶劑。
適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。通常,優(yōu)選在40-150。C的溫度下進(jìn)行聚合。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層是包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層,且特別是在 用作光學(xué)補償層時光學(xué)補償功能優(yōu)異。在其中由聚合物制成的膜用作光學(xué) 補償膜的情況下,該膜的三維折射率通常通過例如膜的雙軸拉伸調(diào)節(jié)。但 是,雙軸拉伸的步驟具有例如制造步驟和質(zhì)量控制變得復(fù)雜的問題。相反, 本發(fā)明的光學(xué)補償層是包括馬來酰亞胺的涂布層,且為特征在于如下的光 學(xué)補償層當(dāng)在涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作x軸和y 軸,且平面外方向稱作z軸時,那么涂布層滿足三維折射率關(guān)系nx"ny>nz, 其中nx是x軸方向上的折射率,ny是y軸方向上的折射率(當(dāng)nx不等于ny 時,最低的折射率作為nx),和nz是z軸方向上的折射率。已發(fā)現(xiàn)該層展 現(xiàn)出處于未拉伸狀態(tài)的該層在層的厚度方向上具有較低折射率的獨特行 為。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層的厚度方向延遲(Rth)可通過改變包括馬來酰亞 胺的涂布層的厚度而容易地調(diào)節(jié)。用具有589nm的測量波長的光測定的且 由以下表達(dá)式(2)表示的其平面外延遲(Rth)優(yōu)選在30-2000nm范圍內(nèi),因為這種光學(xué)補償層可預(yù)計適于用作延遲膜。特別地,其延遲(Rth)在優(yōu)選
50-1000nm,更優(yōu)選80-500nm的范圍內(nèi),因為這種光學(xué)補償層具有改善液 晶顯示元件的視角特性的優(yōu)異效果。
Rth=((nx+ny)/2-nz) x d (2)
(在表達(dá)式(2)中,d表示光學(xué)補償層的厚度(nm))。
優(yōu)選,本發(fā)明的該光學(xué)補償層應(yīng)為延遲的波長相關(guān)性弱的層,因為在 液晶顯示元件中使用這種光學(xué)補償層使得液晶顯示元件能夠在色移上減 小。特別地,其延遲的波長相關(guān)性(R450/R589)優(yōu)選為1.1或更小,特別是 1.08或更小,該延遲的波長相關(guān)性(R450/R589)由傾斜40度且用具有450nm
測量波長的光檢測的涂布層的延遲(R589)的比表示。
優(yōu)選,本發(fā)明的該光學(xué)補償層的根據(jù)JIS K 7361-1 (1997年版)測量的透 光率為85%或更高,特別是90%或更高,因為這種光學(xué)補償層當(dāng)用于液晶 顯示元件時賦予令人滿意的圖像質(zhì)量。還優(yōu)選,根據(jù)JISK 7136 (2000年版) 測量的光學(xué)補償層的霧度為2%或更低,特別是1%或更低。
從在液晶顯示元件中的質(zhì)量穩(wěn)定性的觀點來看,本發(fā)明的光學(xué)#卜償層 優(yōu)選具有高的耐熱性。其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為IO(TC或更高,特別優(yōu)選 120。C或更高,甚至更優(yōu)選135。C或更高。
本發(fā)明的光學(xué)補償層特征在于為包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層。用于 制造該層的優(yōu)選方法的實例包括其中將溶液狀態(tài)的馬來酰亞胺樹脂涂覆在 玻璃基板或由三乙酰纖維素、聚(對苯二曱酸乙二醇酯)(PET)等制成的膜基 底上的方法。對于涂覆,可使用其中將通過將馬來酰亞胺樹脂溶解在溶劑 中制備的溶液涂覆在玻璃基板或膜上且之后通過加熱等除去溶劑的方法。 作為用于涂覆的技術(shù),使用例如刮刀法、棒涂法、凹版涂布法、槽隙模涂 布法、唇形模頭涂布法(lip coater method)、間歇涂布法(comma coater method) 等。工業(yè)上,凹版涂布法和間歇涂布法分別通常用于薄的涂布和厚的涂布。 所使用的溶劑不特別限制。其實例包括芳族溶劑如曱苯、二曱苯、氯苯和 硝基苯;酮溶劑如丙酮、曱乙酮、曱基異丁基酮和環(huán)己酮;醚溶劑如二曱 醚、二乙醚、曱基叔丁基醚、四氫呋喃和二哺烷;乙酸酯溶劑如乙酸曱酯、 乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯和乙酸丁酯;烴溶劑如己烷、環(huán)己烷、 辛烷和癸烷;醇溶劑如曱醇、乙醇、丙醇和丁醇;氯化合物溶劑如四氯化碳、氯仿、二氯曱烷、二氯乙烷和三氯乙烷;酰胺溶劑如二曱基曱酰胺和
二曱基乙酰胺;和N-曱基吡咯烷酮。可使用這些溶劑的兩種或更多種的組合。在溶液涂覆中,優(yōu)選將溶液的粘度調(diào)節(jié)至10-10000cp,特別是10-5000cp,因為從這種溶液更容易得到具有高透明性、厚度精確性和表面光潔度優(yōu)異的光學(xué)補償層。
在該操作中所要涂覆的馬來酰亞胺樹脂的厚度由涂布層的厚度方向延遲決定。特別地,從得到優(yōu)異的表面光潔度和改善視角特性的優(yōu)異效果的觀點來看,其在干燥后的厚度在優(yōu)選l-lOOpm,更優(yōu)選3-50pm,特別優(yōu)選5-30|mi的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層可在從基底即玻璃基板或另外的光學(xué)膜上剝離后使用,或可以包括所述基底即玻璃基板或另外的光學(xué)膜的層狀產(chǎn)物的形式使用。特別地,在其中光學(xué)補償層形成在另外的光學(xué)膜上且該層狀產(chǎn)物用作光學(xué)補償膜的情況下,所述另外的光學(xué)膜優(yōu)選為由纖維素樹脂制成的膜,且特別優(yōu)選為由三乙酰纖維素制成的膜,因為這種光學(xué)膜在透明性、強度和粘附力方面優(yōu)異。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層還可作為包括偏光片的層狀產(chǎn)物使用??寡趸瘎┛梢砸氡景l(fā)明的光學(xué)補償層中以增強熱穩(wěn)定性??寡趸瘎┑膶嵗ㄊ茏璺涌寡趸瘎?、磷化合物抗氧化劑和其它抗氧化劑。這些抗氧化劑可單獨或組合使用。優(yōu)選將受阻酚抗氧化劑與磷化合物抗氧化劑組合使用,因為這些抗氧化劑協(xié)同地實現(xiàn)改善的防止氧化的功能。在這種情況下,特別優(yōu)選將100-500重量份磷化合物抗氧化劑與100重量份受阻酚抗氧化劑混合。對于待添加的抗氧化劑的量,對于每100重量份構(gòu)成本發(fā)明的光學(xué)補償層的馬來酰亞胺樹脂,該量在優(yōu)選0.01-10重量份,特別優(yōu)選0.5-1重量份范圍內(nèi)。
而且,根據(jù)需要可引入紫外吸收劑如苯并三唑、二苯曱酮、三。秦或苯
曱酸酯。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層可在不背離本發(fā)明的精神的情況下引入另外的聚合物與其它成分例如表面活性劑、聚合物電解質(zhì)、導(dǎo)電絡(luò)合物、無機填
料、顏料、染料、防靜電劑、防粘連劑和潤滑劑的層。
接下來說明包括包含馬來酰亞胺樹脂的涂布層(A)和拉伸膜層(B)的光
學(xué)補償膜。
14作為該光學(xué)補償膜的組成的涂布層(A)是包括馬來酰亞胺樹脂的涂布 層。馬來酰亞胺樹脂的實例包括N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-取代
的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。構(gòu)成馬來酰亞胺樹脂的N-取代的馬來 酰亞胺殘基單元的實例包括由以上給出的通式(l)表示的N-取代的馬來酰亞
胺的殘基單元。
N-取代的馬來酰亞胺殘基單元的具體實例包括選自如下的 一種或多 種N-曱基馬來酰亞胺殘基單元、N-乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-氯乙基 馬來酰亞胺殘基單元、N-曱氧乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丙基馬來酰 亞胺殘基單元、N-異丙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丁基馬來酰亞胺殘基 單元、N-異丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-仲丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-己基馬來酰亞胺殘基單元、N-環(huán)己基馬來 酰亞胺殘基單元、N-辛基馬來酰亞胺殘基單元、N-月桂基馬來酰亞胺殘基 單元等。特別優(yōu)選的是N-正丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-異丁基馬來酰亞 胺殘基單元、N-仲丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單 元、N-己基馬來酰亞胺殘基單元和N-辛基馬來酰亞胺殘基單元。因此這些 單元給出易于顯示出延遲以及在溶劑中的溶解性和機械強度優(yōu)異的馬來酰 亞胺樹脂。
N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂的實例包括N-甲基馬來酰亞胺聚合物 樹脂、N-乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、 N-曱氧乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丁 基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-叔丁基馬 來酰亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-環(huán)己基馬來酰亞 胺聚合物樹脂、N-辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-月桂基馬來酰亞胺聚合 物樹脂。
