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鏡座、其制造方法及相機(jī)模組的制作方法

文檔序號:2812582閱讀:140來源:國知局
專利名稱:鏡座、其制造方法及相機(jī)模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鏡座、其制造方法及具有該鏡座的相機(jī)模組。
背景技術(shù)
照相功能已經(jīng)成為各種便攜式電子產(chǎn)品例如手機(jī)及個(gè)人數(shù)字助理(PDA)不可或 缺的主要功能之一。相機(jī)模組通常包括至少一個(gè)鏡頭模組,以及一個(gè)與鏡頭模組相對設(shè)置 的影像感測器元件。鏡頭模組通常包括鏡座、設(shè)置于鏡座的鏡筒、以及沿光軸方向依次固定 于鏡筒內(nèi)的透鏡組、間隔環(huán)和濾光片等光學(xué)元件。而影像感測器元件通常封裝于鏡座內(nèi),與 鏡頭模組配合用于成像。 但是,現(xiàn)有的鏡頭模組的鏡座的材料以塑料如PC/ABS(聚丙烯/丙烯腈_ 丁二 烯-苯乙烯)工程塑料、聚四氟乙烯等居多,通常不具備良好的抗電磁波干擾能力,影 像感測器元件容易受到外界電磁波的干擾而產(chǎn)生噪聲,所述電磁波的干擾可以通過如 Zhenguang Liang等人在2006年10月SPIE系統(tǒng)檢測儀表與控制技術(shù)第六次國際研討會(huì)
(Sixth InternationalSymposium on Instrumentation and Control Technology)上發(fā)表 的論文Radiatedelectromagnetic interference (EMI)measuring system中揭不的電石茲干
擾測量系統(tǒng)測得。所述電磁波的干擾導(dǎo)致無法獲得清晰的圖像,造成成像質(zhì)量不佳。當(dāng)成 像解析度較高時(shí),外界電磁波對影像感測器元件干擾所造成的對成像質(zhì)量的影響就更為明 目前,可通過鍍膜的方法在鏡座的外表面形成一層銅/不銹鋼抗電磁干擾涂層來 降低電磁波對與鏡頭模組相配合的影像感測器元件的干擾,但此種方法需要昂貴的鍍膜設(shè) 備和真空系統(tǒng)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種成本較低的鏡座、其制造方法及相機(jī)模組。 —種鏡座,該鏡座的材料為主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干
擾功能的復(fù)合材料,所述碳納米管和所述碳黑分散于所述聚合物中。 —種上述鏡座的制造方法,其包括以下步驟制備包含碳納米管和碳黑的混合物; 將所述包含有碳納米管和碳黑的混合物與聚合物通過加熱混合而使碳納米管及碳黑分散 于該聚合物中,得到主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù)合材 料;以所述復(fù)合材料為原料,采用注射成型法得到該鏡座。 —種相機(jī)模組,其包括至少一鏡片;一收容該至少一鏡片的鏡筒;一鏡座;及一 影像感測元件,該影像感測元件設(shè)置于鏡座相對于鏡筒的另外一側(cè),該鏡座的材料為主要 由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù)合材料,所述碳納米管和所述 碳黑分散于所述聚合物中。 相較于現(xiàn)有技術(shù),該相機(jī)模組的鏡座由具有良好的抗電磁波干擾能力的碳納米 管、碳黑及聚合物復(fù)合材料通過注塑成型法形成,可省去使用昂貴的鍍膜設(shè)備和真空系統(tǒng)的步驟,成本較低。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的相機(jī)模組的剖視圖。
圖2是圖1的局部放大圖。
具體實(shí)施例方式
下面將結(jié)合附圖,對本發(fā)明實(shí)施例作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。 請參閱圖1和圖2,其為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種相機(jī)模組100。該相機(jī)模組100 包括若干鏡片40,一收容該若干鏡片40的鏡筒10,鏡座20,及影像感測元件50。其中,該 鏡筒10、鏡座20、及若干鏡片40構(gòu)成一鏡頭模組。 該鏡筒10的外壁設(shè)置有外螺紋。該鏡座20包括一圓筒形部位202以及一與該圓 筒形部位202相貫通的方框形部位204。該圓筒形部位202內(nèi)壁設(shè)置有可與該鏡筒10的外 螺紋相嚙合的內(nèi)螺紋。 該影像感測元件50包括一影像感測器502以及一 電路板504。該影像感測器502 可以為電荷耦合器件(Charge Coupled Device,簡稱CCD)或互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體晶體 管(Complementary Metal Oxide Semiconductor Transistor,簡稱CMOS)。該影像感測器 502封裝在所述電路板504上,并設(shè)置在該鏡座20的方框形部位204內(nèi)。
