專利名稱：一種比較片機構(gòu)的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于光學鍍膜設備領域，特別涉及其中的比較片機構(gòu)。
技術背景在為光學元器件如鏡片鍍膜時，為了監(jiān)控薄膜厚度，在接近被鍍工件(需 要鍍膜的基片)設置有比較片。比較片位置盡可能與被鍍基片接近，比較片與 被鍍工件一同被蒸鍍。在蒸鍍過程中，通過光學監(jiān)控系統(tǒng)可以直接測量由于比 較片的厚度變化引起的膜系的透(反)射率變化值，由于比較片與被鍍基片的 鍍制過程十分近似，那么對比較片的監(jiān)控結(jié)果就可以視為對被鍍基片的監(jiān)控結(jié) 果，從而達到精確控制基片鍍制過程的目的。另外，利用石英晶體的厚度變化 會引起石英晶體的振頻發(fā)生變化這一原理，在光學鍍膜設備中還采用石英晶體 探頭的監(jiān)測方式對被鍍基片的膜層厚度進行監(jiān)控。由于比較片和晶體探頭兩種 監(jiān)測方式的原理不同，各有所長，結(jié)合兩種監(jiān)控系統(tǒng)，可以實現(xiàn)以采用比較片 的光控方式為主，采用晶體探頭的晶控方式為輔的薄膜鍍制監(jiān)控系統(tǒng)，精確監(jiān) 控薄膜厚度?，F(xiàn)有比較片和晶體探頭的工作方式如下采用若干個獨立的比較片，鍍一 層膜時采用一個比較片進行監(jiān)測，進行下一層鍍膜時更換新的比較片；晶體探 頭獨立于比較片機構(gòu)進行監(jiān)測。現(xiàn)有技術存在的不足在于多個獨立的比較片之間不可避免地存在幾何精致的，不同比較片存在的誤差必然導致監(jiān)測結(jié)果有誤差，進而影響監(jiān)控的質(zhì)量；
另外每個比較片都要配備換位機構(gòu)及定位裝置，這必然導致整個比較片機構(gòu)龐 大，而在光學鍍膜的真空室的空間是一定的，比較片機構(gòu)占用空間大是以減少 被鍍工件的面積為代價的，這就使光學鍍膜設備可用于裝載被鍍基片的有效空間減少，影響生產(chǎn)效率；晶體探頭獨立于比較片機構(gòu)設置，使得晶體探頭的監(jiān)測位置和比較片的監(jiān)測位置相距過遠，由于真空室內(nèi)較遠的不同位置的蒸鍍條 件可能有比較大的不同，這就有可能導致兩者的監(jiān)測結(jié)果相差過大，不利于薄 膜厚度的精確控制。 實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是解決現(xiàn)有比較片監(jiān)測技術存在的監(jiān)測結(jié)果誤差大、比 較片機構(gòu)龐大導致光學鍍膜設備用于裝載被鍍基片的有效空間少以及晶體探頭 和比較片監(jiān)測結(jié)果相差過大的問題，本實用新型提供了一種新型的比較片機構(gòu)。本實用新型的主要思想是在一個大比較片上進行分區(qū)，每個分區(qū)作為鍍一 層膜時的比較片，這樣就解決了不同比較片間存在幾何精度誤差的問題，同時也減少了比較片機構(gòu)的空間；將晶體探頭設置在比較片機構(gòu)中，使晶體探頭的 監(jiān)測位置和比較片的監(jiān)測位置十分接近，解決了兩者的監(jiān)測結(jié)果相差過大的問 題。本實用新型的技術方案如下比較片機構(gòu)，包括定位法蘭盤和位于定位法蘭盤上部的一個比較片，在比 較片和定位法蘭盤之間還設置有對比較片分區(qū)的分區(qū)結(jié)構(gòu)，所述分區(qū)結(jié)構(gòu)包括 若干通透區(qū)，所述比較片工作面?zhèn)瘸蚍謪^(qū)結(jié)構(gòu)設置，并且比較片工作面朝向 真空室；所述定位法蘭盤上設置有定位法蘭盤通孔，所述定位法蘭盤通孔與所 述分區(qū)之一重疊設置。上述分區(qū)結(jié)構(gòu)包括一盤狀體及該盤狀體底部設置的若干個起分區(qū)作用的互 不連通的通孔，所述盤狀體為圓盤狀，其外圓周設置有齒輪結(jié)構(gòu)。上述若干個 互不連通的通孔為圓孔，且所述圓孔的圓心均在盤狀體底部一個同心圓的圓周 上?；ゲ贿B通的通孔的數(shù)量是9。盤狀體朝向真空室 一側(cè)的底部圓心設置有定位軸，所述定位軸設置于定位 法蘭盤上。包括一傳動齒輪，所述傳動齒輪與盤狀體外圓周的齒輪嚙合，傳動齒輪設 置于傳動軸上。上述傳動軸一端連接于動力源，另一端連接于定位法蘭盤上。 還包括晶體探頭，所述晶體探頭設置于定位法蘭盤上。技術效果本實用新型通過設置一個比較片和對比較片分區(qū)的分區(qū)結(jié)構(gòu)，即對一個比 較片進行分區(qū)，可使每個大比較片上被分的分區(qū)作為鍍一層膜時的比較片，由 于一個比較片的幾何精度等參數(shù)是一致的，這樣就解決了不同比較片間存在幾 何精度誤差的問題，提升了監(jiān)測效果。