N-取代的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的實例包括N-曱基馬來酰 亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-氯乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-曱氧乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐 共聚物樹脂、N-正丙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來酰 亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共
15聚物樹脂、N-叔丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-己基馬來酰亞胺-
馬來酸酐共聚物樹脂、N-環(huán)己基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂和N-月桂基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。
這些中特別優(yōu)選的是N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-己基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂和N-辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。因此這些樹脂在層的形成方面具有優(yōu)異的成層性質(zhì)且給出在光學(xué)補償功能和耐熱性方面優(yōu)異的光學(xué)補償膜。
構(gòu)成涂布層(A)的馬來酰亞胺樹脂可包括不同于N-取代的馬來酰亞胺殘基單元和馬來酸酐殘基單元的殘基單元,只要這不背離本發(fā)明的目的。這種任選的殘基單元的實例包括以下的 一種或多種苯乙烯化合物殘基單元如苯乙烯殘基單元和a-曱基苯乙烯殘基單元;丙烯酸殘基單元;丙烯酸酯殘基單元如丙烯酸曱酯殘基單元、丙烯酸乙酯殘基單元和丙烯酸丁酯殘基單元;曱基丙烯酸殘基單元;曱基丙烯酸酯殘基單元如曱基丙烯酸曱酯殘基單元、曱基丙烯酸乙酯殘基單元和曱基丙烯酸丁酯殘基單元;乙烯基酯殘基如乙酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、新戊酸乙烯酯殘基、月桂酸乙烯酯殘基和硬脂酸乙烯酯殘基;丙烯腈殘基;曱基丙烯腈殘基等。
優(yōu)選,馬來酰亞胺樹脂為由凝膠滲透色鐠法(下文中稱作GPC)中得到的洗脫曲線以標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯計算的數(shù)均分子量(Mn)為1 x 103或更高的樹脂。其數(shù)均分子量特別優(yōu)選為2x 104至2x 105,因為這種馬來酰亞胺樹脂給出
為了制造構(gòu)成涂布層(A)的馬來酰亞胺樹脂口,可使用^意方法,只要得到該馬來酰亞胺樹脂。例如,該樹脂可通過如下制造使至少一種N-取代的馬來酰亞胺和馬來酸酐任選地與一種或多種與N-取代的馬來酰亞胺可共聚的單體一起進(jìn)行自由基聚合或自由基共聚。N-取代的馬來酰亞胺的實例包括如下的一種或多種N-曱基馬來酰亞胺、N-乙基馬來酰亞胺、N-氯乙基馬來酰亞胺、N-曱氧乙基馬來酰亞胺、N-正丙基馬來酰亞胺、N-異丙基馬來酰亞胺、N-正丁基馬來酰亞胺、N-異丁基馬來酰亞胺、N-仲丁基馬來酰亞胺、N-叔丁基馬來酰亞胺、N-己基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-辛基馬來酰亞胺、N-月桂基馬來酰亞胺等。所述可共聚單體的實例包括如下的一種或多種苯乙烯化合物如苯乙烯和a-曱基苯乙烯;丙烯酸;丙烯酸酯如丙烯酸曱酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯;曱基丙烯酸;曱基丙烯 酸酯如曱基丙烯酸曱酯、曱基丙烯酸乙酯和曱基丙烯酸丁酯;乙烯基酯如 乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯和硬脂酸乙烯酯; 丙烯腈;曱基丙烯腈等。
可使用已知的聚合技術(shù)進(jìn)行自由基聚合。例如,可使用如本體聚合、 溶液聚合、懸浮聚合、沉淀聚合和乳液聚合的所有聚合技術(shù)。
在進(jìn)行自由基聚合的情況下可用的聚合引發(fā)劑的實例包括有機過氧化 物如過氧化苯曱酰、月桂基過氧化物、過氧化辛酰、過氧化乙酰、二叔丁 基過氧化物、叔丁基枯基過氧化物、二枯基過氧化物、過氧乙酸叔丁酯和 過氧苯曱酸叔丁酯;和偶氮引發(fā)劑如2,2,-偶氮二(2,4-二曱基戊腈)、2,2,-偶 氮二(2-丁腈)、2,2,-偶氮二異丁腈、2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯和l,l,-偶氮二 (環(huán)己烷-l-腈)。
不特別限制在溶液聚合、懸浮聚合、沉淀聚合和乳液聚合中可用的溶 劑。其實例包括芳族溶劑如苯、曱苯和二曱苯;醇溶劑如甲醇、乙醇、丙 醇和丁醇;環(huán)己烷;二嚅烷;四氫呋喃(THF);丙酮;甲乙酮;二曱基曱酰 胺;乙酸異丙酯;水;和N-曱基吡咯烷酮。其實例還包括由這些的兩種或 更多種構(gòu)成的混合溶劑。
在進(jìn)行自由基聚合的情況下的聚合溫度可根據(jù)聚合引發(fā)劑的分解溫度 適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。通常,優(yōu)選在40-150。C的溫度下進(jìn)行聚合。
構(gòu)成本發(fā)明的光學(xué)補償膜的涂布層(A)是包括馬來酰亞胺樹脂的涂布 層,且特別是在光學(xué)補償功能方面優(yōu)異。在其中由聚合物制成的膜用作光 學(xué)補償膜的情況下,該膜的三維折射率通常通過例如膜的雙軸拉伸調(diào)節(jié)。 但是,雙軸拉伸的步驟具有例如制造步驟和質(zhì)量控制變得復(fù)雜的問題。發(fā) 明人已發(fā)現(xiàn),與上述情況相反,包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層展現(xiàn)出處于 未拉伸狀態(tài)的該涂布層在膜的厚度方向上具有較低折射率的獨特行為。
優(yōu)選,本發(fā)明的該光學(xué)補償膜是其中涂布層(A)為如下涂布層的膜,其 中當(dāng)在涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作xl軸和yl軸,且 平面外方向(厚度方向)稱作zl軸時,那么涂布層滿足三維折射率關(guān)系 nxl"nyl〉nzl,其中nxl是xl軸方向上的折射率,nyl是yl軸方向上的折 射率(當(dāng)nxl不等于nyl時,最低的折射率作為nxl),和nzl是zl軸方向上 的折射率。因此該光學(xué)補償膜特別是在光學(xué)補償功能方面優(yōu)異。涂布層(A)的厚度方向延遲(Rthl)可通過改變包括馬來酰亞胺的涂布層的厚度而容易地調(diào)節(jié)。用具有589nm的測量波長的光測定的且由以下表達(dá)式(3)表示的其平面外延遲(Rthl)優(yōu)選在30-2000nm范圍內(nèi),因為這種涂布層(A)使得光學(xué)補償膜能夠預(yù)計適于用作延遲膜。特別地,其延遲(Rthl)在優(yōu)選50-1000nm,更優(yōu)選80-500nm的范圍內(nèi),因為這種涂布層(A)具有改善液晶顯示元件的視角特性的優(yōu)異效果。
Rthl=((nxl+nyl)/2-nzl) x dl (3)
(在表達(dá)式(3)中,dl表示涂布層(A)的厚度(nm))。
優(yōu)選,涂布層(A)為延遲的波長相關(guān)性小的層,因為在液晶顯示元件中使用包括這種涂布層的光學(xué)補償膜使得液晶顯示元件能夠在色移上減小。特別地,其延遲的波長相關(guān)性優(yōu)選為l.l或更小,特別是1.08或更小,該延遲的波長相關(guān)性(R450/R589)由傾斜40度且用具有450nm的測量波長的光檢測的涂布層的延遲(R450)與傾斜40度且用具有589nm的測量波長的光檢測的涂布層的延遲(R589)的比表示。
優(yōu)選,涂布層(A)的根據(jù)JIS K 7361-1 (1997年版)測量的透光率為85%或更高,特別是90%或更高,因為所得到光學(xué)補償膜當(dāng)用于液晶顯示元件時賦予令人滿意的圖像質(zhì)量。還優(yōu)選,根據(jù)JISK 7136 (2000年版)測量的涂布層(A)的霧度為2%或更低,特別是1%或更低。
從當(dāng)?shù)玫降墓鈱W(xué)波長膜用于液晶顯示元件時所需要的質(zhì)量穩(wěn)定性的觀點來看,涂布層(A)優(yōu)選具有高的耐熱性。其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為IO(TC或更高,特別優(yōu)選12(TC或更高,甚至更優(yōu)選135'C或更高。
作為本發(fā)明的該光學(xué)補償膜的組成的拉伸膜層(B)包括拉伸透明膜。其實例包括由聚碳酸酯樹脂、聚醚砜樹脂、環(huán)狀聚烯烴樹脂和纖維素樹脂制成的膜。這些中優(yōu)選的是由聚碳酸酯制成的單軸拉伸膜、由聚醚砜制成的單軸拉伸膜、由環(huán)狀聚烯烴制成的單軸拉伸膜和由纖維素樹脂制成的單軸拉伸膜,這些膜各自具有正的雙折射。特別優(yōu)選,層(B)為由環(huán)狀聚烯烴樹脂制成的拉伸膜層,因為這種層使得光學(xué)補償膜的延遲的波長相關(guān)性小。這里的術(shù)語正的雙折射是指以下性質(zhì)當(dāng)拉伸膜平面內(nèi)的拉伸方向稱作x2軸,與該拉伸方向垂直的平面內(nèi)方向稱作y2軸,且該膜的平面外(厚度)方向稱作z2軸時,那么該膜滿足三維折射率關(guān)系nx2>ny2^nz2,其中nx2是x2軸方向上的折射率,ny2是y2軸方向上的折射率,和nz2是z2軸方向上的折射率.
