專利名稱：光學(xué)成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在曝光過(guò)程中所使用的光學(xué)成像裝置，尤其涉及微 平版印刷系統(tǒng)的光學(xué)成像裝置。本發(fā)明還涉及一種捕獲在光學(xué)成像 裝置的各個(gè)部件之間的空間關(guān)系的方法。本發(fā)明還涉及將圖案的圖 像轉(zhuǎn)印到基板上的方法。此外，本發(fā)明涉及支撐光學(xué)投影單元的部的光學(xué)平版印刷過(guò)程中，或者用在制造在這種光學(xué)平版印刷過(guò)程期 間所使用的例如掩?；蚍謩澃宓难b置的制造過(guò)程中。
背景技術(shù)：
通常，在制造微電子裝置例如半導(dǎo)體裝置的過(guò)程中所使用的光 學(xué)系統(tǒng)在光學(xué)系統(tǒng)的光路中包括多個(gè)具有多個(gè)光學(xué)元件(例如透鏡 和反射鏡等)的光學(xué)元件單元。那些光學(xué)元件在曝光過(guò)程中通常進(jìn) 行協(xié)作以將形成在掩模、劃線板等上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板(例 如薄片)上。所述光學(xué)元件通常組合成一個(gè)或多個(gè)功能不同的光學(xué) 元件組中。這些不同的光學(xué)元件組可由不同的光學(xué)曝光單元保持。 尤其在主折射系統(tǒng)中，這些光學(xué)曝光單元往往由保持著一個(gè)或多個(gè) 光學(xué)元件的一堆光學(xué)元件模塊構(gòu)成。這些光學(xué)元件模塊通常包括支 撐 一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件支架的外部大體上為環(huán)形的支撐裝置，所述光學(xué)元件支架每一個(gè)都保持著光學(xué)元件。至少包括主折射光學(xué)元件例如透鏡的光學(xué)元件組大部分具有通 常被稱為光軸的光學(xué)元件的直公共對(duì)稱軸。而且，保持著這些光學(xué) 元件組的光學(xué)曝光單元通常具有基本上細(xì)長(zhǎng)的管狀設(shè)計(jì)，由此它們 通常被稱為鏡筒。由于半導(dǎo)體器件不斷微型化，所以一直需要提高用于制造那些 半導(dǎo)體器件的光學(xué)系統(tǒng)的分辨率。提高分辨率的這種需求顯然推動(dòng) 了對(duì)增大數(shù)值孔徑并且提高光學(xué)系統(tǒng)的成像精度的需求。實(shí)現(xiàn)分辨率提高的一種方法在于降低在曝光過(guò)程中所使用的光的波長(zhǎng)。近年來(lái)，已經(jīng)采取措施以使用在遠(yuǎn)紫外(EUV)范圍中其波長(zhǎng) 低至13nm甚至更低的光。在該EUV范圍內(nèi)，不可能再使用公共折射 光學(xué)元件。這是由于以下事實(shí)造成的，即在該EUV范圍中一般用于 折射光學(xué)元件的材料顯示出對(duì)于獲得高品質(zhì)曝光結(jié)果而言太高的光 吸收度。因此，在EUV范圍中，包括反射元件例如反射鏡等的反射 系統(tǒng)在曝光過(guò)程中用來(lái)將形成在掩模上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板 (例如薄片)上。過(guò)渡到使用在EUV范圍內(nèi)的高數(shù)值孔徑(例如NA>0. 5)反射系統(tǒng) 導(dǎo)致在光學(xué)成像裝置的設(shè)計(jì)方面出現(xiàn)相當(dāng)大的挑戰(zhàn)。除此之外，上面情況尤其導(dǎo)致在參予曝光過(guò)程的部件之間的相 對(duì)位置方面存在非常嚴(yán)格的要求。另外，為了可靠地獲得高品質(zhì)半 導(dǎo)體器件，不僅需要提供具有高成像精確度的光學(xué)系統(tǒng)。而且還需要在整個(gè)曝光過(guò)程中以及在該系統(tǒng)的使用壽命期間保持這種高精確 度。因此，例如在曝光過(guò)程中相互協(xié)作的光學(xué)成像裝置的部件例如 掩模、光學(xué)元件和薄片必須按照規(guī)定的方式受到支撐以便在所述光 學(xué)成像裝置的各部件之間保持預(yù)定的空間關(guān)系，并且提供高品質(zhì)曝 光過(guò)程。為了即使在受到由支撐著該裝置的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)(ground structure)引起的振動(dòng)影響下以及在受到熱引起的位置變化的影響 下也能在整個(gè)曝光過(guò)程中在光學(xué)成像裝置的各個(gè)部件之間保持預(yù)定的空間關(guān)系，必須至少間隔地捕獲在光學(xué)成像裝置的某些部件之間 的空間關(guān)系，并且根據(jù)捕獲過(guò)程的結(jié)果調(diào)節(jié)光學(xué)成像裝置的至少一 個(gè)部件的位置。為了解決這些問(wèn)題，在一般的主折射系統(tǒng)中，捕獲上述空間關(guān) 系所需的光學(xué)元件和度量器件基本上剛性地安裝在所謂的度量框架 上。這種度量框架通常是大體上板狀的笨重主體。該度量框架通過(guò)隔振裝置安裝在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上以降低基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的通常在大約3OHz范圍 內(nèi)的振動(dòng)的影響。另外，需要相當(dāng)大的努力以避免熱引起的度量框 架的變形。度量框架必須由熱膨脹系數(shù)非常低的通常比較昂貴的材 料制成，或者必須提供昂貴的溫度穩(wěn)定系統(tǒng)。因此，在任何情況下， 度量框架都非常復(fù)雜，因此是該系統(tǒng)的貴重部分。在使用EUV范圍內(nèi)的光的情況下出現(xiàn)的另一個(gè)問(wèn)題在于，對(duì)于 具有高數(shù)值孔徑的系統(tǒng)而言至少最靠近薄片的反射鏡通常具有相當(dāng) 大的尺寸，超過(guò)在一般折射系統(tǒng)中所使用的末端光學(xué)元件的尺寸。 這對(duì)于提供在薄片和由這些光學(xué)元件形成的光學(xué)投影系統(tǒng)之間的位 置調(diào)節(jié)的薄片工作臺(tái)校平系統(tǒng)的度量衡造成特殊問(wèn)題。在一般的折射系統(tǒng)中，通常使用安裝在度量框架上的度量裝置 的測(cè)量結(jié)果并且從靠近投影系統(tǒng)的末端折射光學(xué)元件的外周的位置 將一束光傾斜地投射到薄片上來(lái)校平薄片，即調(diào)節(jié)薄片沿著光學(xué)投 影系統(tǒng)的光軸(通常是垂直的，并且因此通常被稱為z軸)的位置。 測(cè)量光束傾斜地從薄片表面反射出，并且在也是靠近末端折射光學(xué) 元件的外周的位置處照射到度量裝置的接收元件上。根據(jù)測(cè)量光束 照射接收元件的位置，可以確定薄片相對(duì)于度量裝置的位置。在具有直徑相對(duì)適中的末端折射光學(xué)元件的普通折射系統(tǒng)中，可以實(shí)現(xiàn)可靠的高精度測(cè)量結(jié)果。但是，由于最靠近薄片的反射鏡 的尺寸較大并且在所述反射鏡和薄片之間的距離較小，所以在如上 所述的高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)中，在測(cè)量光束和薄片之間的角度變得 太小以致于不能獲得可靠的高精度測(cè)量結(jié)果。其內(nèi)容在這里被引用作為參考的EP118250M2 (Kwan提出的)披露了 一種成像系統(tǒng)，其中采用部分安裝在投影系統(tǒng)的外殼中并且部 分安裝在承載著掩模的掩模臺(tái)上的掩模度量裝置的測(cè)量結(jié)果來(lái)使掩模相對(duì)于光學(xué)投影系統(tǒng)定位。這里，掩模臺(tái)承載著度量裝置的基準(zhǔn)元件，即，用于編碼器測(cè)量的干涉測(cè)量或2D衍射光柵測(cè)量的反射器。 雖然該方案無(wú)需將度量裝置的各個(gè)部件安裝在度量框架上，但是它 仍然存在這樣的缺點(diǎn)，即該度量裝置的各個(gè)組成部分安裝在光學(xué)投 影系統(tǒng)的外殼上。由于外殼會(huì)受到熱引起的膨脹作用的影響從而改 變?nèi)菁{在其中的光學(xué)元件的位置，所以需要在使掩模臺(tái)定位時(shí)考慮 這些作用，從而進(jìn)一步給該系統(tǒng)增加了復(fù)雜性，因此使之更加昂貴。發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于至少在一定程度上克服上述缺點(diǎn)， 并且為在曝光過(guò)程中所使用的光學(xué)成像裝置提供良好且長(zhǎng)期可靠的 成像性能。本發(fā)明的另 一個(gè)目的在于在至少保持在曝光過(guò)程中所使用的光 學(xué)成像裝置的成像精度的同時(shí)降低制造光學(xué)成像裝置所需的勞動(dòng)。這些目的是根據(jù)本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的，本發(fā)明基于這樣的教導(dǎo)，即如 果一方面將用來(lái)捕獲在光學(xué)成像裝置的各個(gè)部件之間的空間關(guān)系的 度量系統(tǒng)的至少一部分尤其是度量系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)元件集成 在用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的光學(xué)投影組件的部件上或者與 之直接機(jī)械連接，并且另 一方面將光學(xué)投影組件的某些部件布置成 接收至少一部分度量系統(tǒng)尤其是該度量系統(tǒng)的一個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)元 件，則可以實(shí)現(xiàn)降低制造光學(xué)成像裝置所需的勞動(dòng)同時(shí)至少保持光 學(xué)成像裝置的成像精度。至少 一 部分度量系統(tǒng)與光學(xué)投影組件的部件集成或直接連接能 夠降低制造度量框架的勞動(dòng)，甚至完全去掉該度量框架。另外，已 經(jīng)發(fā)現(xiàn)，光學(xué)投影組件的某些組成部件可以非常適于該度量系統(tǒng)的 至少一部分的集成或直接連接。具體地說(shuō)，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，光學(xué)投影組 件的某些組成部件可以非常適于該度量系統(tǒng)的 一 個(gè)或多個(gè)基準(zhǔn)元件的集成或直接連接。因此，根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，該裝置包括具有圖案的掩模單元；包括基板的基板單元；包括一組 光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，該成像裝置第一部件為 其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，該成像裝置第 二部件與成像裝置第一部件不同并且為掩模單元、光學(xué)投影單元和 基板單元中的一個(gè)的部件；以及度量裝置。度量裝置捕獲在成像裝 置第 一部件和成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。度量裝置包括基 準(zhǔn)元件，該基準(zhǔn)元件直接與成像裝置第一部件機(jī)械連接。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，該裝置包 括具有圖案的掩模單元；包括基板的基板單元；包括一組光學(xué)元 件單元的光學(xué)投影單元；和支撐結(jié)構(gòu)。那組光學(xué)元件單元用來(lái)將圖 案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上。那組光學(xué)元件單元包括光學(xué)元件單元的第 一分組以及與第一分組分開(kāi)的第一光學(xué)元件單元。支撐結(jié)構(gòu)支撐在 基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上并且支撐著第一分組。第一光學(xué)元件單元通過(guò)隔振裝置 與支撐結(jié)構(gòu)和基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的 一 個(gè)連接。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，它包括 具有圖案的掩模單元；包括基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單 元的光學(xué)投影單元；和支撐結(jié)構(gòu)。那組光學(xué)元件單元用來(lái)將圖案的 圖像轉(zhuǎn)印到基板上。所述光學(xué)投影單元包括至少支撐著所述光學(xué)元 件單元的第一分組的外殼單元。外殼單元按照隔振方式直接支撐在 基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供了一種捕獲在光學(xué)成像裝置的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系的方法。