該影像感測元件50設(shè)置于鏡座20相對于鏡筒10的另外一側(cè)。該影像感測元件50 設(shè)置于鏡座20中,即設(shè)置于鏡座20的方框形部位204處。該影像感測器元件50可為電荷 耦合元件(Charge Coupled Device,CCD)或者互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體元件(Complementary MetalOxide Semiconductor, CMOS)。 該鏡座20的材料為主要由碳納米管208、碳黑207及聚合物206組成的復(fù)合材 料,所述碳納米管208和所述碳黑207分散于所述聚合物206中,該碳納米管208占該 聚合物206的重量百分比為1.0% -15%,該碳黑207占該聚合物206的重量百分比為 1. 0% -10%。該聚合物206材料為聚碳酸酯(Polycarbonate)、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二 烯-苯乙烯(polycarbonate/Acrylonitrile Butadiene Styrene,PC/ABS)、聚碳酸酉旨/玻 璃纖維(Polycarbonate/Glass fiber)、聚鄰苯二甲酰胺(Polyphthalamide, PPA)、或聚苯 醚(Polyphenylene oxide, PP0)。碳納米管208可為單壁碳納米管或多壁碳納米管。
上述鏡座可以采用以下方法制造 步驟一,采用電弧放電(Arc-Discharge)方法制備包含碳納米管208和碳黑207 的混合物。 步驟二,將所述包含有碳納米管208和碳黑207的混合物與聚合物206通過加熱
混合而使碳納米管208及碳黑207分散于該聚合物206中,得到主要由碳納米管208、碳黑
207及聚合物206組成的具有抗電磁干擾功能復(fù)合材料。 步驟三,以所述復(fù)合材料為原料,采用注射成型法得到該鏡座20。 相較于現(xiàn)有技術(shù),該相機(jī)模組100的鏡座20由具有良好的抗電磁波干擾能力的碳
納米管、碳黑及聚合物復(fù)合材料通過注塑成型法形成,可省去使用昂貴的鍍膜設(shè)備和真空
系統(tǒng)的步驟,成本較低。
另外,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思做出其他各種相應(yīng)的變化,而所有這些變化都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種鏡座,其特征在于,該鏡座的材料為主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù)合材料,所述碳納米管和所述碳黑分散于所述聚合物中。
2. 如權(quán)利要求1所述的鏡座,其特征在于,該聚合物材料為聚碳酸酯、聚碳酸酯/丙烯 腈丁二烯苯乙烯、聚碳酸酯/玻璃纖維、聚鄰苯二甲酰胺或聚苯醚。
3. 如權(quán)利要求1所述的鏡座,其特征在于,碳納米管為單壁碳納米管或多壁碳納米管。
4. 一種如權(quán)利要求1所述的鏡座的制造方法,其包括以下步驟 制備包含碳納米管和碳黑的混合物;將所述包含有碳納米管和碳黑的混合物與聚合物通過加熱混合而使碳納米管及碳黑 分散于該聚合物中,得到主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù) 合材料;以所述復(fù)合材料為原料,采用注射成型法得到該鏡座。
5. 如權(quán)利要求4所述的鏡座的制造方法,其特征在于,采用電弧放電法制備包含碳納 米管和碳黑的混合物。
6. —種相機(jī)模組,其包括至少一鏡片;一收容該至少一鏡片的鏡筒;一鏡座;及一影 像感測元件,該影像感測元件設(shè)置于鏡座相對于鏡筒的另外一側(cè),其特征在于,該鏡座的材 料為主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù)合材料,所述碳納米 管和所述碳黑分散于所述聚合物中。
7. 如權(quán)利要求6所述的相機(jī)模組,其特征在于,該聚合物材料為聚碳酸酯、聚碳酸酯/ 丙烯腈_ 丁二烯_苯乙烯、聚碳酸酯/玻璃纖維、聚鄰苯二甲酰胺或聚苯醚。
8. 如權(quán)利要求6所述的相機(jī)模組,其特征在于,碳納米管為單壁碳納米管或多壁碳納 米管。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鏡座,該鏡座的材料為主要由碳納米管、碳黑及聚合物組成的具有抗電磁干擾功能的復(fù)合材料,所述碳納米管和所述碳黑分散于所述聚合物中。本發(fā)明還提供一種該鏡座的制造方法及一種相機(jī)模組。該相機(jī)模組的鏡座由具有良好的抗電磁波干擾能力的碳納米管、碳黑及聚合物復(fù)合材料通過注塑成型法形成,可省去使用昂貴的鍍膜設(shè)備和真空系統(tǒng)的步驟,成本較低。
文檔編號G02B7/02GK101750700SQ200810306350
公開日2010年6月23日 申請日期2008年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月18日
發(fā)明者陳杰良 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
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