拉伸膜層(B)優(yōu)選為其中用具有589nm的測量波長的光測定的由以下表 達(dá)式(4)表示的平面內(nèi)延遲(Re)在20-1 OOOnm范圍內(nèi)的層,因為所得到的光 學(xué)補償膜可預(yù)計適于用作延遲膜。特別地,其延遲(Re)在優(yōu)選50-500nm, 更優(yōu)選80-300nm的范圍內(nèi),因為使用這種層(B)的光學(xué)補償膜具有改善液晶 顯示元件的視角特性的優(yōu)異效果。在這點上,拉伸膜層(B)可由兩個或更多 個拉伸膜構(gòu)成。例如,在其中兩個膜分別用在液晶單元的兩側(cè)上的情況下, 每個膜的平面內(nèi)延遲(Re)可為以上所示的延遲的 一半。
Re=(nx2-ny2) x d2 (4)
(在表達(dá)式(4)中,d2表示拉伸膜層(B)的厚度(nm))。
構(gòu)成拉伸膜層(B)的拉伸膜可通過如下制造用已知的拉伸器拉伸通過 溶液流延法或熔體擠出法制造的膜。拉伸膜的商品也是可用的。
本發(fā)明的該光學(xué)補償膜包括涂布層(A)和拉伸膜層(B),且適于用作液晶 顯示元件的光學(xué)補償膜。特別地,優(yōu)選光學(xué)補償膜的根據(jù)JIS K 7361-1 (1997 年版)測量的透光率為85%或更高,特別是90%或更高,因為這種光學(xué)^償 膜當(dāng)用于液晶顯示元件時賦予令人滿意的圖像質(zhì)量。還優(yōu)選,根據(jù)JIS K 7136 (2000年版)測量的光學(xué)補償膜的霧度為2%或更低,特別是1%或更低。
而且,本發(fā)明的該光學(xué)補償膜優(yōu)選為其中當(dāng)光學(xué)補償膜的平面內(nèi)慢軸 的方向稱作x3軸,與x3軸垂直的平面內(nèi)方向稱作y3軸,和膜的平面外(厚 度)方向稱作z3軸且用具有589nm的測量波長的光^r測該膜時,那么該膜 具有優(yōu)選1.1或更大,特別優(yōu)選1.3或更大,更優(yōu)選2.0或更大的取向參數(shù) (Nz),其中該取向參數(shù)由以下表達(dá)式(5)表示,其中nx3是x3軸方向上的平 均折射率,ny3是y3軸方向上的平均折射率,和nz3是z3軸方向上的平均 折射率。術(shù)語慢軸是指其中折射率最高的軸方向。
Nz=(nx3-nz3)/(nx3-ny3) (5)
由以下表達(dá)式(8)表示的其平面內(nèi)延遲(Re2)優(yōu)選為20-1000nm,特別優(yōu) 選50畫500nm。
Re2=(nx3-ny3) x d5 (8) (在表達(dá)式(8)中,d5表示膜的厚度(nm))。
用于制造本發(fā)明的包括包含馬來酰亞胺樹脂的涂布層(A)和拉伸膜層(B) 的光學(xué)補償膜的優(yōu)選方法的實例包括l)其中將通過將馬來酰亞胺樹脂溶液
19涂覆在玻璃基板或膜基底上制造的涂布層層疊至拉伸膜的方法;2)將其中包
括馬來酰亞胺樹脂的涂布層配置在液晶盒的一側(cè)上和將拉伸膜配置在另一
側(cè)上的方法;和3)其中將馬來酰亞胺樹脂溶液涂覆在拉伸膜上并干燥以制 造涂布層的方法。這些中優(yōu)選的是其中將馬來酰亞胺樹脂溶液涂覆在拉伸 膜上并干燥以制造涂布層且由此得到光學(xué)補償膜的方法。因此本發(fā)明的光 學(xué)#卜償膜可通過該方法更容易地制造。
解在溶劑中制備的溶液涂覆在玻璃基板、膜基底、或拉伸膜上且之后通過 加熱等除去溶劑的方法。作為用于涂覆的技術(shù),使用例如刮刀法、棒涂法、 凹版涂布法、槽縫模涂布法、唇形模頭涂布法、間歇涂布法等。工業(yè)上, 凹版涂布法和間歇涂布法分別通常用于薄的涂布和厚的涂布。所使用的溶 劑不特別限制。其實例包括芳族溶劑如曱苯、二曱苯、氯苯和硝基苯;酮 溶劑如丙酮、曱乙酮、甲基異丁基酮和環(huán)己酮;醚溶劑如二曱醚、二乙醚、 曱基叔丁基醚、四氫呋喃和二嚅烷;乙酸酯溶劑如乙酸曱酯、乙酸乙酯、乙 酸正丙酯、乙酸異丙酯和乙酸丁酯;烴溶劑如己烷、環(huán)己烷、辛烷和癸烷; 醇溶劑如曱醇、乙醇、丙醇和丁醇;氯化合物溶劑如四氯化碳、氯仿、二 氯曱烷、二氯乙烷和三氯乙烷;酰胺溶劑如二曱基曱酰胺和二曱基乙酰胺; 和N-曱基吡咯烷酮??墒褂眠@些溶劑的兩種或更多種的組合。在溶液涂覆 中,優(yōu)選將馬來酰亞胺樹脂溶液的溶液粘度調(diào)節(jié)至10-10000cp,特別是 10-5000cp,因為這種溶液的涂覆可實現(xiàn)高透明性、優(yōu)異的厚度精確性和優(yōu) 異的表面光潔度,且使得能夠制造優(yōu)異質(zhì)量的光學(xué)補償膜。
所要涂覆的馬來酰亞胺樹脂的厚度由涂布層(A)的厚度方向延遲決定。 特別地,從得到具有優(yōu)異的表面光潔度和具有改善視角特性的優(yōu)異效果的 觀點來看,干燥后的厚度在優(yōu)選l-100pm,更優(yōu)選3-50pm,特別優(yōu)選5-30}im 的范圍內(nèi)。
本發(fā)明的光學(xué)4卜償膜還可以包括偏光片的層狀產(chǎn)物使用。 抗氧化劑可引入本發(fā)明的該光學(xué)補償膜中以增強熱穩(wěn)定性??寡趸瘎?的實例包括受阻酚抗氧化劑、磷化合物抗氧化劑和其它抗氧化劑。這些抗 氧化劑可單獨或組合使用。優(yōu)選將受阻酚抗氧化劑與磷化合物抗氧化劑組 合使用,因為這些抗氧化劑協(xié)同地實現(xiàn)改善的防止氧化的功能。在這種情 況下,特別優(yōu)選將100-500重量份磷化合物抗氧化劑與100重量份受阻酚抗氧化劑混合。對于待添加的抗氧化劑的量,對于每100重量份構(gòu)成本發(fā)明的該光學(xué)補償膜的馬來酰亞胺樹脂,該量在優(yōu)選0.01-10重量份,特別優(yōu)選 0.5-1重量份范圍內(nèi)。而且,根據(jù)需要可引入紫外吸收劑如苯并三唑、二苯曱酮、三嗪或苯曱酸酯。本發(fā)明的該光學(xué)補償膜可在不背離本發(fā)明的精神的情況下引入另外的 聚合物與其它成分例如表面活性劑、聚合物電解質(zhì)、導(dǎo)電絡(luò)合物、無機填料、顏料、染料、抗氧化劑、防粘連劑和潤滑劑的膜。以下對光學(xué)補償層給出說明,其特征在于它為通過單軸拉伸包括馬 來酰亞胺樹脂的涂布層得到的光學(xué)補償層,和當(dāng)該涂布層的拉伸方向稱作 x4軸,與該^立伸方向垂直的方向稱作y4軸,且平面外方向稱作z4軸時, 那么該光學(xué)補償層滿足三維折射率關(guān)系nx4>ny4>nz4,其中nx4是x4軸方 向上的折射率,ny4是y4軸方向上的折射率,和nz4是z4軸方向上的折射 率。本發(fā)明的該光學(xué)補償膜是特征在于通過單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂 的涂布層得到的光學(xué)補償膜。馬來酰亞胺樹脂的實例包括N-取代的馬來酰 亞胺聚合物樹脂和N-取代的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。構(gòu)成N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂的N-取代的馬來酰亞胺殘基單元 包括由以上給出的式(l)表示的N-取代的馬來酰亞胺的殘基單元。在由式(l)表示的N-取代的馬來酰亞胺的殘基單元中的R,是具有1-18 個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,卣素基團(tuán),醚基,酯基或酰胺 基。具有1-18個碳原子的直鏈烷基的實例包括曱基、乙基、正丙基、正丁 基、正己基、正辛基和正月桂基。具有1-18個碳原子的支鏈烷基的實例包 括異丙基、異丁基、仲丁基和叔丁基。具有1-18個碳原子的環(huán)烷基的實例 包括環(huán)己基。卣素基團(tuán)的實例包括氯、溴和碘。由式(l)表示的N-取代的馬來酰亞胺殘基單元的具體實例包括選自如下 的一種或多種N-曱基馬來酰亞胺殘基單元、N-乙基馬來酰亞胺殘基單元、 N-氯乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-曱氧乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丙 基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-正己基馬來酰 亞胺殘基單元、N-正辛基馬來酰亞胺殘基單元、N-正月桂基馬來酰亞胺殘 基單元、N-異丙基馬來酰亞胺殘基單元、N-異丁基馬來酰亞胺殘基單元、21N-仲丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單元和N-環(huán)己基
馬來酰亞胺殘基單元。特別優(yōu)選的是N-乙基馬來酰亞胺殘基單元、N-正丁 基馬來酰亞胺殘基單元、N-異丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-仲丁基馬來酰 亞胺殘基單元、N-叔丁基馬來酰亞胺殘基單元、N-正己基馬來酰亞胺殘基 單元和N-正辛基馬來酰亞胺殘基單元。因此這些單元給出易于顯示出延遲 以及在溶劑中的溶解性和機械強度優(yōu)異的光學(xué)補償層。
N-取代的馬來酰亞胺聚合物樹脂的具體實例包括如下的一種或多種 N-曱基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-氯乙基 馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-曱氧乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丙基馬 來酰亞胺聚合物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正己基馬來酰 亞胺聚合物樹脂、N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正月桂基馬來酰亞 胺聚合物樹脂、N-異丙基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來酰亞胺聚 合物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-叔丁基馬來酰亞胺聚合物 樹脂和N-環(huán)己基馬來酰亞胺聚合物樹脂。特別優(yōu)選的是N-乙基馬來酰亞胺 聚合物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-異丁基馬來酰亞胺聚合 物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-叔丁基馬來酰亞胺聚合物樹 脂、N-正己基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂等。 因此這些樹脂給出易于顯示出延遲以及在溶劑中的溶解性和機械強度優(yōu)異 的光學(xué)補償層。