該方法包括提供了 一種光學(xué)成像裝置，該裝置包括具有圖案的掩模單元；包括基板的基 板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單 元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，該成 像裝置第一部件為其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，該成像裝置第二部件與成像裝置第一部件不同并且為掩模單元、光學(xué)投影單元和基板單元中的一個(gè)的部件。該方法還包括提供一 基準(zhǔn)元件，該基準(zhǔn)元件直接與成像裝置第一部件機(jī)械連接；并且使 用基準(zhǔn)元件捕獲在成像裝置第一部件和成像裝置第二部件之間的空 間關(guān)系。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供了 一種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板 上的方法。該方法包括轉(zhuǎn)印步驟，其中使用光學(xué)成像裝置將圖案 的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；在轉(zhuǎn)印步驟的捕獲步驟中，使用根據(jù)本發(fā)明 第三方面的方法捕獲在光學(xué)成像裝置的第 一 部件和第二部件之間的 空間關(guān)系；在轉(zhuǎn)印步驟的控制步驟中，根據(jù)在捕獲步驟中捕獲的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系來(lái)控制光學(xué)成像裝置的至少 一 個(gè) 部件的位置。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供了一種支撐光學(xué)投影單元的各個(gè) 部件的方法。該方法包括提供一組光學(xué)元件單元，這組光學(xué)元件 單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；提供支撐光學(xué)元件單元第一 分組的外殼單元，按照隔振方式將外殼直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，提供了 一種支撐光學(xué)投影單元的各個(gè) 部件的方法。該方法包括提供一組光學(xué)元件單元，這組光學(xué)元件 單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；通過(guò)第一支撐單元支撐著光 學(xué)元件單元第一分組，將第一光學(xué)元件單元與第一分組分開(kāi)支撐， 第 一光學(xué)元件單元按照隔振的方式受到支撐。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，它包括 具有圖案的掩模單元；包括基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單 元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基 板上；成像裝置第一部件，該成像裝置第一部件為其中一個(gè)光學(xué)元 件單元的部件；成像裝置第二部件，該成像裝置第二部件與成像裝 置第 一部件不同并且為掩模單元、光學(xué)投影單元和基板單元中的一 個(gè)的部件；以及度量裝置。度量裝置捕獲在成像裝置第一部件和成 像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。度量裝置的至少 一個(gè)度量部件結(jié)合到所述成像裝置第 一部件中。根據(jù)本發(fā)明的第九方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，它包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的基板單元；包括一組光 學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元將圖案的圖像轉(zhuǎn)印 到基板上的光學(xué)投影單元；成像裝置第一部件，該成像裝置第一部 件為光學(xué)投影單元的部件；成像裝置第二部件，該成像裝置第二部 件為掩模單元和基板單元中的一個(gè)的部件；以及包括編碼器裝置的 度量裝置。度量裝置使用所述編碼器裝置捕獲在成像裝置第一部件 和成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。編碼器裝置包括發(fā)射器、編 碼器元件和接收器。發(fā)射器通過(guò)編碼器元件將光束發(fā)射到接收器上。 編碼器元件與成像裝置第 一 部件直接機(jī)械連接。根據(jù)本發(fā)明的第十方面，提供了 一種捕獲在光學(xué)成像裝置的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系的方法。該方法包括提供光學(xué)成 像裝置，該裝置包括用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的 基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影 單元用來(lái)將圖案圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，該成 像裝置第一部件為光學(xué)投影單元的部件；成像裝置第二部件，該成 像裝置第二部件為掩模單元和基板單元中的一個(gè)的部件。該方法還 包括提供編碼器裝置，它包括直接與成像裝置第一部件機(jī)械連接 的編碼器元件；捕獲步驟，其中使用所述編碼器裝置捕獲在成像裝 置第 一部件和成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系，所述捕獲空間關(guān) 系的步驟包括通過(guò)編碼器元件接收并且評(píng)估朝著編碼器元件發(fā)射的 至少一部分光束。根據(jù)本發(fā)明的第十一方面，提供了 一種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基 板上的方法，該方法包括轉(zhuǎn)印步驟，其中使用光學(xué)成像裝置將圖 案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；在轉(zhuǎn)印步驟的捕獲步驟中，使用根據(jù)本發(fā) 明的方法捕獲在光學(xué)成像裝置的第 一 部件和第二部件之間的空間關(guān) 系；在轉(zhuǎn)印步驟的控制步驟中，根據(jù)在捕獲步驟中捕獲的在第一部 件和第二部件之間的空間關(guān)系來(lái)控制光學(xué)成像裝置的至少 一個(gè)部件的位置。根據(jù)本發(fā)明的第十二方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，該裝置包括用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收至少一個(gè)目標(biāo)器件的目 標(biāo)單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單 元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述至少 一個(gè)目標(biāo)器件上；成像裝置第 一部件，該成像裝置第一部件為其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成 像裝置第二部件，該成像裝置第二部件與成像裝置第一部件不同并 且為掩模單元、光學(xué)投影單元和目標(biāo)單元中的一個(gè)的部件；以及度 量裝置。該度量裝置捕獲在成像裝置第一部件和成像裝置第二部件 之間的空間關(guān)系。度量裝置包括基準(zhǔn)元件，該基準(zhǔn)元件直接與成像 裝置第一部件機(jī)械連接。根據(jù)本發(fā)明的第十三方面，提供了 一種捕獲在光學(xué)成像裝置的 第一部件和第二部件之間的空間關(guān)系的方法。該方法包括提供光學(xué) 成像裝置，它包括具有圖案的掩模單元；包括目標(biāo)器件的目標(biāo)單 元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用 來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述目標(biāo)器件上；成像裝置第一部件，該成 像裝置第一部件為其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部 件，該成像裝置第二部件與成像裝置第一部件不同并且為掩模單元、 光學(xué)投影單元和目標(biāo)單元中的一個(gè)的部件；提供基準(zhǔn)元件，該基準(zhǔn)元件直接與成像裝置第 一部件機(jī)械連接。該方法還包括使用所述基 準(zhǔn)元件捕獲在成像裝置第一部件和成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。根據(jù)本發(fā)明的第十四方面，提供了一種光學(xué)成像裝置，該裝置 包括用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收至少一個(gè)目標(biāo)器件的目 標(biāo)單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單 用來(lái)使用EUV范圍內(nèi)的光將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到至少 一個(gè)目標(biāo)器件上。 所迷目標(biāo)單元包括用來(lái)接收形成第一目標(biāo)器件的基板的基板單元和 用來(lái)接收形成第二目標(biāo)器件的圖像傳感器器件的圖像傳感器單元。 目標(biāo)單元用來(lái)將基板單元和圖像傳感器單元選擇性地安放到相對(duì)于光學(xué)投影單元的曝光位置中。在將基板單元安放在曝光位置中時(shí)， 將圖案的圖像投射到接收在基板單元內(nèi)的基板上。在將圖像傳感器 單元安放在曝光位置中時(shí)，將圖案圖像投射到接收在圖像傳感器單 元內(nèi)的圖像傳感器器件上。根據(jù)本發(fā)明的第十五方面，提供了 一種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到多 個(gè)目標(biāo)器件上的方法。該方法包括將形成第 一 目標(biāo)器件的基板和形 成第二目標(biāo)器件的圖像傳感器器件選擇性地安放到相對(duì)于光學(xué)投影 單元的曝光位置中。在第一轉(zhuǎn)印步驟中，在基板處于曝光位置中時(shí)，使用光學(xué)成像裝置并且使用EUV范圍內(nèi)的光將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基 板上。在第二轉(zhuǎn)印步驟中，在圖像傳感器器件處于曝光位置中時(shí)， 使用光學(xué)成像裝置并且使用EUV范圍內(nèi)的光將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到圖 像傳感器器件上。從參照附圖給出的優(yōu)選實(shí)施方式的以下說(shuō)明以及從屬權(quán)利要求 中將清楚了解本發(fā)明的其它方面和實(shí)施方式。所披露的這些特征的 所有組合不論是否在權(quán)利要求中清楚描述都落入在本發(fā)明的范圍 內(nèi)。


圖1為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的優(yōu)選實(shí)施方式的示意圖， 采用該裝置執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖2為可以用圖1的光學(xué)成像裝置執(zhí)行的根據(jù)本發(fā)明的用于將 圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的方法的優(yōu)選實(shí)施方式的方框圖；圖3為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示 意圖，采用該裝置來(lái)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖4為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的又一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示 意圖，采用該裝置來(lái)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖5為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的再一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示 意圖，采用該裝置來(lái)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖6為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示意圖，采用該裝置來(lái)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖7為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的又一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示意圖，采用該裝置來(lái)執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式；圖8為根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置的再一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式的示意圖，采的優(yōu)選實(shí)施方式；圖9A為在圖8的平面IX-IX上的示意圖，其中基板單元處于第一位置；圖9B為在圖8的平面IX-IX上的示意圖，其中基板單元處于第 二位置；圖9C為在圖8的平面IX-IX上的示意圖，其中基板單元處于第 三位置。