同時，采用一個大比較片，去除了多余 的比較片都要配備的換位機構(gòu)及定位裝置，簡化了整個比較片機構(gòu)的結(jié)構(gòu)，減 少了比較片機構(gòu)占用的空間，增加了光學鍍膜設備可用于裝載被鍍基片的有效 空間。由于比較片機構(gòu)體積縮小，這就有可能將晶體探頭設置在比較片機構(gòu)中， 從而使晶體探頭的監(jiān)測位置和比較片的監(jiān)測位置十分接近，解決了兩者的監(jiān)測 結(jié)果相差過大的問題，達到提升監(jiān)測效果的目的。設置齒輪機構(gòu)來驅(qū)動比較片分區(qū)換位，使比較片分區(qū)能夠準確定位。 采用盤狀體底部通孔的方式來對大比較片分區(qū)，是為了便于盤狀體的加工； 互不連通的通孔的圓心在盤狀體一個同心圓的圓周上的設置，便于盤狀體通過簡單的旋轉(zhuǎn)即可實現(xiàn)比較片分區(qū)的換位。


圖1為本實用新型比較片機構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖； 圖2為圖1的俯視圖；圖3為盤狀體、與盤狀體嚙合的傳動齒輪以及定位法蘭盤之間的位置關系圖。圖中標記列示如下1、比較片；2、盤狀體；3、齒輪結(jié)構(gòu)；4、定位法蘭盤；5、被鍍工件；6、 傳動軸；7傳動齒輪；8、盤狀體通孔；9、定位法蘭盤通孔；10、晶體探頭；11、 定位軸。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型的技術方案進行描述。結(jié)合圖l和圖2可見，本實用新型的主要結(jié)構(gòu)包括一個定位法蘭盤4，在定 位法蘭盤4上部設置有晶體探頭10、圓形盤狀體2、設置在盤狀體2上的比較 片l及傳動齒輪7，定位法蘭盤4的下方是真空室。包圍定位法蘭盤4外圓周設 置屏蔽套，以定位法蘭盤4為底，屏蔽套和定位法蘭盤4構(gòu)成封閉的桶體，整 個桶體設置在真空室中，桶體可以保護設置在其中的部件避免受到蒸鍍材料的 污染。立柱的一端設置在定位法蘭盤4上，另一端設置于真空室的上法蘭盤(所 述立柱另一端的連接在圖中沒有標示出來，屬于現(xiàn)有技術)。盤狀體2的底部設置有若千個起分區(qū)作用的互不連通的盤狀體通孔8，在本 實施例中這些盤狀體通孔8為圓孔，且所述圓孔的圓心均在以盤狀體2的圓心 為圓心的一個同心圓的圓周上，便于盤狀體2通過簡單的旋轉(zhuǎn)即可實現(xiàn)比較片1 的旋轉(zhuǎn)換位。本實用新型釆用一個大的比較片1的結(jié)構(gòu)，而不是采用多個比較 片的結(jié)構(gòu)形式。比較片1裝置于盤狀體的上部，比較片1的工作面為比較片1朝向真空室的一面，比4交片1的工作面朝向盤狀體2的底部"i殳置。上述的盤狀 體將比較片1分割成多個分區(qū)，所述的分區(qū)是指盤狀體通孔8和比較片1重疊 形成的區(qū)域。在被鍍工件鍍每一層膜時單個上述分區(qū)作為比較片參與工作，采 用盤狀體2底部通孔的方式來對比較片l分區(qū)，是為了便于盤狀體2的加工。 由于一個比較片的幾何精度等參數(shù)是一致的，這樣就解決了現(xiàn)有技術中不同比 較片間存在幾何精度誤差的問題，提升了監(jiān)測效果。在盤狀體2底部盤狀體通 孔8圓心所在上述同心圓的圓心處設置有定位軸11 (見圖3),定位軸11與盤 狀體2底部垂直。定位軸11還垂直于定位法蘭盤4并設置于定位法蘭盤4上， 盤狀體2可以繞定位軸11旋轉(zhuǎn)。定位法蘭盤4上還設置有定位法蘭盤通孔9, 定位法蘭盤4的下方就是真空室，真空室底部的底板上設置有蒸發(fā)源，設置有 比較片1的盤狀體2上的盤狀體通孔8可以與定位法蘭盤通孔9重疊，將比較 片1的部分工作表面直接暴露于真空室用于鍍膜過程，盤狀體2繞定位軸11旋 轉(zhuǎn)，可以將不同的盤狀體通孔8與定位法蘭盤通孔9重疊，這樣就根據(jù)需要可 以不斷將比較片1上的分區(qū)應用于鍍膜監(jiān)測。盤狀體2的外圓周設置有齒輪結(jié) 構(gòu)，傳動齒輪7與所述齒輪結(jié)構(gòu)嚙合，傳動齒輪7設置于傳動軸6上，傳動軸6 一端連接于動力源，另一端連接于定位法蘭盤4上。當傳動齒輪7轉(zhuǎn)動，即可 帶動盤狀體2旋轉(zhuǎn)，從而達到將比較片1的不同分區(qū)進行換位的目的。齒輪驅(qū) 動盤狀體2利用了齒輪傳動旋轉(zhuǎn)角度準確的特點，使盤狀體通孔8和定位法蘭 盤通孔9能夠準確對位。