而且,N-取代的馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的實例包括N-曱基馬 來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、 N-氯乙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-曱氧乙基馬來酰亞胺-馬來酸 肝共聚物樹脂、N-正丙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-正丁基馬來 酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-正己基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、 N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-正月桂基馬來酰亞胺-馬來酸 酐共聚物樹脂、N-異丙基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、N-異丁基馬來 酰亞胺-馬來酸肝共聚物樹脂、N-仲丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂、 N-叔丁基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂和N-環(huán)己基馬來酰亞胺-馬來酸 酐共聚物樹脂。
特別優(yōu)選地,馬來酰亞胺樹脂是這些樹脂中的N-正乙基馬來酰亞胺聚 合物樹脂、N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂、N-正己基馬來酰亞胺聚合物
22樹脂、N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂或N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共 聚物樹脂。因此這些樹脂在層的形成方面具有優(yōu)異的成層性質(zhì)且給出在光 學(xué)補償功能和耐熱性方面優(yōu)異的光學(xué)補償膜。構(gòu)成本發(fā)明的該光學(xué)補償層的馬來酰亞胺樹脂可包括不同于N-取代的馬來酰亞胺殘基單元和馬來酸肝殘基單元的殘基單元,只要這不背離本發(fā)明的目的。這種任選的殘基單元的實例包括以下的一種或多種苯乙烯化 合物殘基單元如苯乙烯殘基單元和a-曱基苯乙烯殘基單元;丙烯酸殘基單 元;丙烯酸酯殘基單元如丙烯酸曱酯殘基單元、丙烯酸乙酯殘基單元和丙 烯酸丁酯殘基單元;甲基丙烯酸殘基單元;曱基丙烯酸酯殘基單元如曱基 丙烯酸曱酯殘基單元、曱基丙烯酸乙酯殘基單元和曱基丙烯酸丁酯殘基單 元;乙烯基酯殘基如乙酸乙烯酯殘基、丙酸乙烯酯殘基、新戊酸乙烯酯殘 基、月桂酸乙烯酯殘基和硬脂酸乙烯酯殘基;丙烯腈殘基;曱基丙烯腈殘 基等。優(yōu)選,馬來酰亞胺樹脂為由凝膠滲透色譜法(下文中稱作GPC)中得到的 洗脫曲線以標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯計算的數(shù)均分子量(Mn)為1 x 103或更高的樹脂。 其數(shù)均分子量特別優(yōu)選為2x 104至2x 105,因為這種馬來酰亞胺樹脂給出 具有優(yōu)異的機械性質(zhì)且在層的形成中具有優(yōu)異的可成形性的光學(xué)補償層。為了制造構(gòu)成本發(fā)明的該光學(xué)補償層的馬來酰亞胺樹脂,可使用任意 方法,只要得到該馬來酰亞胺樹脂。例如,該樹脂可通過如下制造使至 少 一種N-取代的馬來酰亞胺和馬來酸酐任選地與 一種或多種與N-取代的馬 來酰亞胺可共聚的單體一起進(jìn)行自由基聚合或自由基共聚。N-取代的馬來 酰亞胺的實例包括如下的一種或多種N-曱基馬來酰亞胺、N-乙基馬來酰 亞胺、N-氯乙基馬來酰亞胺、N-曱氧乙基馬來酰亞胺、N-正丙基馬來酰亞 胺、N-正丁基馬來酰亞胺、N-正己基馬來酰亞胺、N-正辛基馬來酰亞胺、 N-正月桂基馬來酰亞胺、N-異丙基馬來酰亞胺、N-異丁基馬來酰亞胺、N-仲丁基馬來酰亞胺、N-叔丁基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺等。所述 可共聚單體的實例包括如下的一種或多種苯乙烯化合物如苯乙烯和a-曱基苯乙烯;丙烯酸;丙烯酸酯如丙烯酸曱酯、丙烯酸乙酯和丙烯酸丁酯; 曱基丙烯酸;曱基丙烯酸酯如曱基丙烯酸曱酯、甲基丙烯酸乙酯和曱基丙 烯酸丁酯;乙烯基酯如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、新戊酸乙烯酯、月桂酸 乙烯酯和硬脂酸乙烯酯;丙烯腈;曱基丙烯腈等。可使用已知的聚合技術(shù)進(jìn)行自由基聚合。例如,可使用如本體聚合、
,4衛(wèi)x人 且—、々jrx入 ,v .、々3r義/v --、4節(jié)義入a厶Jf義/v"iJ" /谷收朱?、 悉》亍朱'5、 '/幾/疋朱兮,口3匕歡氷?曰'、J"l有泉兮儀個。
在進(jìn)行自由基聚合的情況下可用的聚合引發(fā)劑的實例包括有機過氧化
物如過氧化苯曱酰、月桂基過氧化物、過氧化辛酰、過氧化乙酰、二一又丁
基過氧化物、叔丁基枯基過氧化物、二枯基過氧化物、過氧乙酸叔丁酯和
過氧苯曱酸叔丁酯;和偶氮引發(fā)劑如2,2,-偶氮二(2,4-二曱基戊腈)、2,2,-偶 氮二(2-丁腈)、2,2,-偶氮二異丁腈、2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯和l,l,-偶氮二 (環(huán)己烷-l-腈)。
不特別限制在溶液聚合、懸浮聚合、沉淀聚合和乳液聚合中可用的溶 劑。其實例包括芳族溶劑如苯、曱苯和二曱苯;醇溶劑如曱醇、乙醇、丙 醇和丁醇;環(huán)己烷;二喁烷;四氫呋喃(THF);丙酮;曱乙酮;二曱基曱酰 胺;乙酸異丙酯;水;N-曱基吡咯烷酮;和二曱基曱酰胺。其實例還包括 由這些的兩種或更多種構(gòu)成的混合溶劑。
在進(jìn)行自由基聚合的情況下的聚合溫度可根據(jù)聚合引發(fā)劑的分解溫度 適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。通常,優(yōu)選在40-150。C的溫度下進(jìn)行聚合。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層是通過單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層 得到的膜。該光學(xué)補償層特別是在用作光學(xué)補償層時光學(xué)補償功能優(yōu)異。 通常,雙軸拉伸以調(diào)節(jié)三維折射率是非常困難的。由于顯示器的屏幕面積 增加且因此光學(xué)補償層的面積增加,均勻地調(diào)節(jié)全部面積變得困難,導(dǎo)致 產(chǎn)率降低等。在本發(fā)明中,通過單軸拉伸特定的涂布層,可得到具有優(yōu)異 光學(xué)補償功能的光學(xué)補償層。本發(fā)明的該光學(xué)補償層特征在于它是通過 單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層得到的光學(xué)補償層,當(dāng)該涂布層的 拉伸軸方向稱作x4軸,與該拉伸方向垂直的方向稱作y4軸,且平面外方 向稱作z4軸時,那么該光學(xué)補償層滿足三維折射率關(guān)系nx4>ny4>nz4,其 中nx4是x4軸方向上的折射率,ny4是y4軸方向上的折射率,和nz4是z4 軸方向上的折射率。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層的平面內(nèi)延遲(Rel)可通過改變由馬來酰亞胺樹 脂制成的涂布層的厚度和改變單軸拉伸的條件而容易地調(diào)節(jié)。用具有589nm 的測量波長的光測定的且由以下表達(dá)式(6)表示的其平面內(nèi)延遲(Re 1 )為優(yōu)選 20nm或更大,特別地30nm-200nm,更優(yōu)選40nm-150nm,因為這種光學(xué)補 償層可預(yù)計適于用作延遲膜。Rel=(nx4-ny4) x d3 (6) (在表達(dá)式(6)中,d3表示光學(xué)補償層的厚度(nm))。亞胺樹脂制成的涂布層的厚度和改變單軸拉伸的條件而容易地調(diào)節(jié)。用具 有589nm的測量波長的光測定的且由以下表達(dá)式(7)表示的其平面外延遲 (Rth2)優(yōu)選在30-2000nm范圍內(nèi),因為這種光學(xué)補償層可預(yù)計適于用作延遲 膜。特別地,其延遲(Rth2)在優(yōu)選50-1000nm,更優(yōu)選80-400nm的范圍內(nèi), 因為這種光學(xué)補償層具有改善液晶顯示元件的視角特性的優(yōu)異效果。Rth2=((nx4+ny4)/2-nz4) x d4 (7)(在表達(dá)式(7)中,d4表示光學(xué)補償層的厚度(nm))。優(yōu)選,本發(fā)明的該光學(xué)補償層為延遲的波長相關(guān)性小的層,因為在液 晶顯示元件中使用這種光學(xué)補償層使得液晶顯示元件能夠在色移上減小。 其延遲的波長相關(guān)性(R450/R589)優(yōu)選為1.1或更小,特別是1.08或更小, 該延遲的波長相關(guān)性(R450/R589)由以450nm的測量波長測定的延遲(R450) 與以589nm的測量波長測定的延遲(R589)的比表示。本發(fā)明的該光學(xué)補償層的厚度為優(yōu)選l-100jam,更優(yōu)選3-50|im,特別 優(yōu)選5-30(im,因為具有這種厚度的光學(xué)補償層具有優(yōu)異的表面光潔度和改 善視角特性的優(yōu)異效果。優(yōu)選,本發(fā)明的該光學(xué)補償層的透光率為85%或更高,特別是90%或 更高,因為這種光學(xué)補償層當(dāng)用于液晶顯示元件時賦予令人滿意的圖像質(zhì) 量。還優(yōu)選,該光學(xué)補償層的霧度為2%或更低,特別是1%或更低。從在液晶顯示元件中的質(zhì)量穩(wěn)定性的觀點來看,本發(fā)明的該光學(xué)補償 層優(yōu)選具有高的耐熱性。其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為IO(TC或更高,特別優(yōu)選 120。C或更高,甚至更優(yōu)選135。C或更高。本發(fā)明的該光學(xué)補償層特征在于通過單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂的 涂布層得到。用于制造該層的優(yōu)選方法的實例包括其中將溶液狀態(tài)的馬來 酰亞胺樹脂涂覆在由例如纖維素樹脂或聚(對苯二曱酸乙二醇酯)樹脂(PET) 制成的膜基底上并干燥且單軸拉伸所得的涂布基底的方法。對于涂覆,可 使用其中將通過將馬來酰亞胺樹脂溶解在溶劑中制備的溶液涂覆在膜上且 隨后通過加熱等除去溶劑然后單軸拉伸所得的涂布層的方法。作為用于涂 覆的技術(shù),使用例如刮刀法、棒涂法、凹版涂布法、槽縫模涂布法、唇形25模頭涂布法、間歇涂布法等。工業(yè)上,凹版涂布法和間歇涂布法分別通常 用于薄的涂布和厚的涂布。
所使用的溶劑不特別限制。其實例包括芳族溶劑如曱苯、二曱苯、氯