具體實(shí)施方式
第一實(shí)施方式下面將參照?qǐng)D1和2對(duì)根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置1的第一優(yōu) 選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明，該裝置可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí) 施方式。圖1為以在波長(zhǎng)為13nm的EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置1形式的光學(xué)成像裝置的示意性且不按比例繪制的視圖。光學(xué)曝光裝置1 包括光學(xué)投影單元2,用來(lái)將形成在掩模單元3的掩模3. 1上的圖案 的圖像轉(zhuǎn)印到基板單元4的基板4. 1上。為此，光學(xué)曝光裝置1包 括照射系統(tǒng)(未示出)，用來(lái)照射反射掩模3。光學(xué)曝光單元3接收從 掩模3. 1反射的光，并且將形成在掩模3. 1上的圖案的圖像投射到 基板4. 1例如薄片等上。為此，光學(xué)投影單元2保持著光學(xué)元件單元的光學(xué)元件單元組 5。該光學(xué)元件單元組5保持在光學(xué)投影單元2的外殼2. 1 (通常也被 稱為投影光學(xué)元件盒(P0B)2. 1)內(nèi)。光學(xué)元件單元組5包括以反射鏡 形式的許多光學(xué)元件，其中只是顯示出反射鏡6. 1、 7.1、 8.1。這些 光學(xué)元件6.1、 7.1、 8.1相對(duì)于彼此以高達(dá)六個(gè)自由度沿著光學(xué)投影單元2的軸線2. 2設(shè)置。光學(xué)投影單元2容納著在掩模3. 1和基板4. 1之間的部分光路。 其光學(xué)元件6.1、 7.1、 8.1的投射表面6.2、 7.2、 8.2協(xié)作以將形 成在掩模4上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到位于光路末端處的基板5上。掩模3. 1接收在掩模單元3的掩模臺(tái)3. 2上，掩模臺(tái)3. 2由合 適的支撐結(jié)構(gòu)(未示出)支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9上。同樣，基板4. l接收 在基板單元4的基板臺(tái)4. 2上，該基板臺(tái)4. 2同樣由合適的支撐結(jié) 構(gòu)(未示出)支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9上。通常將形成在掩模3.1上的圖案的圖像的尺寸減小，并且將其 轉(zhuǎn)印到基板4. 1的幾個(gè)目標(biāo)區(qū)域上。根據(jù)光學(xué)曝光裝置1的設(shè)計(jì)可 以按照兩種不同的方式將形成在掩模3.1上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基 板4. 1上的相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域上。如果光學(xué)曝光裝置1設(shè)計(jì)成所謂的薄 片步進(jìn)式投影曝光裝置，則通過(guò)照射形成在掩模3.1上的整個(gè)圖案 在一個(gè)步驟中將整個(gè)圖案圖像轉(zhuǎn)印到基板4. l上的相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域上。 如果光學(xué)曝光裝置1設(shè)計(jì)成所謂的步進(jìn)掃描曝光裝置，則通過(guò)在投 影光束下逐漸掃描掩模臺(tái)3.2以及因此掃描形成在掩模3.1上的圖 案同時(shí)4吏基板臺(tái)4.2以及因此使基板4.1進(jìn)行相應(yīng)的掃描運(yùn)動(dòng)，而 將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板4. 1上的相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域上。在兩種情況中，必須將光學(xué)元件單元組5的光學(xué)元件即反射鏡 6. 1、 7. 1、 8. 1相對(duì)于彼此并且相對(duì)于^r才莫3. 1以及相對(duì)于基板4. 1 的相對(duì)位置保持在預(yù)定的極限內(nèi)以獲得高質(zhì)量成像結(jié)果。在光學(xué)曝光裝置1的操作期間，反射鏡6. 1、 7. 1、 8. 1相對(duì)于 彼此以及相對(duì)于掩模3. 1和基板4. 1的相對(duì)位置由于引入到該系統(tǒng) 中的內(nèi)在以及外在千擾而發(fā)生變化。這些干擾可以是機(jī)械千擾，例 如以由于在系統(tǒng)本身內(nèi)產(chǎn)生出以及通過(guò)系統(tǒng)周?chē)Y(jié)構(gòu)例如基礎(chǔ)結(jié)構(gòu) 9引入的力而導(dǎo)致的振動(dòng)。它們也可以是熱引起的干擾例如由于系統(tǒng) 各個(gè)組成部分的熱膨脹導(dǎo)致的位置變化。為了保持反射鏡6. 1、 7. 1、 8. 1相對(duì)于彼此以及相對(duì)于掩模3. 1 和基板4.1的相對(duì)位置的上述預(yù)定極限，可以分別通過(guò)促動(dòng)器單元6. 3和7. 3將反射鏡6. 1和7. 1主動(dòng)設(shè)置在適當(dāng)位置中。同樣，可以 通過(guò)相應(yīng)的支撐結(jié)構(gòu)(在圖1中未示出)將掩模臺(tái)3.2和基板臺(tái)4.2 主動(dòng)設(shè)置在適當(dāng)位置中。根據(jù)用來(lái)捕獲光學(xué)曝光裝置1的某些部件之間的空間關(guān)系的多 個(gè)度量裝置的測(cè)量結(jié)果來(lái)進(jìn)行這些組成部分的主動(dòng)定位。自由度(DOF)為六的第一度量裝置IO捕獲在光學(xué)曝光裝置1的 成像裝置第一部件和光學(xué)曝光裝置1的與所述成像裝置第一部件不 同的成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。成像裝置第一部件為以最靠近基板4. 1的第一反射鏡8. 1形式 的第一光學(xué)元件。因此，成像裝置第一部件為光學(xué)元件單元8的部 件。成像裝置第二部件為基板臺(tái)4. 2，即基板單元4的部件。由于例 如由于緊接著在曝光過(guò)程之前進(jìn)行的測(cè)量操作而獲知了在基板臺(tái)4. 2和基板4. 1之間的空間關(guān)系，所以第一度量裝置10也能夠捕獲 在作為基板單元4的部件的基板4. 1和第一反射鏡8. 1之間的空間 關(guān)系。度量裝置IO和在這里所述的所有其它度量裝置在下面通過(guò)使用 在附圖中由虛線表示的度量光束按照非接觸方式協(xié)作。但是，應(yīng)當(dāng) 理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，同樣可以采用任意合適的 接觸式度量裝置。具體地說(shuō)，可以根據(jù)精度要求來(lái)選擇工作原理。 作為非接觸工作原理，例如可以采用干涉測(cè)量基于編碼器的電容式和感應(yīng)式工作原理等。作為接觸式工作原理，例如可以采用磁致伸 縮或電致伸縮工作原理等。第一度量裝置10至少包括與外殼2. 1連接的第一發(fā)射器和接收 器單元10. 1。度量裝置IO還包括直接與第一反射鏡8. 1即成像裝置 第一部件機(jī)械連接的第一基準(zhǔn)元件10. 2。在本發(fā)明中，術(shù)語(yǔ)"直接機(jī)械連接"應(yīng)該理解為在它們之間具 有(如果有的話)短距離的兩個(gè)組成部分之間的直接連接，從而能 夠通過(guò)測(cè)量一個(gè)部分的位置來(lái)確定另 一個(gè)部分的位置。具體地i兌， 在沒(méi)有插入其它部分的情況下，該術(shù)語(yǔ)可意味著例如由于熱或振動(dòng)作用而導(dǎo)致在位置確定中出現(xiàn)不確定性。第一基準(zhǔn)元件10. 2連接在第一反射鏡8. 1的與第一反射鏡8. 1 的第一反射表面8.2相對(duì)的背面8. 3上。根據(jù)第一度量裝置10的工 作原理，第一基準(zhǔn)元件在采用干涉測(cè)量原理時(shí)可以為反射元件(例 如反射表面或者形成有多個(gè)反射表面的元件例如所謂的三面直角棱 鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍射元件(例如光柵)。 在圖1所示的實(shí)施方式中，基準(zhǔn)元件10. 2由第一反射鏡8. 1的背面 8. 3形成。為此，根據(jù)第一度量裝置10的工作原理，至少在基準(zhǔn)元 件10. 2的區(qū)域中的第一反射鏡的背面8. 3可以作為反射表面，或者 可以顯示出為光柵，例如直接曝光到背面8. 3上的光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第一基準(zhǔn) 元件也可以為與第一反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元件。例 如，它可以為在通過(guò)剛性連接、摩擦連接、粘接連接或其任意組合 與第 一 反射鏡直接連接的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如， 可以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡 上。第一反射鏡8. 1根據(jù)光學(xué)投影單元2的光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)通 常具有大約為200-800mm的直徑，同時(shí)基板4.1通常具有大約 50-450mm的直徑。因此，在最極端的情況中，第一反射鏡8. l其直 徑為基板直徑的16倍，從而導(dǎo)致如上所述的情況，其中一開(kāi)始所提 到的普通校平系統(tǒng)不再能夠使用。本發(fā)明通過(guò)將第一基準(zhǔn)連接更準(zhǔn)確地說(shuō)結(jié)合在最接近基板4. 1 的第一反射鏡8. 1內(nèi)并且通過(guò)將第一度量裝置10的測(cè)量光束從在與 軸線2.2基本上垂直的平面中即在這里在基本上水平平面中的橫向 位置投射到第一度量裝置IO的反射器表面10. 3上來(lái)克服這個(gè)問(wèn)題。 反射器表面10. 3將測(cè)量光束引導(dǎo)到第一基準(zhǔn)元件10. 2上。反射器 表面10. 3形成在基板臺(tái)4. 2的表面上，該表面在基板臺(tái)4. 2正確對(duì) 準(zhǔn)的情況下相對(duì)于軸線2. 2傾斜45度。采用這種布置，與在第一反 射鏡8. 1和基板4. 1之間的直徑相關(guān)性無(wú)關(guān)，可以對(duì)在第一反射鏡8. 1和基板臺(tái)4. 2(并且因此基板4. l)之間沿著軸線2. 2的距離進(jìn)行 可靠的測(cè)量。應(yīng)當(dāng)理解的是，可以使用投射到反射器表面10. 3上的一條或多 條測(cè)量光束來(lái)在所有六個(gè)自由度中對(duì)在第一反射鏡8.1和基板臺(tái) 4. 2之間的相對(duì)位置進(jìn)行測(cè)量。在該情況中，例如可以結(jié)合使用干涉 測(cè)量和編碼器測(cè)量原理，從而導(dǎo)致在第一反射鏡8. 1的背面8. 3上 出現(xiàn)反射表面和光柵的組合。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其 它實(shí)施方式中，位于除了第一反射鏡的背面8. 3之外的其它位置處 的其它基準(zhǔn)元件可以用在第一度量裝置中，如在圖1中由虛線輪廓10. 4和10. 5表示的一樣。部分第一度量裝置10與第一反射鏡8. 1的連接更準(zhǔn)確地說(shuō)結(jié)合 導(dǎo)致構(gòu)建空間增大，這反過(guò)來(lái)允許將第一度量裝置IO的剩余部分尤 其是第一發(fā)射器和接收器單元10. 1直接連接在外殼2. 1上，而不用 插入大型笨重結(jié)構(gòu)例如度量框架等。