采用本實用新型的技術方案，去除了多余的每個比較片都要配備的換位機 構(gòu)及定位裝置，簡化了整個比較片機構(gòu)的結(jié)構(gòu)，減少了比較片機構(gòu)占用的空間， 增加了光學鍍膜設備可用于裝載被鍍基片的有效空間。將晶體探頭設置在比較片機構(gòu)中，從而使晶體探頭的監(jiān)測位置和比較片的監(jiān)測位置十分接近，解決了現(xiàn)有技術中兩者的監(jiān)測結(jié)果相差過大的問題，達到 提升監(jiān)測效果的目的。本實用新型，但不以任何方式限制本實用新型。因此，盡管本說明書參照附圖 和實施例對本實用新型已進行了詳細的說明，但是，本領域技術人員應當理解， 仍然可以對本實用新型進行修改或者等同替換，例如面陣CCD相機和激光器的選型，還可以有多種選擇；而一切不脫離本實用新型的精神和范圍的技術方案 及其改進，其均應涵蓋在本實用新型專利的保護范圍當中。
權(quán)利要求1、一種比較片機構(gòu)，包括定位法蘭盤和位于定位法蘭盤上部的一個比較片，其特征在于在比較片和定位法蘭盤之間還設置有對比較片分區(qū)的分區(qū)結(jié)構(gòu)，所述分區(qū)結(jié)構(gòu)包括若干通透區(qū)，所述比較片工作面?zhèn)瘸蚍謪^(qū)結(jié)構(gòu)設置，并且比較片工作面朝向真空室設置；所述定位法蘭盤上設置有定位法蘭盤通孔，所述定位法蘭盤通孔與所述分區(qū)之一重疊設置。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述分區(qū)結(jié)構(gòu)包括 一盤狀體及該盤狀體底部設置的有若千個起分區(qū)作用的互不連通的通孔。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述盤狀體為圓盤 狀，其外圓周設置有齒輪結(jié)構(gòu)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述若千個互不連 通的通孔為圓孔，且所述圓孔的圓心均在盤狀體底部一個同心圓的圓周上。
5、 根據(jù)權(quán)利要求2至4之一所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于盤狀體朝 向真空室一側(cè)的底部圓心設置有定位軸，所述定位軸設置于定位法蘭盤上。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述互不連通的通 孔的數(shù)量是9。
7、 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于包括一傳動齒 輪，所述傳動齒輪與盤狀體外圓周的齒輪嚙合，傳動齒輪設置于傳動軸上。
8、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于包括一傳動齒輪， 所述傳動齒輪與盤狀體外圓周的齒輪嚙合，傳動齒輪設置于傳動軸上。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述傳動軸一端連 接于動力源，另一端連接于定位法蘭盤上。
10、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于所述傳動軸一端 連接于動力源，另一端連接于定位法蘭盤上。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于還包括晶體探頭， 所述晶體探頭設置于定位法蘭盤上。
12、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種比較片機構(gòu)，其特征在于還包括晶體探頭， 所述晶體探頭設置于定位法蘭盤上。
專利摘要本實用新型屬于一種光學鍍膜設備領域。現(xiàn)有技術采用多個獨立的比較片技術方案，因此監(jiān)測結(jié)果誤差大、導致光學鍍膜設備用于裝載被鍍基片的有效空間少以及晶體探頭和比較片監(jiān)測結(jié)果相差過大。本實用新型提供了一種新型的比較片機構(gòu)，包括定位法蘭盤和位于定位法蘭盤上部的一個比較片，在比較片和定位法蘭盤之間還設置有對比較片分區(qū)的分區(qū)結(jié)構(gòu)，所述分區(qū)結(jié)構(gòu)包括若干通透區(qū)，所述比較片工作面?zhèn)瘸蚍謪^(qū)結(jié)構(gòu)設置，并且比較片工作面朝向真空室設置；所述定位法蘭盤上設置有定位法蘭盤通孔，所述定位法蘭盤通孔與所述分區(qū)之一重疊設置。采用本實用新型的技術方案可以得到更精確的監(jiān)測結(jié)果，提高光學鍍膜設備用于裝載被鍍基片的有效空間。
文檔編號G02B1/10GK201051155SQ200720103859
公開日2008年4月23日 申請日期2007年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月16日
發(fā)明者劉潔雅 申請人:北京北儀創(chuàng)新真空技術有限責任公司