苯和硝基苯;酮溶劑如丙酮、甲乙酮、曱基異丁基酮和環(huán)己酮;醚溶劑如 二曱醚、二乙醚、曱基叔丁基醚、四氫呋喃和二-惡烷;乙酸酯溶劑如乙酸曱 酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯和乙酸丁酯;烴溶劑如己烷、環(huán) 己烷、辛烷和癸烷;醇溶劑如曱醇、乙醇、丙醇和丁醇;氯化合物溶劑如 四氯化碳、氯仿、二氯曱烷、二氯乙烷和三氯乙烷;酰胺溶劑如二曱基曱 酰胺和二曱基乙酰胺;和N-曱基吡咯烷酮??墒褂眠@些溶劑的兩種或更多 種的組合。在溶液涂覆中,涂布溶液的粘度是形成具有高透明性且厚度精 確性和表面光潔度優(yōu)異的涂層的非常重要的因素。該涂布溶液的粘度為優(yōu) 選10-10000cp,特別優(yōu)選10-5000cp。
在該操作中所要涂覆的馬來酰亞胺樹脂的厚度由涂布層的厚度方向延 遲決定。特別地,從得到具有優(yōu)異的表面光潔度和改善視角特性的優(yōu)異效 果的光學(xué)補償層的觀點來看,其干燥后的厚度在優(yōu)選l-100pm,更優(yōu)選 3-50jim,特別優(yōu)選5-30(im的范圍內(nèi)。
用于得到本發(fā)明的該光學(xué)補償膜的單軸拉伸不特別限制。通常,涂布
層可在比用差示掃描量熱儀測量的涂布層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度高-30至50°C 的拉伸溫度的條件下以1.1-5的拉伸比進(jìn)行拉伸。優(yōu)選使厚度不均勻性最小 化,因為光學(xué)性質(zhì),例如特別是延遲、透光率和霧度受到厚度相當(dāng)大的影 響。在本發(fā)明的涂布層拉伸中,拉伸溫度可通過調(diào)節(jié)涂布層制造中的干燥 條件以容許部分溶劑殘留而降低。涂布層可在從基底膜上剝離后拉伸,或
可與基底膜一起拉伸。
可用于本發(fā)明的單軸拉伸的方法的實例包括例如如下的方法其中用 拉幅機拉伸涂布層的方法、其中通過用壓延機滾壓而拉伸涂布層的方法、 和其中在輥之間拉伸涂布層的方法。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層可在從基底膜上剝離后使用,或可以包括基底 膜或另外的光學(xué)膜的層狀產(chǎn)物的形式使用。特別地,在光學(xué)補償層以包括 另外的光學(xué)膜的層狀產(chǎn)物使用的情況下,從透明性和強度的觀點來說,所 述另外的光學(xué)膜優(yōu)選為纖維素膜或環(huán)狀聚烯烴膜。
本發(fā)明的該光學(xué)補償層還可以包括偏光片的層狀產(chǎn)物使用。
26抗氧化劑可已引入本發(fā)明的該光學(xué)補償層中以增強熱穩(wěn)定性??寡趸?劑的實例包括受阻酚抗氧化劑、磷化合物抗氧化劑和其它抗氧化劑。這些 抗氧化劑可單獨或組合使用。優(yōu)選將受阻酚抗氧化劑與磷化合物抗氧化劑 組合使用,因為這些抗氧化劑協(xié)同地實現(xiàn)改善的防止氧化的功能。在這種情況下,特別優(yōu)選將100-500重量份磷化合物抗氧化劑與100重量份受阻酚 抗氧化劑混合。對于待添加的抗氧化劑的量,對于每100重量份構(gòu)成本發(fā) 明的光學(xué)補償層的馬來酰亞胺樹脂,該量在優(yōu)選0.01-10重量份,特別優(yōu)選 0.5-1重量l分范圍內(nèi)。而且,根據(jù)需要可引入紫外吸收劑如苯并三唑、二苯曱酮、三嗪或苯 曱酸酯。本發(fā)明的該光學(xué)補償層可在不背離本發(fā)明的精神的情況下引入另外的 聚合物與其它成分例如表面活性劑、聚合物電解質(zhì)、導(dǎo)電絡(luò)合物、無機填料、顏料、染料、防靜電劑、防粘連劑和潤滑劑的層。 實施例下面將參照實施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。但是,本發(fā)明無論如何不應(yīng) 解釋為受以下實施例的限制。數(shù)均分子量的測定使用凝膠滲透色譜儀(GPC)(商品名,HLC-802A;由Tosoh Corp.制造),和二曱基曱酰胺用作溶劑。數(shù)均分子量以對標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯計算的值測定。玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的測量差示掃描量熱儀(商品名,DSC2000;由Seiko Instruments & Electronics Ltd.制造)用于以10。C/分鐘的加熱速率進(jìn)行測量。透光率的測定透光率根據(jù)JIS K 7361-1 (1997年版)作為透明性的量度測定。 霧度的測定霧度根據(jù)JIS K 7136 (2000年版)作為透明性的量度測定。三維折射率的計算
樣品傾斜型自動雙折射儀(商品名,KOBRA-WR;由Oji Scientific Instruments制造)用于在改變仰角的同時以具有589nm的測量波長的光測量 三維折射率。而且,從三維折射率計算平面外延遲(Rth、 Rthl或Rth2)。
以在450nm的測量波長下測定的延遲(R450)與在589nm的測量波長下
合成實施例l(N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂的制造實施例) 向密封玻璃管中引入32.4g N-正丁基馬來酰亞胺和0.054g作為聚合引 發(fā)劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在60。C的聚合溫度和5 小時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入氯仿以得到 聚合物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物沉淀。將得 到的聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下干燥。由此, 以20g的量得到N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂。得到的N-正丁基馬來酰 亞胺聚合物樹脂具有120,000的數(shù)均分子量。
合成實施例2(N-正己基馬來酰亞胺聚合物樹脂的制造實施例) 向密封玻璃管中引入40g N-正己基馬來酰亞胺和0.05g作為聚合引發(fā)劑 的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在60°C的聚合溫度和5小時 的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入氯仿以得到聚合 物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物沉淀。將得到的 聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下干燥。由此,以32g 的量得到N-正己基馬來酰亞胺聚合物樹脂。得到的N-正己基馬來酰亞胺聚 合物樹脂具有160,000的數(shù)均分子量。
合成實施例3(N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂的制造實施例) 向密封玻璃管中引入28g N-正辛基馬來酰亞胺和0.032g作為聚合引發(fā) 劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在60°C的聚合溫度和5小 時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入氯仿以得到聚 合物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物沉淀。將得到 的聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在8(TC下干燥。由此, 以15g的量得到N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂。得到的N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂具有270,000的數(shù)均分子量。合成實施例4(N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的制造實施例1)向密封玻璃管中引入26g N-正辛基馬來酰亞胺、2.4g馬來酸肝和0.036g 作為聚合引發(fā)劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在6(TC的聚 合溫度和5小時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入 氯仿以得到聚合物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物 沉淀。將得到的聚合物通過過濾取出.,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下 干燥。由此,以19g的量得到N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。 得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂包含20重量%的量的馬 來酸酐殘基并具有120,000的數(shù)均分子量。合成實施例5(N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸肝共聚物樹脂的制造實施例2)向密封玻璃管中引入26g N-正辛基馬來酰亞胺、4.8g馬來酸酐和0.04g 作為聚合引發(fā)劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在60。C的聚 合溫度和5小時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入 氯仿以得到聚合物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物 沉淀。將得到的聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下 干燥。由此,以18g的量得到N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。 得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂包含40重量%的量的馬 來酸酐殘基單元并具有140,000的數(shù)均分子量。合成實施例6(N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的制造實施例3)向密封玻璃管中引入26gN-正辛基馬來酰亞胺、4.8g馬來酸酐和0.04g 作為聚合引發(fā)劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在6(TC的聚 合溫度和5小時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入 氯仿以得到聚合物溶液。之后,將該溶液與過量甲醇混合以由此使聚合物 沉淀。將得到的聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下 干燥。由此,以18g的量得到N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。 得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂包含20重量%的量的馬 來酸酐殘基單元并具有140,000的數(shù)均分子量。29合成實施例7(N-正乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂的制造實施例)