因此，省去了在普通系統(tǒng)中所使用的度量框架，并且光學(xué)投影 單元2的外殼2.1結(jié)合了這種度量框架的功能，而且通過(guò)隔振裝置 11按照隔振的方式直接連接在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9上。隔振裝置11在其上部 第一端部處直接接觸位于外殼2. 1的凸緣部分2. 3，并且在其下部第 二端部處直接接觸基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9。隔振裝置11由在外殼2.1的圓周處均勻分布的多個(gè)隔振單元11. 1形成。通過(guò)基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9引入到光學(xué)投影單元2中的外部機(jī)械干 擾頻率通常為30Hz至lHz。因此，根據(jù)所期望的機(jī)械千擾頻率，隔 振單元11. 1可以為在低于所期望的機(jī)械千擾頻率至少10倍(factor 10)的諧振頻率下給外殼2. 1提供支撐的任意合適類型。通常，隔振單元11. 1的諧振頻率將在0. 01至10Hz之間選擇。 優(yōu)選的是，由隔振單元11. 1提供的支撐的諧振頻率大約為0. 1Hz或 更低。這種隔振單元11. 1可以由具有橫向漂移控制的公知所謂的磁 性重力補(bǔ)償器提供，如在WO2005/028601A2(Miihlbeyer等人)所披 露的一樣，該文獻(xiàn)的內(nèi)容在這里被引用作為參考，所述橫向漂移控制也可以根據(jù)電磁原理(例如采用音圏電機(jī))來(lái)操作，并且還可以在大約相同數(shù)量級(jí)即優(yōu)選大約為0. 1Hz或更低的諧振頻率下進(jìn)行漂移 控制。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式的情況下，針 對(duì)隔振單元可以選擇其它工作原理，例如具有彈簧裝置的純機(jī)械工 作原理或者具有適當(dāng)較低的諧振頻率的氣動(dòng)裝置。根據(jù)本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)省去普通度量裝置，這相對(duì)于現(xiàn)有光學(xué)投 影系統(tǒng)提供了許多優(yōu)點(diǎn)。一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，省卻普通度量框架在基板附近釋放出相當(dāng)大的 構(gòu)建空間。這有利于投影光學(xué)元件的設(shè)計(jì)和尺寸設(shè)定。另一個(gè)優(yōu)點(diǎn) 在于，光學(xué)投影單元自身的外殼2.1在熱穩(wěn)定性方面已經(jīng)非常穩(wěn)定 了，以便降低在容納在其中的光學(xué)元件之間的熱漂移作用。因此， 外殼2.1尤其適用于結(jié)合第一度量裝置的一部分，并且消除了為實(shí) 現(xiàn)度量框架的熱穩(wěn)定性通常所需的大量勞動(dòng)。這顯著降低了光學(xué)投 影裝置1的整體費(fèi)用。第一反射鏡8.1用作整個(gè)系統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)。因此，設(shè)有第二 度量裝置12,用來(lái)捕獲在第一反射鏡8. 1和掩模臺(tái)3. 2之間的空間 關(guān)系，以便使用在掩模臺(tái)3. 2相對(duì)于光學(xué)投影系統(tǒng)的位置調(diào)節(jié)中的 結(jié)果。第二度量裝置12包括與掩模臺(tái)3. 2連接的第二發(fā)射器和接收器 單元12. 1以及與第一反射鏡8. 1的前側(cè)表面8. 4直接機(jī)械連接的第 二基準(zhǔn)元件12.2。此外，第二度量裝置12可以在六個(gè)自由度(D0F) 中捕獲在作為光學(xué)曝光裝置1的成像裝置第一部件的第一反射鏡 8. 1和作為光學(xué)曝光裝置1的成像裝置第二部件的掩模臺(tái)3. 2之間的 空間關(guān)系。第二基準(zhǔn)元件12. 2與第一反射鏡8. 1的前側(cè)表面8. 3連接，它 也形成第一反射鏡8. 1的第一反射表面8. 2。根據(jù)第二度量裝置12 的工作原理，第二基準(zhǔn)元件在采用干涉測(cè)量原理時(shí)為反射元件(例 如反射表面或提供有多個(gè)反射表面的元件例如所謂的三面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍射元件(例如光柵)。在圖1中所示的實(shí)施方式中，第一反射鏡8. 1的前側(cè)表面8.4 根據(jù)第二度量裝置12的工作原理至少在第二基準(zhǔn)元件12.2的區(qū)域 中可以用作反射表面，或者可以表現(xiàn)為光柵，例如直接暴光到前側(cè) 表面8. 4上的光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第二基準(zhǔn) 元件也可以是與第一反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元件。例 如，它可以是在通過(guò)剛性連接、摩擦連接或其任意組合直接連接在 第一反射鏡上的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如，可以用螺 釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡上。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明其它實(shí)施方式中，如從 EP1182509A2中所知的一才羊并且如在圖1中由虛線4侖廓12. 3所示的 一樣，第二度量裝置12可以由普通度量裝置代替。另外，第二度量裝置12可以由如在圖1中由虛線輪廓12. 4所 示一樣的度量裝置代替。采用這種第二度量裝置，將發(fā)射器和接收 器單元連接在掩模臺(tái)3. 2上，并且將第二基準(zhǔn)元件直接機(jī)械連接在 外殼2. 1上。最后，提供第三度量裝置13，用來(lái)捕獲在第一反射鏡8. 1與其 它反射鏡6.1和7.1之間的空間關(guān)系，以便使用在其它反射鏡6.1 和7. 1相對(duì)于第一反射鏡8. 1的位置調(diào)節(jié)的結(jié)果。第三度量裝置13包括與外殼2. 1連接的第三發(fā)射器和接收器單 元13. 1以及分別與反射鏡8. 1、 6. 1和7. 1的表面直接機(jī)械連接的 第三基準(zhǔn)元件13. 2、 13.3、 13.4。此外，第三度量裝置H可以在六 個(gè)自由度(D0F)中捕獲在作為光學(xué)曝光裝置1的成像裝置第一部件的 第一反射鏡8.1和作為光學(xué)曝光裝置1的成像裝置第二部件的相應(yīng) 反射鏡6. 1和7. 1之間的空間關(guān)系。第三基準(zhǔn)元件13. 2、 13.3、 13. 4根據(jù)第三度量裝置l3的工作 原理在采用干涉測(cè)量原理時(shí)為反射元件(例如的反射表面或提供有 多個(gè)反射表面的元件例如所謂的三面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍射元件(例如光柵)。在圖1中所示的實(shí)施方式中，形成第三基準(zhǔn)元件的反射鏡8. 1、 6. 1和7. 1的相應(yīng)表面根據(jù) 第三度量裝置13的工作原理至少在相應(yīng)第三基準(zhǔn)元件13. 2、 13. 3、 13. 4的區(qū)域中可以用作反射表面或者可以表現(xiàn)為光柵例如2D光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，相應(yīng)的第 三基準(zhǔn)元件也可以為與相應(yīng)反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元 件。例如，它可以是在通過(guò)剛性連接、摩擦連接或其任意組合直接 連接在第一反射鏡上的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如，可 以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡上。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，相應(yīng)度量裝置的相應(yīng)測(cè)量光束不必具有 如圖1所示的筆直光路。而是，根據(jù)光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，可以設(shè)置適 當(dāng)?shù)墓馐刂乒鈱W(xué)元件來(lái)按照規(guī)定的方式在曲折光路上引導(dǎo)相應(yīng)的 測(cè)量光束。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第三度量 裝置13可以由如在圖1中由虛線輪廓13. 5所示的單獨(dú)度量裝置代 替，用來(lái)單獨(dú)捕獲在第 一反射鏡和相應(yīng)其它反射鏡之間的空間關(guān)系。采用如上所述的第一實(shí)施方式，第一至第三基準(zhǔn)元件10. 2、 12. 2、 13. 2、 13. 3、 13. 4已經(jīng)直接設(shè)在相應(yīng)的光學(xué)元件即反射鏡6. 1、 7.1、 8.1上。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中， 相應(yīng)的基準(zhǔn)元件也可以與相應(yīng)光學(xué)元件的其它部件連接，從而允許 正確評(píng)估相應(yīng)光學(xué)元件的空間位置。例如，相應(yīng)的基準(zhǔn)元件也可以 與光學(xué)元件安裝件連接，該安裝件保持著相應(yīng)的光學(xué)元件并且與相 應(yīng)的光學(xué)元件一起移動(dòng)。上述度量系統(tǒng)10、 12、 13可以被構(gòu)造成使它們測(cè)量在反射鏡 8. 1、基板臺(tái)4. 1、掩模臺(tái)3. 1以及反射鏡6. 1和7. 1之間的直接空 間關(guān)系。可替代地，也可以通過(guò)測(cè)量所述單獨(dú)元件相對(duì)于穩(wěn)定基準(zhǔn) 結(jié)構(gòu)(例如結(jié)構(gòu)2. 1)的位置來(lái)間接進(jìn)行空間測(cè)量，從中可以通過(guò)矢量 加法來(lái)確定在所述元件中的任意兩個(gè)之間的直接空間關(guān)系。采用圖1的光學(xué)曝光裝置1,如在下面參照?qǐng)D1和2所述的一樣可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的方法的優(yōu)選實(shí) 施方式。在該方法的轉(zhuǎn)印步驟14中，使用光學(xué)成像裝置1的光學(xué)投影單 元2將形成在掩模3. 1上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板4. 1上。為此，在所述轉(zhuǎn)印步驟14的捕獲步驟14.1中，采用根據(jù)本發(fā) 明的用于捕獲在光學(xué)成像裝置1的第一部件和第二部件之間的空間 關(guān)系的方法的優(yōu)選實(shí)施方式來(lái)捕獲在作為光學(xué)成像裝置1的第一部 件的第一反射鏡8. 1與每個(gè)都形成光學(xué)成像裝置1的第二部件的基 板臺(tái)4. 2、掩模臺(tái)3. 2和其它反射鏡6. 1和7. 1之間的空間關(guān)系。在轉(zhuǎn)印步驟的控制步驟14. 2中，可以根據(jù)在前面捕獲步驟14. 1 中捕獲的空間關(guān)系來(lái)控制基板臺(tái)4. 2、掩模臺(tái)3. 2和其它反射鏡6. 1 和7. 1相對(duì)于第一反射鏡8. 1的位置。在曝光步驟14. 3中，緊接著 在控制步驟14. 2之后或者最后與之同步，使用光學(xué)成像裝置1將形 成在掩模3. 1上的圖案的圖像曝光到基板4. 1上。在捕獲步驟14. 1的步驟14. 4中，將具有掩模3. 1的掩模單元3 和具有基板4.1的基板單元4設(shè)置和定位在空間中。應(yīng)當(dāng)理解的是， 在實(shí)際位置捕獲之前的晚些時(shí)刻或者在曝光步驟l4. 3之前的甚至更 晚的時(shí)刻，也可以將掩模3. 1和基板4. 1插入到掩模單元3和基板 單元4中。在捕獲步驟14. 1的步驟14. 5中，光學(xué)投影單元2的部件根據(jù)本發(fā)明支撐光學(xué)投影單元的部件的方法的優(yōu)選實(shí)施方式設(shè)置并且支 撐。為此，在步驟14. 6中，將光學(xué)投影單元2的光學(xué)元件單元6、 7、 8設(shè)置在光學(xué)投影單元2的外殼2. 1內(nèi)。在步驟14. 7中，具有光學(xué) 元件單元6、 7、 8的外殼2. 1按照隔振方式支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)9上以 提供如上面在圖l的內(nèi)容中所述的結(jié)構(gòu)。在捕獲步驟14. 1的步驟14. 8中，第一至第三度量裝置10、 12、 13設(shè)置成提供如在上面在圖1的內(nèi)容中所述的結(jié)構(gòu)。應(yīng)當(dāng)理解的是， 第一至第三基準(zhǔn)元件10. 2、 12.2、 13.2、 13.3、 13. 4已經(jīng)在更早的 時(shí)刻與其上形成它們的相應(yīng)反射鏡6. 1、 7.1、 8.1—起設(shè)置。但是，37在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第一至第三基準(zhǔn)元件可以在實(shí)際位置 捕獲之前的晚些時(shí)刻與第一至第三度量裝置的其它部件一起設(shè)置。然后在捕獲步驟14.1的步驟14.9中，捕獲在作為光學(xué)成像裝 置1的第一部件的第一反射鏡8. 1和每個(gè)都形成光學(xué)成像裝置1的 第二部件的基板臺(tái)4. 2、掩模臺(tái)3. 2和其它反射鏡6. 1和7. 1之間的 實(shí)際空間關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解的是，在整個(gè)曝光過(guò)程中可以連續(xù)捕獲在作為光學(xué)成 像裝置1的第一部件的第一反射鏡8. 1和每個(gè)都形成光學(xué)成像裝置1 的第二部件的基板臺(tái)4. 2、掩模臺(tái)3. 2和其它反射鏡6. 1和7. 1之間 的實(shí)際空間關(guān)系。然后在步驟14.9中，提取和使用該連續(xù)捕獲過(guò)程 的最新結(jié)果。如上所述，在控制步驟14.2中，然后根據(jù)在前面捕獲的該空間 關(guān)系控制基板臺(tái)4. 2、掩模臺(tái)3. 2和其它反射鏡6. 1和7. 1相對(duì)于第 一反射鏡8. l的位置，然后在曝光步驟14. 3中，將形成在掩模3. 1 上的圖案的圖像曝光到基板4. 1上。第二實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D3對(duì)可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方 式的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置101的第二優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖3為按照以13nm的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置 101的形式的光學(xué)成像裝置的示意性并且不是按比例繪制的示意圖。 該光學(xué)曝光裝置101包括用來(lái)將形成在掩模單元103的掩模103.1 上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板單元104的基板104. 1上的光學(xué)投影單 元102。為此，光學(xué)曝光裝置101包括未示出的照明系統(tǒng)，用來(lái)照明 反射掩模103。光學(xué)曝光單元103接收從掩模103. 1反射的光，并且 將形成在掩模103. 1上的圖案的圖像投射到基板l(H. 1例如薄片等 上。圖3的實(shí)施方式在其設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖1的實(shí) 施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖3中，已經(jīng)給類似或相同部分賦予增加100的相同參考標(biāo)號(hào)。因此，這里主要參照上面給出的說(shuō)明，并且首先將只對(duì)差別進(jìn)行說(shuō)明。相對(duì)于第一實(shí)施方式的主要差別在于，最靠近基板104.1的第 一反射鏡108. 1沒(méi)有位于光學(xué)投影單元102的外殼102. 1內(nèi)，所迷 外殼通常也被稱為投影光學(xué)盒(P0B)102. 1。相反，第一反射鏡108. 1 通過(guò)以大約300Hz的諧振頻率為第一反射鏡108. 1提供支撐的基本 上剛性的安裝裝置115懸桂在外殼102. 1的下部上。除了省去普通度量框架之外，該實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)在于，由于第 一反射鏡108. 1基本上剛性懸桂在外殼102. 1外面，所以在第一反 射鏡108. 1的區(qū)域中可獲得構(gòu)建空間，因?yàn)樵诘谝环瓷溏R108. 1的 周?chē)鷽](méi)有任何外殼元件。因此，安裝在外殼102.1上的第一度量裝 置110的部件可以更靠近第一反射鏡108. 1設(shè)置，從而改善了這些 部件的動(dòng)態(tài)性能。應(yīng)當(dāng)理解的是，同樣在該實(shí)施方式中，根據(jù)本發(fā)明的這些方法 如上面參照?qǐng)D2所述一樣同樣可以執(zhí)行。因此，在這方面，這里只 是參照上面的說(shuō)明。第三實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D4對(duì)可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方 式的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置201的第三優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖4的實(shí)施方式在其設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖1的實(shí) 施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖4中，已經(jīng)給類似或相同部分賦予增 加200的相同參考標(biāo)號(hào)。因此，這里主要參照上面給出的說(shuō)明，并且首先將只對(duì)差別進(jìn)行說(shuō)明。圖4為按照以13nm的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置201的形式的光學(xué)成像裝置的示意性并且不是按比例繪制的示意圖。 該光學(xué)曝光裝置201包括用來(lái)將形成在掩模單元203的掩模203. 1 上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板單元204的基板2(Rl上的光學(xué)投影單 元202。為此，光學(xué)曝光裝置201包括未示出的照明系統(tǒng)，用來(lái)照明 反射掩模203。光學(xué)曝光單元203接收從掩模203. 1反射的光，并且將形成在掩模203. 1上的圖案的圖像投射到基板204. 1例如薄片等 上。為此，光學(xué)投影單元202保持著光學(xué)元件單元的光學(xué)元件單元 組205。光學(xué)元件單元組205包括許多以反射鏡形式的光學(xué)元件，其 中只是顯示出反射鏡206. 1 、 207.1 、 208.1。這些光學(xué)元件208沿著 光學(xué)投影單元202的軸線202. 2相對(duì)于彼此設(shè)置。光學(xué)元件206. 1 、 207.1 、 208. 1的投射表面206. 2、 207.2 、 208. 2協(xié)作以將形成掩模 204上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板205上。為了保持反射鏡206.1 、 2 07.1 、 208.1相對(duì)于彼此以及相對(duì)于 掩模203. 1和基板204. 1的相對(duì)位置的預(yù)定極限，可以分別通過(guò)促 動(dòng)器單元206. 3和207. 3將反射鏡206. 1和207. 1主動(dòng)設(shè)置在空間 (6D0F)中。同樣，可以通過(guò)相應(yīng)的支撐結(jié)構(gòu)(在圖4中未示出)將掩 模臺(tái)203. 2和基板臺(tái)204. 2主動(dòng)設(shè)置在空間(6 DOF)中。根據(jù)用來(lái)捕 獲(在6 DOF中)在光學(xué)曝光裝置201的這些部件之間的空間關(guān)系的 第一至第三度量裝置210、 212和213的測(cè)量結(jié)構(gòu)來(lái)進(jìn)行這些部分的 主動(dòng)定位。相對(duì)于第一實(shí)施方式的其中一個(gè)差異在于，最靠近基板204.1 的第一反射鏡208. 1沒(méi)有位于光學(xué)投影單元202的外殼202. 1內(nèi)。 相反，通過(guò)以大約300Hz或更高的諧振頻率給第一反射鏡208. 1提 供支撐的基本上剛性的裝置215將第一反射鏡208.1懸掛在外殼 202. 1的下部上。如已經(jīng)在該第二實(shí)施方式的內(nèi)容中所述一樣，除了省去普通度 量框架之外，該實(shí)施方式的優(yōu)點(diǎn)在于，由于第一反射鏡208. 1基本 上剛性懸掛在外殼202. 1外面，所以在第一反射鏡208. 1的區(qū)域中 可獲得構(gòu)建空間，因?yàn)樵诘谝环瓷溏R208. 1的周?chē)鷽](méi)有任何外殼元 件。因此，安裝在外殼202. 1上的第一度量裝置210的部件可以更 靠近第一反射鏡208. 1設(shè)置，從而改善了這些部件的動(dòng)態(tài)性能。相對(duì)于第一實(shí)施方式的另一個(gè)差別在于，光學(xué)元件單元組205 的其它反射鏡206. 1和207. 1容納在外殼202. 1內(nèi)，但是由在這里也被稱為加強(qiáng)框架216的支撐結(jié)構(gòu)216單獨(dú)支撐。支撐結(jié)構(gòu)216直 接支撐在基礎(chǔ)機(jī)構(gòu)209上。第三實(shí)施方式在該系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)性能方面具有優(yōu)點(diǎn)。 一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在 于，外殼202.1只是動(dòng)態(tài)連接在被動(dòng)而不是主動(dòng)的部分例如第一反 射鏡208. 1上。因此，外殼202. 1沒(méi)有由于在反射鏡206. 1和207. 1 上的位置調(diào)節(jié)作用等造成的動(dòng)態(tài)內(nèi)在負(fù)載或干擾。因此，承載著第 一、第二和第三度量裝置210、 212和213的各個(gè)部分的在這里也被 稱為傳感器框架的外殼202. 1沒(méi)有由于分別在反射鏡206. l和207. 1 上的這些位置調(diào)節(jié)作用而導(dǎo)致的高頻干擾，由此形成改進(jìn)的測(cè)量結(jié) 果并且需要較少的努力來(lái)實(shí)現(xiàn)這樣的結(jié)果。應(yīng)當(dāng)理解的是，必須通過(guò)由反射鏡單元206和207的促動(dòng)器單 元206. 3和207. 3進(jìn)行相應(yīng)的反作用位置調(diào)節(jié)來(lái)應(yīng)對(duì)引入到加強(qiáng)框 架216中的機(jī)械干擾。但是，為了降低引入到加強(qiáng)框架216中的這 些機(jī)械干擾，加強(qiáng)框架216自身可以由相應(yīng)的隔振裝置支撐在基礎(chǔ) 結(jié)構(gòu)209上。這種隔振裝置可以按照與選擇用于將傳感器框架202. 1 直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)209上的其中一個(gè)隔振裝置211相當(dāng)?shù)闹C振頻 率支撐加強(qiáng)框架216。加強(qiáng)框架216的隔振裝置的諧振頻率可以選擇 為大約30Hz或更小。與第一和第二實(shí)施方式一樣，第一反射鏡208.1用作在整個(gè)系統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)。因此，在與第一和第二實(shí)施方式相同的設(shè)計(jì)中， 它結(jié)合有第一至第三度量裝置210、 212和213的第一至第三基準(zhǔn) 210. 3、 212. 3和213, 3。應(yīng)當(dāng)理解的是，同樣在該實(shí)施方式中，根據(jù)本發(fā)明的這些方法 如上面參照?qǐng)D2所述一樣同樣可以#1行。因此，在這方面，這里只 是參照上面的說(shuō)明。第四實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D5可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式 的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置301的第四優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖5的實(shí)施方式在其主要設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖1 的實(shí)施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖5中，已經(jīng)給類似或相同部分賦 予增加300的相同參考標(biāo)號(hào)。因此，這里主要參照上面給出的說(shuō)明， 并且首先將只對(duì)差別進(jìn)行說(shuō)明。圖5為按照以13nm的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置 301的形式的光學(xué)成像裝置的示意性并且不是按比例繪制的示意圖。 