向密封玻璃管中引入45g N-正乙基馬來酰亞胺和0.05g作為聚合引發(fā)劑 的2,2,-偶氮二異丁酸二甲酯。在氮氣置換后,在60。C的聚合溫度和5小時 的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入氯仿以得到聚合 物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物沉淀。將得到的 聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下干燥。由此,以 20g的量得到N-正乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂。得到的N-正乙基馬來酰亞 胺聚合物樹脂具有80,000的數(shù)均分子量。
合成實施例8(N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂的制造實施例
4)
向密封玻璃管中引入26g N-正辛基馬來酰亞胺、2.4g馬來酸酐和0.036g 作為聚合引發(fā)劑的2,2,-偶氮二異丁酸二曱酯。在氮氣置換后,在60。C的聚 合溫度和5小時的聚合時間的條件下進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)。在反應(yīng)后加入 氯仿以得到聚合物溶液。之后,將該溶液與過量曱醇混合以由此使聚合物 沉淀。將得到的聚合物通過過濾取出,隨后用曱醇充分洗滌,并在80。C下 干燥。由此,以19g的量得到N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂。 得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂包含20重量%的量的馬 來酸酐殘基并具有140,000的it均分子量。
制造實施例l(環(huán)狀聚烯烴樹脂的單軸拉伸膜的制造實施例) 將環(huán)狀聚烯烴樹脂(氫化的具有酯基團(tuán)的聚降水片烯;由Aldrich Co.制 造)溶解在二氯曱烷溶液中以得到25%的溶液。向其添加作為抗氧化劑的 0.35重量份三(2,4-二叔丁基苯基)亞磷酸酯和0.15重量份季戊四醇四(3-(3,5-二叔丁基—4-羥基苯基)丙酸面旨)以及作為紫外吸收劑的1重量份2-(2H-苯并三 唑-2-基)-對曱酚,基于每IOO重量份環(huán)狀聚烯烴樹脂。之后,將所得混合物 通過T-模頭法在溶液流延裝置的載體上流延并在4CTC、 8(TC和12(TC下干 燥以得到寬度250mm且厚度100(xm的膜。將得到的膜切成邊長為50mm的 方形。使切割的膜經(jīng)歷在180。C的溫度和15mm/分鐘的拉伸速度的條件下用 雙軸拉伸裝置(由Imoto Machinery Co. Ltd.制造)進(jìn)行的自由寬度單軸拉伸。 由此將膜拉伸+100%。
所得的拉伸膜顯示正的雙折射,且其三維折射率為nx2=1.5124,
30ny2=l.5090和nz2=l.5090。即,nx2>ny2=nz2。該拉伸膜具有121nm的平面 內(nèi)延遲(Re)。其平面內(nèi)延遲的波長相關(guān)性(R450/R550)為1.01。
實施例1
將在合成實施例1中得到的N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備12%的溶液。將該溶液通過涂布機在玻璃基板上流延并在室溫 下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度50mm且厚 度20ium的涂布層膜。測量該涂布層膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為179。C。
得到的涂布層具有91.6%的透光率和0.6%的霧度,其三維折射率為 nx=1.51607, ny=1.51607和nz=l.50954。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 130.6nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.06,顯示
該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。 實施例2
將在合成實施例2中得到的N-正己基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備15。/。的溶液。將該溶液通過涂布才幾在玻璃基玲反上流延并在室溫 下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度50mm且厚 度30iim的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為149°C。
得到的涂布層具有91.8%的透光率和0.7%的霧度,其三維折射率為 nx=l.52000, ny=l.52002和nz=1.51638。該層具有0.6nm的平面內(nèi)延遲和 108.9nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示 該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
實施例3
將在合成實施例3中得到的N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備16%的溶液。將該溶液通過涂布機在玻璃基板上流延并在室溫 下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度50mm且厚 度5(Vm的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為145°C。
得到的涂布層具有92.78%的透光率和0.9%的霧度,其三維折射率為 nx=l.51049, ny=1.51049和nz=1.50833。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 108nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示該 涂布層具有光學(xué)補償層的功能。實施例4
將在合成實施例4中得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂
溶解在氯仿中以制備16%的溶液。將該溶液通過涂布才幾在玻璃基4反上流延 并在室溫下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度 50mm且厚度50iim的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為15(TC。
得到的涂布層具有92.2%的透光率和0.8%的霧度,其三維折射率為 nx=l.50680, ny=l.50680和nz=1.50422。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 129nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示該 涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
實施例5
將在合成實施例5中得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂 溶解在氯仿中以制備16%的溶液。將該溶液通過涂布機在玻璃基板上流延 并在室溫下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度 50mm且厚度50imi的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為156。C。
得到的涂布層具有92.0%的透光率和0.9%的霧度,其三維折射率為 nx=1.51593, ny=1.51594和nz=1.51193。該層具有0.3nm的平面內(nèi)延遲和 200nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示該 涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
實施例6
將在合成實施例1中得到的N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備12%的溶液。將該溶液通過涂布才幾在由三乙酰纖維素制成的膜 (下文中稱作TAC膜)上流延并在室溫下干燥24小時以得到在TAC膜上的涂 布層。將該涂布層從TAC膜剝離。由此,制得寬度50mm且厚度20nm的 涂布層膜。測量該涂布層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為179'C。
得到的涂布層具有91.5%的透光率和0.6%的霧度,其三維折射率為 nx=l.51606, ny=l.51606和nz=l.50954。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 130.4nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.06,顯示 該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。這些性質(zhì)與實施例1中得到的性質(zhì)幾乎 相等。在不從TAC膜剝離涂布層的情況下,評價層狀產(chǎn)物的光學(xué)性質(zhì)。結(jié) 果,發(fā)現(xiàn)層狀產(chǎn)物具有90.2%的透光率、0.8%的霧度、Onm的平面內(nèi)延遲和 156.8nm的Rth。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示
32該層狀產(chǎn)物具有光學(xué)4卜償膜的功能。 實施例7