該光學(xué)曝光裝置301包括用來(lái)將形成在掩模單元303的掩模303.1 上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板單元304的基板304.1上的光學(xué)投影單 元302。為此，光學(xué)曝光裝置301包括未示出的照明系統(tǒng)，用來(lái)照明 反射掩模303。光學(xué)曝光單元303接收從掩模303. 1反射的光，并且 將形成在掩模303. 1上的圖案的圖像投射到基板304. 1例如薄片等 上。為此，光學(xué)投影單元302保持著光學(xué)元件單元的光學(xué)元件單元 組305。光學(xué)元件單元組305包括許多以反射鏡形式的光學(xué)元件，其 中只是顯示出反射鏡306. 1、 307. 1 、 308, 1。這些光學(xué)元件308沿著 光學(xué)投影單元302的軸線302. 2相對(duì)于彼此設(shè)置。光學(xué)元件306. 1 、 307.1 、 308.1的投射表面306.2、 307.2、 308. 2協(xié)作以將形成掩模 304上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板305上。光學(xué)元件單元組305包括第一分組305. 1和第二分組305. 2。第 一分組305. 1保持在通常被稱為投影光學(xué)元件盒(POB) 302. 1的光學(xué) 元件單元302的外殼302. 1內(nèi)。這些反射鏡306. 1 、 3(H. 1形成部分 第一分組305. 1,同時(shí)反射鏡308. 1形成部分第二分組305. 2。為了保持反射鏡306. 1 、 307.1 、 308. 1相對(duì)于彼此以及相對(duì)于 掩模303.1和基板304.1的相對(duì)位置的預(yù)定極限，可以分別通過(guò)促 動(dòng)器單元306. 3和307. 3將反射鏡306. 1和307. 1主動(dòng)設(shè)置在空間 (6D0F)中。同樣，可以通過(guò)相應(yīng)的支撐結(jié)構(gòu)(在圖5中未示出)將掩 模臺(tái)303. 2和基板臺(tái)304. 2主動(dòng)設(shè)置在空間(6 DOF)中。根據(jù)用來(lái)捕 獲(在6 DOF中)在光學(xué)曝光裝置301的這些部件之間的空間關(guān)系的 第一至第三度量裝置310、 和313的測(cè)量結(jié)構(gòu)來(lái)進(jìn)行這些部分的相對(duì)于第一實(shí)施方式的其中一個(gè)差異在于，第一度量裝置310 包括兩個(gè)與基板臺(tái)304. 2連接的第一發(fā)射器和接收器單元310. 3和 310. 6。第一度量裝置310還包括兩個(gè)第一基準(zhǔn)元件310. 2和310. 7, 它們直接與第一反射鏡308.1機(jī)械連接，即與成像裝置第一部件直 接機(jī)械連接。第一基準(zhǔn)元件310. 2、 310. 7中的每一個(gè)與第一反射鏡308. 1的 與第一反射鏡308. 1的第一反射表面308. 2相對(duì)的背面308. 3連接。 根據(jù)第一度量裝置310的工作原理，第一基準(zhǔn)元件在采用干涉測(cè)量 原理時(shí)可以為反射元件(例如反射表面或提供多個(gè)反射表面的元件 例如所謂的三面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍 射元件(例如光柵)。在圖5中所示的實(shí)施方式中，基準(zhǔn)元件310.2 由第一反射鏡308. 1的背面308. 3形成。為此，根據(jù)第一度量裝置 310的工作原理，第一反射鏡的背面308.3至少在基準(zhǔn)元件310.2背面308. 3上的光柵。但是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第一基準(zhǔn)元件中的一個(gè)或 每一個(gè)也可以是與第一反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元件。 例如，它可以為在通過(guò)剛性連接、摩擦連接、粘接連接或其任意組 合直接連接在第一反射鏡上的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例 如，可以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反 射鏡上。應(yīng)當(dāng)理解的是，可以使用由第一發(fā)射器和接收器單元31CK1和 310.6中的每一個(gè)提供的一條或多條測(cè)量光束在在所有六個(gè)自由度 中對(duì)第一反射鏡308.1和基板臺(tái)304.2之間的相對(duì)位置進(jìn)行測(cè)量。 例如，在該情況中，可以結(jié)合干涉測(cè)量和編碼器原理，從而導(dǎo)致在 第一反射鏡308. 1的背面308. 3上出現(xiàn)反射表面和光柵的組合。但 是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，在第一度量裝置 中可以使用位于除了第一反射鏡的背面308.3之外的其它位置處的其它基準(zhǔn)元件。相對(duì)于第一實(shí)施方式的另一個(gè)差別在于，最靠近基板304.1的 第一反射鏡308.1沒(méi)有位于光學(xué)投影單元302的外殼302.1內(nèi)。相 反，形成第二分組305.2的第一反射鏡通過(guò)第二隔振裝置317按照 隔振方式懸掛在外殼302.1的下部上。第二隔振裝置317在其上部 第一端部處直接接觸著外殼302. 1 。第二隔振裝置317在其下部第二 端部處直接接觸著第一反射鏡308. 1 。相應(yīng)的第一和第二隔振裝置311和317由分別均勻分布在外殼 302.1和第一反射鏡308.1的周?chē)幍亩鄠€(gè)第一和第二隔振單元 311.1和317.1形成。通過(guò)基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)309引入到光學(xué)投影單元302 中的外部機(jī)械干擾通常在30Hz-1Hz的范圍內(nèi)。因此，根據(jù)所期望的 機(jī)械干擾頻率，第一和第二隔振單元311. 1和317. 1可以為任意合 適類型，用來(lái)分別在至少低于所期望的機(jī)械干擾頻率IO倍的諧振頻 率下給外殼302. 1和第一反射鏡308. 1提供支撐。通常，第一和第二隔振單元311.1和317.1的諧振頻率將在 0. 01-10Hz之間選擇。優(yōu)選的是，由第一和第二隔振單元311.1和 317.1提供的支撐的諧振頻率大約為0. 1Hz或更小。這種隔振單元 311.1和317.1分別可以由具有橫向漂移控制的公知所謂的磁性重 力補(bǔ)償器提供，所述橫向漂移控制也可以根據(jù)電磁原理(例如采用音 圏電機(jī))來(lái)操作，并且還可以在大約相同數(shù)量級(jí)即優(yōu)選大約為G. 1Hz 或更低的諧振頻率下進(jìn)行漂移控制。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式的情況下，針 對(duì)隔振單元可以選擇其它工作原理，例如具有彈簧裝置的純機(jī)械工 作原理或者具有適當(dāng)較低的諧振頻率的氣動(dòng)裝置。如在第二實(shí)施方式所述一樣，除了省去普通度量框架之外，該 實(shí)施方式其優(yōu)點(diǎn)還在于，由于第一反射鏡308.1基本上剛性懸掛在 外殼302. 1外面，所以構(gòu)建空間在第一反射鏡308. 1的區(qū)域中變得 可用，因?yàn)樵诘谝环瓷溏R308. 1的周?chē)鷽](méi)有任何外殼元件。該實(shí)施方式的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是由于第一反射鏡308.1的單獨(dú)隔振支撐而獲得的。第一反射鏡308. 1根據(jù)光學(xué)投影單元302的光學(xué)系 統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)通常具有大約為200至800mm的直徑。在第一反射鏡 308.1構(gòu)成為由合適材料例如微晶玻璃Zerodur等形成的實(shí)體的情 況下，第一反射鏡308. 1具有相當(dāng)大的質(zhì)量，這通常高達(dá)60kg甚至 更重。第一反射鏡308. 1的材料例如Zerodur等可以具有較低的熱 膨脹系數(shù)(CTE),因此受熱穩(wěn)定。如所述一樣，第一反射鏡308.1具有較大質(zhì)量，可以由耐熱材 料制成，不會(huì)主動(dòng)促動(dòng)(如將在下面詳細(xì)所述一樣)，可以只是結(jié)合 或保持其中所使用的度量裝置的被動(dòng)部件。因此，第一反射鏡308. 1 自身在熱方面以及動(dòng)態(tài)上是該系統(tǒng)的非常穩(wěn)定的部件。采用單獨(dú)隔 振懸掛，第一反射鏡308. 1從由外殼302. 1保持的那部分光學(xué)投影 單元302動(dòng)態(tài)斷開(kāi)，因此相對(duì)于外部干擾也是穩(wěn)定的。因此，它優(yōu) 選適合用作根據(jù)本發(fā)明該實(shí)施方式給出的整個(gè)系統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)。 在動(dòng)態(tài)上，第一反射鏡308. 1通過(guò)兩個(gè)隔振系統(tǒng)311. 1和317. 1按 照級(jí)聯(lián)的方式與基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)串聯(lián)連接，這種布置尤其相對(duì)于基礎(chǔ)干擾 提供了額外的隔離性能。根據(jù)將第一反射鏡308.1設(shè)置作為在整個(gè)系統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)的 這個(gè)概念，在與第一和第二實(shí)施方式相同的設(shè)計(jì)中，第一反射鏡 308. 1分別保持并且接合著第一至第三度量裝置310、 3U和313的 第一至第三基準(zhǔn)310. 3、 312. 3和313. 3。還有，應(yīng)當(dāng)理解的是，同樣在該實(shí)施方式中，根據(jù)本發(fā)明的這 些方法如上面參照?qǐng)D2所述一樣同樣可以^^行。因此，在這方面， 這里只是參照上面的說(shuō)明。此外，應(yīng)當(dāng)理解，4艮據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施方式，光學(xué)元件單元 的第二分組305.2可以包括于第一光學(xué)元件(這里是第一反射鏡 308. 1 )經(jīng)由第二隔振裝置317 —起保持的其他光學(xué)元件單元。為此， 該第二分組可以由第二殼體結(jié)構(gòu)等接收，該第二殼體結(jié)構(gòu)等經(jīng)由第 二隔振裝置317直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)309上。45第五實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D6可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式 的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置401的第五優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖6的實(shí)施方式在其主要設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖1 的實(shí)施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖6中，已經(jīng)給類似或相同部分賦 予增加400的相同參考標(biāo)號(hào)。圖6為按照以13nm的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置 4 01的形式的光學(xué)成像裝置的示意性并且不是按比例繪制的示意圖。 該光學(xué)曝光裝置401包括用來(lái)將形成在掩模單元403的掩模403. 1 上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板單元404的基板404. 1上的光學(xué)投影單 元402。為此，光學(xué)曝光裝置401包括未示出的照明系統(tǒng)，用來(lái)照明 反射掩模403. 1。光學(xué)曝光單元403接收從掩模403. 1反射的光，并 且將形成在掩模403. 1上的圖案的圖像投射到基板304. 1例如薄片 等上。為此，光學(xué)投影單元402保持著光學(xué)元件單元的光學(xué)元件單元 組405。光學(xué)元件單元組405包括第一分組405. 1和第二分組"5. 2。 第一分組405. 1保持在通常被稱為投影光學(xué)元件盒(POB) 402. 1的光 學(xué)元件單元402的外殼402. 1內(nèi)。光學(xué)元件單元組405包括許多以反射鏡形式的光學(xué)元件，其中 只是顯示出反射鏡406. 1 、 407.1 、 408.1。這些光學(xué)元件408沿著光 學(xué)投影單元402的軸線402. 2相對(duì)于彼此設(shè)置。這些反射鏡4。6. 1、 407. 1形成部分第一分組405. 1，同時(shí)反射鏡408. 1形成部分第二分 組405. 2。光學(xué)投影單元402接收了在掩模403. 1和基板4(M. 1之間的部 分光路。光學(xué)元件406.1 、 407.1 、 408. 1的投射表面406. 2、 407.2、 408.2協(xié)作以將形成掩模404上的圖案的圖像轉(zhuǎn)印到位于光路末端 處的基板405上。掩模403.1容納在掩模單元403的掩模臺(tái)403.2上，掩模臺(tái) 403. 2由未示出的合適支撐結(jié)構(gòu)支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409上。同樣，基板404. 1容納在基板單元404的基板臺(tái)404. 2上，基板臺(tái)404. 2同樣由 未示出的合適支撐結(jié)構(gòu)支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409上。
通常減小形成在掩模403.1上的圖案圖像的尺寸，并且將它轉(zhuǎn) 印到基板404. 1的幾個(gè)目標(biāo)區(qū)域上。形成在掩模403. 1上的圖案圖 像可以根據(jù)光學(xué)曝光裝置401的設(shè)計(jì)按照兩種不同的方式轉(zhuǎn)印到基 板404. 1上的相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域上。如果光學(xué)曝光裝置401設(shè)計(jì)成所謂 的薄片步進(jìn)式投影裝置，則通過(guò)照射形成在掩模403.1上的整個(gè)圖 案在一個(gè)單步驟中將圖案的整個(gè)圖像轉(zhuǎn)印到相應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域上。如 果光學(xué)曝光裝置401設(shè)計(jì)成所謂的步進(jìn)掃描裝置，則通過(guò)在投影光 束下步進(jìn)地掃描掩模臺(tái)403. 2并且因此掃描形成在掩模403. 1上的 圖案同時(shí)使基板臺(tái)404. 2以及因此基板404. 1進(jìn)行相應(yīng)的掃描運(yùn)動(dòng)， 從而將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板404. 1上的相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域上。
在兩種情況中，必須將光學(xué)元件單元組405的光學(xué)元件即反射 鏡406. 1 、 407. 1 、 408. 1相對(duì)于彼此以及相對(duì)于掩才莫403. 1和相對(duì) 于基板404.1的相對(duì)位置保持在預(yù)定極限范圍內(nèi)，以獲得高質(zhì)量成 像結(jié)果。
在光學(xué)曝光裝置401的操作期間，反射鏡406.1 、 407. 1 、 408.1 相對(duì)于彼此以及相對(duì)于掩模403. 1和相對(duì)于基板404. 1的相對(duì)位置 由于引入到該系統(tǒng)中的內(nèi)在以及外在千擾而發(fā)生變化。這些干擾可 以是機(jī)械干擾，例如以由于在系統(tǒng)本身內(nèi)產(chǎn)生出以及通過(guò)系統(tǒng)周?chē)?結(jié)構(gòu)例如基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409引入的力而導(dǎo)致的振動(dòng)。它們也可以是熱引 起的干擾例如由于系統(tǒng)各個(gè)組成部分的熱膨脹導(dǎo)致的位置變化。
為了保持反射鏡406. 1 、 407.1 、 408. 1相對(duì)于彼此以及相對(duì)于 掩模403. 1和基板404. 1的相對(duì)位置的上述預(yù)定極限，可以分別通 過(guò)促動(dòng)器406. 3和407. 3將反射鏡406. 1和407. 1主動(dòng)設(shè)置在適當(dāng) 位置中。同樣，可以通過(guò)相應(yīng)的支撐結(jié)構(gòu)(在圖6中未示出)將掩模 臺(tái)403. 2和基板臺(tái)404. 2主動(dòng)設(shè)置在適當(dāng)位置中。
根據(jù)用來(lái)捕獲在光學(xué)曝光裝置401的某些部件之間的空間關(guān)系 的多個(gè)度量裝置的測(cè)量結(jié)果來(lái)進(jìn)行這些組成部分的主動(dòng)定位。自由度(DOF)為六的第一度量裝置410捕獲在光學(xué)曝光裝置401 的成像裝置第一部件和光學(xué)曝光裝置401的與所述成像裝置第一部 件不同的成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系。
成像裝置第一部件為以最靠近基板404.1的第一反射鏡408.1 形式的第一光學(xué)元件。因此，成像裝置第一部件為光學(xué)元件單元8 的部件。成像裝置第二部件為基板臺(tái)404. 2，即基板單元404的部件。 由于例如由于緊接著在曝光過(guò)程之前進(jìn)行的測(cè)量操作而得知了在基 板臺(tái)404. 2和基板404. 1之間的空間關(guān)系，所以第一度量裝置410 也能夠捕獲在作為基板單元404的部件的基板404. 1和第一反射鏡 408. 1之間的空間關(guān)系。
第一度量裝置410包括與基板臺(tái)404.2連接的第一發(fā)射器和接 收器單元410. 1和410. 6。度量裝置410還包括直接與第一反射鏡 408.1即成像裝置第一部件機(jī)械連接的兩個(gè)第一基準(zhǔn)元件410.2和 410, 7。
第一基準(zhǔn)元件410. 2、 410. 7中的每一個(gè)與第一反射鏡408. 1與 第一反射鏡408. 1的第一反射表面408. 2相反的背面408. 3連接。 根據(jù)第一度量裝置410的工作原理，第一基準(zhǔn)元件在采用干涉測(cè)量 原理時(shí)可以為反射元件(例如反射表面或者形成有多個(gè)反射表面的 元件例如所謂的三面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以 為衍射元件(例如光柵)。在圖6所示的實(shí)施方式中，基準(zhǔn)元件410. 2 由第一反射鏡408. 1的背面408. 3形成。為此，根據(jù)第一度量裝置 410的工作原理，至少在基準(zhǔn)元件410. 2的區(qū)域中的第一反射鏡的背 面408. 3可以作為反射表面，或者可以顯示出為光柵，例如直接曝 光到背面4 08. 3上的光柵。
但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第一基準(zhǔn) 元件中的一個(gè)或者每個(gè)也可以為與第一反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī) 械連接的元件。例如，它可以為在通過(guò)剛性連接、摩擦連接、粘接 連接或其任意組合與第一反射鏡直接連接的單獨(dú)部分上的反射表面
或光柵等。例如，可以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡上。
應(yīng)當(dāng)理解的是，可以使用由第一發(fā)射器和接收器單元410.1和
410. 6中的每一個(gè)所提供的一條或多條測(cè)量光束來(lái)在所有六個(gè)自由 度中對(duì)在第一反射鏡408. 1和基板臺(tái)404. 2之間的相對(duì)位置進(jìn)行測(cè) 量。在該情況中，例如可以結(jié)合使用干涉測(cè)量和編碼器測(cè)量原理， 從而導(dǎo)致在第一反射鏡408. 1的背面408. 3上出現(xiàn)反射表面和光柵 的組合。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，采用本發(fā)明的其它實(shí)施方式，位于 除了第一反射鏡的背面408.3之外的其它位置處的其它基準(zhǔn)元件可 以用在第一度量裝置中。
部分第一度量裝置410與第一反射鏡408. 1的連接更準(zhǔn)確地說(shuō)結(jié)合 以及第一度量裝置410的剩余部分尤其是第一發(fā)射器和接收器單元 410. 1與公知的X、 Y、 Z基準(zhǔn)反射鏡和至零傳感器(zero sensors)的 后向反射器(retro reflectors) —起與基板臺(tái)404. 2直接連接更準(zhǔn)確 地說(shuō)結(jié)合能夠避免在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409和外殼402.1之間插入大型笨重結(jié) 構(gòu)，例如度量框架等。
因此，省去了在普通系統(tǒng)中所使用的度量框架，并且保持著光學(xué) 元件單元的第一分組405. 1的光學(xué)投影單元402的外殼402. 1結(jié)合 了這種度量框架的功能。外殼402. 1通過(guò)第一隔振裝置411按照隔 振的方式直接連接在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409上。該第一隔振裝置411在其上 部第一端部處直接接觸位于外殼402.1的凸緣部分402. 3的外殼 402. 1,并且在其下部第二端部處直接接觸基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409。
另外，在該實(shí)施方式中，形成光學(xué)元件單元的第二分組405.2 的第一反射鏡408.1單獨(dú)受到支撐并且也結(jié)合有這種度量裝置的功 能。第一反射鏡408, 1也是通過(guò)第二隔振裝置4H按照隔振方式與 基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409直接連接。該第二隔振裝置417在其上部第一端部處 直接接觸基本上剛性安裝在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409上的支撐結(jié)構(gòu)418。該第二 隔振裝置417在其下部第二端部處直接接觸第一反射鏡408. 1 。
相應(yīng)的第一和第二隔振裝置411和417分別由在外殼402. 1和 第一反射鏡408.1的圓周處均勻分布的多個(gè)第一和第二隔振單元"1.1和417,1形成。通過(guò)基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409引入到光學(xué)投影單元402 中的外部機(jī)械干擾頻率通常為30Hz至lHz。因此，根據(jù)所期望的機(jī) 械干擾頻率，第一和第二隔振單元411. 1和417. 1可以為任意在低 于所期望的機(jī)械干擾頻率至少10倍的諧振頻率下分別給外殼402.1 和第一反射鏡408. 1提供支撐的合適類型。
通常，第一和第二隔振單元411. 1和417. 1的諧振頻率將在0. 01 至10Hz之間選擇。優(yōu)選的是，由第一和第二隔振單元411. 1和417. 1 提供的支撐的諧振頻率大約為0. 1Hz或更低。這種隔振單元411.1 和417.1可以由具有橫向漂移控制的公知所謂的磁性重力補(bǔ)償器提 供，所述橫向漂移控制也可以根據(jù)電磁原理(例如采用音圏電機(jī))來(lái) 操作，并且還可以在大約相同數(shù)量級(jí)即優(yōu)選大約為0. 1Hz或更低的 諧振頻率下進(jìn)行漂移控制。
但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式的情況下，針 對(duì)隔振單元可以選擇其它工作原理，例如具有彈簧裝置的純機(jī)械工 作原理或者具有適當(dāng)較低的諧振頻率的氣動(dòng)裝置。
根據(jù)本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)的省去普通度量裝置在當(dāng)前所知的光學(xué)投 影系統(tǒng)上提供了許多優(yōu)點(diǎn)。
一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，省去普通度量框架在基板附近釋放出相當(dāng)大的 構(gòu)建空間。這有利于投影光學(xué)元件的設(shè)計(jì)和尺寸設(shè)定。另一個(gè)優(yōu)點(diǎn) 在于，光學(xué)投影單元自身的外殼402.1在熱穩(wěn)定性方面已經(jīng)非常穩(wěn) 定了，以便降低在容納在其中的光學(xué)元件之間的熱漂移作用。因此， 外殼402.1尤其適用于第一度量裝置的結(jié)合部分，并且度量框架的 熱穩(wěn)定性通常所需的大量勞動(dòng)也不必了 。這顯著降低了光學(xué)投影裝 置1的整體費(fèi)用。
該實(shí)施方式的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于第一反射鏡408.1的單獨(dú)隔振支 撐。第一反射鏡408.1根據(jù)光學(xué)投影單元402的光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)設(shè) 計(jì)通常具有大約為200至800的直徑。在第一反射鏡408. 1構(gòu)成為 由合適材料例如Zerodur等形成的實(shí)心體的情況下，第一反射鏡 408. 1具有相當(dāng)大的質(zhì)量，這通常高達(dá)60kg甚至更重。第一反射鏡408. 1的材料例如Zerodur等可以具有較低的熱膨脹系數(shù)(CTE),因 此受熱穩(wěn)定。