將在合成實施例1中得到的N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備12%的溶液。將該溶液通過涂布才幾在玻璃基4反上流延并在室溫 下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度50mm且厚 度20)im的涂布層膜。測量該涂布層膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為179。C。
得到的涂布層具有91.6%的透光率和0.6%的霧度,其三維折射率為 nxl=l.51607, nyl=1.51607和nzl=1.50954。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 130.6nm的Rthl。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.06,顯 示該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
將得到的涂布層層疊在制造實施例1中得到的拉伸膜上以制造層疊膜。
得到的層疊膜具有90.2%的透光率、0.8%的霧度、121nm的平面內(nèi)延遲 (Re2)和2.14的取向參數(shù)(Nz),顯示該層疊膜具有光學(xué)補償膜的功能。
實施例8
將在合成實施例3中得到的N-正辛基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備16%的溶液。將該溶液通過涂布機在玻璃基澤反上流延并在室溫 下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬度50mm且厚 度50pm的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為145°C。
得到的涂布層具有92.78%的透光率和0.9%的霧度,其三維折射率為 nxl=1.51049, nyl=l.51049和nzl=l.50833。該層具有Onm的平面內(nèi)延遲和 108nm的Rthl。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯示 該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
將得到的涂布層層疊在制造實施例1中得到的拉伸膜上以制造層疊膜。
得到的層疊膜具有90.2%的透光率、0.8%的霧度、121nm的平面內(nèi)延遲 (Re2)和1.36的取向參數(shù)(Nz),顯示該層疊膜具有光學(xué)補償膜的功能。
實施例9
將在合成實施例6中得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂 溶解在氯仿中以制備16%的溶液。將該溶液通過涂布4幾在玻璃基板上流延 并在室溫下干燥24小時以得到在玻璃基板上的涂布層。由此,制得寬 50mm且厚度50pm的涂布層膜。測量該涂布層膜的Tg,結(jié)果為156。C。得到的涂布層具有92.0%的透光率和0.7%的霧度,其三維折射率為 nxl=l.51593, nyl=l.51593和nzl=1.51193。該層具有0.3nm的平面內(nèi)延遲 和200nm的Rthl。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.05,顯
示該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。
將得到的涂布層層疊在制造實施例1中得到的拉伸膜上以制造層疊膜。
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(Re2)和2.53的取向參數(shù)(Nz),顯示該層疊膜具有光學(xué)補償膜的功能。 實施例10
將在合成實施例1中得到的N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備12%的溶液。將該溶液在制造實施例1中得到的拉伸膜上流延 并在室溫下干燥24小時以得到包括環(huán)狀聚烯烴樹脂的拉伸膜和涂布層的層 疊膜。將該涂布層從層疊膜的部分剝離。由此,制得寬度50mm且厚度20pm 的涂布層。測量該涂布層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為179。C。
得到的涂布層具有91.5%的透光率和0.6%的霧度,其三維折射率為 nxl=1.51606, nyK.51606和nzK.50954。該層具有0nm的平面內(nèi)延遲和 130.4nm的Rthl。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值為1.06,顯 示該涂布層具有光學(xué)補償層的功能。這些性質(zhì)與實施例1中得到的性質(zhì)幾 乎相等。而且,按照原狀評價得到的層疊膜的光學(xué)性質(zhì)。結(jié)果,發(fā)現(xiàn)層疊 膜具有91.5%的透光率、0.6%的霧度、121nm的平面內(nèi)延遲(Re2)和2.14的 取向參數(shù)(Nz),顯示該層疊膜具有光學(xué)補償膜的功能。
實施例11
將在合成實施例7中得到的N-正乙基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯 仿中以制備12%的溶液。將該溶液通過涂布才幾在經(jīng)有機石圭處理的PET膜上 流延并在90。C下干燥15分鐘以得到涂布層。由此,制得寬度100mm且厚 度30pm的涂布層。測量該涂布層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為255。C。
將得到的涂布層剝離并在270。C下以1.5的拉伸比單軸拉伸。得到的層 具有30(im的厚度、92%的透光率和0.6%的霧度,其三維折射率為 nx4=1.5252, ny4=1.5232和nz4=1.5168。該層具有60nm的平面內(nèi)延遲(Rel) 和222nm的平面外延遲(Rth2)。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的 值為1.07,顯示該層具有光學(xué)補償層的功能。
實施例12將在合成實施例1中得到的N-正丁基馬來酰亞胺聚合物樹脂溶解在氯
仿中以制備12%的溶液。將該溶液通過涂布機在經(jīng)有機,圭處理的PET膜上 流延并在90。C下干燥15分鐘以得到涂布層。由此,制得寬度50mm且厚度 25pm的涂布層。測量該涂布層的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),結(jié)果為179°C。
將得到的涂布層剝離并在190。C下以1.5的拉伸比單軸拉伸。得到的層 具有20fim的厚度、91.6%的透光率和0.5%的霧度,其三維折射率為 nx4=1.5182, ny4=1.5145和nz4=1.5078。該層具有74nm的平面內(nèi)延遲(Rel) 和171nm的平面外延遲(Rth2)。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的 值為1.06,顯示該層具有光學(xué)補償層的功能。
實施例13
將在合成實施例8中得到的N-正辛基馬來酰亞胺-馬來酸酐共聚物樹脂 溶解在四氫吹喃中以制備15%的溶液。將該溶液通過涂布機在環(huán)狀聚烯烴 膜上流延并在90。C下干燥IO分鐘以得到具有75[im厚度的涂布層。該涂布 層具有150。C的Tg。將得到的涂布層與環(huán)狀聚烯烴基底一起在160。C下以 1.5的拉伸比進(jìn)行單軸拉伸。在拉伸后,將涂布層從基底膜剝離并評價光學(xué) 性質(zhì)。
得到的層具有20pm的厚度、92.2%的透光率和0.5%的霧度,其三維折 射率為nx4=1.5079, ny4=l.5056和nz4=l.5033。該層具有115nm的平面內(nèi) 延遲(Rel)和172.5nm的Rth2。表明延遲的波長相關(guān)性的其R450/R589的值 為+ 1.04,顯示該層具有光學(xué)補償層的功能。
比4交例1
向1升高壓釜中引入400mL作為聚合溶劑的曱苯、0.001摩爾作為聚合 引發(fā)劑的新癸酸叔丁酯(perbutyl neodecanoate )、 0.42摩爾N-(2,6-二乙基苯 基)馬來酰亞胺和4.05摩爾異丁烯。在60。C的聚合溫度下以5小時的聚合時 間進(jìn)行聚合反應(yīng)以得到N-(2,6-二乙基苯基)馬來酰亞胺-異丁烯交替共聚物。 得到的N-(2,6-二乙基苯基)馬來酰亞胺-異丁烯交替共聚物具有65,000的數(shù) 均分子量。
制備由20重量%的得到的N-(2,6-二乙基苯基)馬來酰亞胺-異丁烯交替 共聚物和80重量%二氯曱烷構(gòu)成的溶液。將該溶液在PET膜上流延,并從 溶液中揮發(fā)二氯曱烷。剝離所得的N-(2,6-二乙基苯基)馬來酰亞胺-異丁烯交 替共聚物的固化膜。將剝離的膜在10(TC下干燥4小時并隨后以l(TC的間
35隔在12(TC-160。C的溫度下干燥,對于每個溫度干燥l小時,之后在真空干 燥器中在180。C下干燥4小時以得到具有約100(mi厚度的膜。(得到的膜的 三維折射率為nx=1.5400, ny=1.5400和nz=1.5400)。
從該膜中切出5cmx5cm的小片,并使其經(jīng)歷用雙軸拉伸裝置(由 Shibayama Scientific Co. Ltd.制造)在220。C的溫度和15mm/分鐘的拉伸速度 的條件下進(jìn)行的自由寬度單軸拉伸。由此將膜拉伸+50%,從而得到拉伸膜。 得到的拉伸膜的三維折射率為nx4=l.53913, ny4=l.54042和nz4=1.54045。
盡管已詳細(xì)并參照具體實施方式
描述了本發(fā)明,但是對于本領(lǐng)域技術(shù) 人員來說顯而易見的是,可在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下進(jìn)行各 種變化和改進(jìn)。
本發(fā)明基于2007年4月18日提交的日本專利申請(申請?zhí)?2007-109052)、 2007年4月18日提交的日本專利申請(申請?zhí)?007-109053) 和2007年12月25日提交的日本專利申請(申請?zhí)?007-331825),其內(nèi)容在 此引入作為參考。
工業(yè)應(yīng)用性
根據(jù)本發(fā)明,可提供具有優(yōu)異光學(xué)性質(zhì)的光學(xué)補償層和光學(xué)補償膜。 更具體地,可提供具有在涂布流體的涂覆時或在涂布流體的涂覆和隨后的 單軸拉伸時而賦予其的光學(xué)補償功能且其延遲的波長相關(guān)性小的光學(xué)補償
層和光學(xué)補償膜。
權(quán)利要求
1.光學(xué)補償層,其中該補償層為包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層,和其中當(dāng)在該涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作x軸和y軸,且平面外方向稱作z軸時,該涂布層滿足三維折射率關(guān)系nx≈ny>nz,其中nx是x軸方向上的折射率,ny是y軸方向上的折射率,和nz是z軸方向上的折射率。
2. 權(quán)利要求1的光學(xué)補償層,其包括包含由下式(l)表示的N-取代的馬 來酰亞胺殘基單元的馬來酰亞胺樹脂[化l]<formula>formula see original document page 2</formula>其中R^表示具有l(wèi)-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,卣素 基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
3. 權(quán)利要求1或2的光學(xué)補償層,其中該層具有30-2000nm的平面外 延遲Rth,其中當(dāng)用具有5 89nm的測量波長的光檢測時該平面外延遲由以下 表達(dá)式(2)表示<formula>formula see original document page 2</formula>(2)其中d表示該光學(xué)補償層的厚度,單位為nm。
4. 權(quán)利要求1或2的光學(xué)補償層,其具有1.1或更低的延遲的波長相 關(guān)性即R450/R589,其中該延遲的波長相關(guān)性由傾斜40度且用具有450nm 的測量波長的光檢測的涂布層的延遲R450與傾斜40度且用具有589nm的 測量波長的光檢測的涂布層的延遲R589的比表示。
5. 權(quán)利要求1或2的光學(xué)補償層,其中該涂布層為未拉伸的膜。
6. 權(quán)利要求1或2的光學(xué)補償層,其為用于液晶顯示元件的光學(xué)補償層。
7. 光學(xué)補償膜,其為包括權(quán)利要求1或2的光學(xué)補償層和由纖維素樹 脂制成的膜的層狀產(chǎn)物。
8. 權(quán)利要求7的光學(xué)補償膜,其為用于液晶顯示元件的光學(xué)補償膜。
9. 制造光學(xué)補償層的方法,其包括將馬來酰亞胺樹脂溶液涂覆在基底上并干燥所涂覆的溶液。
10. 權(quán)利要求9的制造光學(xué)補償層的方法,其中所述馬來酰亞胺樹脂溶 液為包含由下述通式(l)表示的馬來酰亞胺殘基單元的馬來酰亞胺樹脂的溶 液<formula>formula see original document page 3</formula>其中R,表示具有l(wèi)-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,卣素 基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
11. 光學(xué)補償膜,其包括包含馬來酰亞胺樹脂的涂布層(A)和拉伸膜層(B)。
12. 權(quán)利要求11的光學(xué)補償膜,其中所述涂布層(A)含有下述馬來酰亞 胺樹脂,所述馬來酰亞胺樹脂包含下述通式(l)所示N-取代的馬來酰亞胺殘 基單元<formula>formula see original document page 3</formula>其中R,表示具有l(wèi)-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,囟素 基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
13.權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中所述層(A)包括涂布層,其 中當(dāng)在該涂布層的平面中相互垂直的兩個任意軸分別稱作xl軸和yl軸, 且平面外方向稱作zl軸時,那么該涂布層滿足三維折射率關(guān)系 nxl "nyl>nzl ,其中nxl是xl軸方向上的折射率,nyl是yl軸方向上的折射率,和nzl 是zl軸方向上的折射率。
14. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中所述層(A)包括涂布層,其 具有30-2000nm的平面外延遲Rthl,其中當(dāng)用具有589nm的測量波長的光 檢測時該平面外延遲由以下表達(dá)式(3)表示Rth 1 =((nx 1 +ny 1 )/2-nz 1) x d 1 (3) 其中dl表示該涂布層(A)的厚度,單位為nm。
15. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中所述層(A)包括涂布層,其 具有1.1或更低的延遲的波長相關(guān)性即R450/R589,其中該延遲的波長相關(guān) 性由傾斜40度且用具有450nm的測量波長的光檢測的涂布層的延遲R450 與傾斜40度且用具有589nm的測量波長的光一全測的涂布層的延遲R589的比表示。
16. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中所述層(B)包括拉伸膜層, 其中當(dāng)該拉伸膜的平面內(nèi)拉伸方向稱作x2軸,與該4立伸方向垂直的平面內(nèi) 方向稱作y2軸,且該膜的平面外方向即厚度方向稱作z2軸時,那么該膜滿 足三維折射率關(guān)系nx2〉ny2^nz2,其中nx2是x2軸方向上的折射率,ny2是y2軸方向上的折射率,和nz2 是z2軸方向上的折射率,其中該拉伸膜層(B)具有20nm或更大的平面內(nèi)延遲Re,其中當(dāng)用具有Re=(nx2-ny2) x d2 (4)其中d2表示該拉伸膜層(B)的厚度,其單位為nm。
17. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中該層(B)包括拉伸膜層(B), 其包括選自如下的至少一種樹脂聚碳酸酯樹脂、聚醚砜樹脂、環(huán)狀聚烯 烴樹脂和纖維素樹脂。
18. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其中在該光學(xué)補償膜中的平面內(nèi) 慢軸方向稱作x3軸,與x3軸垂直的平面內(nèi)方向稱作y3軸,和該膜的平面 外方向即厚度方向稱作z3軸時,該膜在用具有589nm的測量波長的光^r測 時具有1.1或更大的取向參數(shù)Nz,其中該取向參數(shù)由以下表達(dá)式(5)表示, 其中nx3是x3軸方向上的平均折射率,ny3是y3軸方向上的平均折射率, 和nz3是z3軸方向上的平均折射率,Nz=(nx3-nz3)/(nx3-ny3) (5)。
19. 權(quán)利要求11或12的光學(xué)補償膜,其為用于液晶顯示元件的光學(xué)補償膜。
20. 制造光學(xué)補償膜的方法,其包括將馬來酰亞胺樹脂溶液涂覆在拉伸膜(B)上并干燥所涂覆的溶液以成為涂布層(A)。
21. 權(quán)利要求20的制造光學(xué)補償膜的方法,其中所述馬來酰亞胺樹脂液[化4]其中R!表示具有l(wèi)-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,囟素 基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
22. 光學(xué)補償層,其為通過單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層得到 的光學(xué)補償層,其中當(dāng)該涂布層中的拉伸軸方向稱作x4軸,與該拉伸方向 垂直的方向稱作y4軸,且平面外方向稱作z4軸時,那么該光學(xué)補償層滿足 三維折射率關(guān)系nx4>ny4>nz4,其中nx4是x4軸方向上的折射率,ny4是y4軸方向上的折射率,和nz4 是z4軸方向上的折射率。
23. 權(quán)利要求22的光學(xué)補償層,特征在于包括馬來酰亞胺樹脂,該馬 來酰亞胺樹脂包含由下述通式(l)表示的N-取代的馬來酰亞胺殘基單元[化5] 其中Ri表示具有l(wèi)-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,卣素 基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
24.權(quán)利要求22或23的光學(xué)補償層,特征在于該光學(xué)補償層具有20nm 或更大的平面內(nèi)延遲Rel,其中當(dāng)用具有589nm的測量波長的光4企測時該平面內(nèi)延遲由以下表達(dá)式(6)表示Rel=(nx4-ny4)x d3 (4)其中d3表示該光學(xué)補償層的厚度,其單位為nm。。
25. 權(quán)利要求22或23的光學(xué)補償層,其中該光學(xué)補償層具有 30-2000nm的平面外延遲Rth2,其中當(dāng)用具有589nm的測量波長的光^r測 時該平面外延遲由以下表達(dá)式(7)表示Rth2=((nx4+ny4)/2-nz4) x d4 (2)其中d4表示該光學(xué)補償層的厚度,其單位為nm。。
26. 權(quán)利要求22或23的光學(xué)補償層,其具有1.1或更低的延遲的波長 相關(guān)性即R450/R589,其中該延遲的波長相關(guān)性由在450nm的測量波長下 測定的延遲R450與在589nm的測量波長下測定的延遲R589的比表示。
27. 用于液晶顯示元件的光學(xué)補償層,其包括權(quán)利要求22或23的光學(xué) 補償層。
全文摘要
提供光學(xué)補償層,其具有在涂布流體的涂覆時或在涂布流體的涂覆和隨后的單軸拉伸時而賦予其的光學(xué)補償功能且其延遲的波長相關(guān)性小。本發(fā)明提供光學(xué)補償層,其中該補償層為包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層,和其中當(dāng)在涂布層的平面內(nèi)相互垂直的任意兩個軸分別稱作x軸和y軸,且平面外方向稱作z軸時,那么該涂布層滿足三維折射率關(guān)系nx≈ny>nz,其中nx是x軸方向上的折射率,ny是y軸方向上的折射率,和nz是z軸方向上的折射率;光學(xué)補償膜,其包括包含馬來酰亞胺樹脂的涂布層(A)和拉伸膜層(B);以及光學(xué)補償層,其是通過單軸拉伸包括馬來酰亞胺樹脂的涂布層而得到的光學(xué)補償層,其中當(dāng)涂布層中的拉伸軸方向稱作x軸,與該拉伸方向垂直的方向稱作y軸和平面外方向稱作z軸時,那么該光學(xué)補償層滿足三維折射率關(guān)系nx4>ny4>nz4,其中nx4為x軸方向上的折射率,ny4是y軸方向上的折射率,和nz4是z軸方向上的折射率。下式中,R<sub>1</sub>表示具有1-18個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基或環(huán)烷基,鹵素基團(tuán),醚基,酯基或酰胺基。
文檔編號G02B5/30GK101669049SQ20088001253
公開日2010年3月10日 申請日期2008年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月18日
發(fā)明者下里伸治, 豐增信之, 土井亨, 尾崎想 申請人:東曹株式會社