一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，外殼不必承受第一反射鏡408. 1的負(fù)載，因此 可以具有更不復(fù)雜的優(yōu)化設(shè)計(jì)。第二個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，在引入到第一反 射鏡408. 1中的干擾和引入到外殼402. 1中的千擾之間實(shí)現(xiàn)了動(dòng)態(tài) 分離。第三個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，第一反射鏡408.1具有較大質(zhì)量，可以由 耐熱材料制成，不會(huì)主動(dòng)促動(dòng)(如將在下面詳細(xì)所述一樣)，可以只 是結(jié)合或保持在其內(nèi)容中所使用的度量裝置的被動(dòng)部件。因此，第 一反射鏡408.1自身在熱方面以及動(dòng)態(tài)上是該系統(tǒng)的非常穩(wěn)定的部 件。采用單獨(dú)隔振懸掛，第一反射鏡408. 1從由外殼402. 1保持的 那部分光學(xué)投影單元402動(dòng)態(tài)脫開(kāi)，因此相對(duì)于源自光學(xué)投影單元 例如源自用于反射鏡306.2和307.2的促動(dòng)器力的外部干擾也是穩(wěn) 定的。因此，它優(yōu)選適合用作根據(jù)本發(fā)明該實(shí)施方式給出的整個(gè)系 統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)，如下所述。
根據(jù)將第一反射鏡408.1設(shè)置作為在整個(gè)系統(tǒng)中的中央基準(zhǔn)的 這個(gè)概念，在第一度量裝置410之外，設(shè)有第二度量裝置412,用來(lái) 捕獲在第一反射鏡408. 1和掩模臺(tái)403. 2之間的空間關(guān)系，以便使 用在掩模臺(tái)403. 2相對(duì)于光學(xué)投影系統(tǒng)的位置調(diào)整中的結(jié)果。
第二度量裝置412包括與掩模臺(tái)403.2連接的第二發(fā)射器和接 收器單元412. 1以及與第一反射鏡408. 1的前側(cè)表面408. 4直接機(jī) 械連接的第二基準(zhǔn)元件412.2。還有，第二度量裝置412可以在6 個(gè)自由度(DOF)中捕獲在作為光學(xué)曝光裝置401的成像裝置第一部件 的第一反射鏡408. 1和作為光學(xué)曝光裝置401的成像裝置第二部件 的掩模臺(tái)403. 2之間的空間關(guān)系。
第二基準(zhǔn)元件412. 2與第一反射鏡408. 1的前側(cè)表面408. 3連接， 該前側(cè)表面還形成第一反射鏡408. 1的第一反射表面408. 2。根據(jù)第二 度量裝置412的工作原理，第二反射元件在采用干涉測(cè)量原理時(shí)可以為 反射元件(例如反射表面或者提供有多個(gè)反射表面的元件例如所謂的三 面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍射元件(例如光柵)。在圖6中所示的實(shí)施方式中，第一反射鏡408. 1的前側(cè)表面408.4 根據(jù)第二度量裝置412的工作原理，至少在第二基準(zhǔn)元件412. 2的區(qū) 域中可以作為反射表面，或者可以顯示出為光柵，例如直接曝光到 前側(cè)表面408. 4上的光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第二基準(zhǔn) 元件也可以為與第 一 反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元件。例 如，它可以為在通過(guò)剛性連接、摩擦連接、粘接連接或其任意組合 與第 一反射鏡直接連接的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如， 可以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡 上。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，可以用如 乂人EP1182509A2中所知的并且如在圖6中由虛線輪廓412. 3所示的 普通度量裝置來(lái)代替第二度量裝置412。另外，可以通過(guò)如在圖6 中由虛線輪廓412. 4所示的度量裝置代替第二度量裝置412。采用這 種第二度量裝置，發(fā)射器和接收器單元再次與掩模臺(tái)403. 2連接， 并且第二基準(zhǔn)元件與外殼402. 1直接機(jī)械連接。最后，根據(jù)將第一反射鏡408.1設(shè)置作為在整個(gè)系統(tǒng)中的中央 基準(zhǔn)的概念，在第一和第二度量裝置410和412之外，可以設(shè)置第 三度量裝置413，用來(lái)捕獲在第一反射鏡408. 1和其它反射鏡406. 1 和407. 1之間的空間關(guān)系以便使用在其它反射鏡406. 1和407. 1相 對(duì)于第一反射鏡408. 1的位置調(diào)節(jié)的結(jié)果。第三度量裝置413包括與外殼402. 1連接的第三發(fā)射器和接收 器單元413. 1以及分別與反射鏡408. 1 、 406. 1和407. 1的表面直接 機(jī)械連接的第三基準(zhǔn)元件413. 2、 413.3、 413.4。此外，第三度量裝 置413可以在六個(gè)自由度(DOF)中捕獲在作為光學(xué)曝光裝置401的成 像裝置第一部件的第一反射鏡408. 1和作為光學(xué)曝光裝置401的成 像裝置第二部件的相應(yīng)反射鏡406. 1和407. 1之間的空間關(guān)系。第三基準(zhǔn)元件413.2、 "3.3、 413. 4根據(jù)第三度量裝置413的 工作原理在采用干涉測(cè)量原理時(shí)為反射元件(例如提供有多個(gè)反射表面的反射表面或元件例如所謂的三面直角棱鏡等)，或者在采用編碼器原理時(shí)可以為衍射元件(例如光柵)。在圖6中所示的實(shí)施 方式中，形成第三基準(zhǔn)元件的反射鏡408. 1 、 406. 1和407. 1的相應(yīng) 表面根據(jù)第三度量裝置413的工作原理至少在相應(yīng)第三基準(zhǔn)元件 411 2、 "3. 3、 413. 4的區(qū)域中可以用作反射表面或者可以表現(xiàn)為光 柵例如2D光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，相應(yīng)的第 三基準(zhǔn)元件也可以為與相應(yīng)反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元 件。例如，它可以是在通過(guò)剛性連接、摩擦連接或其任意組合直接 連接在第一反射鏡上的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如，可 以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡上。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，相應(yīng)度量裝置的相應(yīng)測(cè)量光束不必具有 如圖6所示的筆直光路。而是，根據(jù)光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，可以設(shè)置適 當(dāng)?shù)墓馐刂乒鈱W(xué)元件來(lái)按照規(guī)定的方式在曲折光路上引導(dǎo)相應(yīng)的 測(cè)量光束。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第三度量 裝置413可以由如在圖6中由虛線輪廓413. 5所示的單獨(dú)度量裝置代替來(lái)單獨(dú)捕獲在第 一反射鏡和相應(yīng)其它反射鏡之間的空間關(guān)系， 或者由如在圖6中由虛線輪廓413.6所示的單獨(dú)度量裝置代替來(lái)捕 獲在第 一反射鏡和外殼之間的空間關(guān)系。釆用如上所述的第一實(shí)施方式，第一至第三基準(zhǔn)元件410.2、 412.2、 413.2、 413.3、 413.4已經(jīng)直接設(shè)在相應(yīng)的光學(xué)元件即反射 鏡406.1 、 407.1 、 408.1上。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其 它實(shí)施方式中，相應(yīng)的基準(zhǔn)元件也可以與相應(yīng)光學(xué)元件的其它部件 連接，從而允許正確評(píng)估相應(yīng)光學(xué)元件的空間位置。例如，相應(yīng)的 基準(zhǔn)元件也可以與光學(xué)元件安裝件連接，該安裝件保持著相應(yīng)的光 學(xué)元件并且與相應(yīng)的光學(xué)元件一起移動(dòng)。應(yīng)當(dāng)理解的是，采用圖6的光學(xué)曝光裝置401，如在上面參照?qǐng)D 2所述的 一樣可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明將圖案圖像轉(zhuǎn)印到基板上的方法的優(yōu)選實(shí)施方式。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，根據(jù)本發(fā)明的其它實(shí)施方式，光學(xué)元件單元的第二分組405. 2還可以包括通過(guò)隔振裝置417與第一光學(xué)元件這里為 第一反射鏡408. l保持在一起的其它光學(xué)元件單元。為此，該第二分組 可以由通過(guò)第二隔振裝置417直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)409上的第二外殼結(jié) 構(gòu)等接收。第六實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D7可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)選實(shí)施方式 的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置501的第六優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖7的實(shí)施方式在其主要設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖3 的實(shí)施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖7中，相對(duì)于圖3中的各個(gè)部分， 已經(jīng)給類似或相同部分賦予增加500的相同參考標(biāo)號(hào)。圖7的實(shí)施 方式與圖3的實(shí)施方式之間的唯一差別在于第一度量裝置510的設(shè) 計(jì)以及光學(xué)元件單元508的第一反射鏡508. 1的設(shè)計(jì)。所有其它部 分都是相同的，從而可以參照針對(duì)在圖3中給出的上述描述。圖7為按照以13nm的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置 501的形式的光學(xué)成像裝置下部的示意性并且不是按比例繪制的示 意圖。這里，光學(xué)投影單元502的外殼502.1結(jié)合有度量框架的功 能，并且如上所述一樣通過(guò)隔振裝置511按照隔振的方式直接連接 在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)509上。第一度量裝置510在六個(gè)自由度(DOF)中捕獲在作為光學(xué)曝光裝 置501的成像裝置第一部件的第一反射鏡508. 1和作為與所述成像 裝置第一部件不同的光學(xué)曝光裝置501的成像裝置第二部件的基板 單元5 04之間的空間關(guān)系。第一度量裝置510包括發(fā)射器和接收器單元510.1和與外殼 502. 1連接的接收器單元510. 8。發(fā)射器和接收器單元510. 1包括形 成第一度量裝置510的度量部件的第一光束控制單元510. 9。第一光 束控制單元510. 9結(jié)合在第一反射鏡508. 1內(nèi)。為此，第一光束控54制單元510. 9保持在由在第一反射鏡508. 1內(nèi)的第一空腔形成的第 一容器508.5內(nèi)。為了不會(huì)受到第一反射鏡508.1的任何運(yùn)動(dòng)的影 響，第一光束控制單元510.9被保持使得不會(huì)接觸第一反射鏡 508. 1 。接收器單元510.8包括形成第一度量裝置510的另一個(gè)度量部 件的第二光束控制單元510. 10。第二光束控制單元510. 10也結(jié)合在 第一反射鏡508.1內(nèi)。為此，第二光束控制單元510. IO保持在由在 第一反射鏡508.1內(nèi)的第二空腔形成的第二容器508.6內(nèi)。為了不 會(huì)受到第一反射鏡508.1的任何運(yùn)動(dòng)的影響，第二光束控制單元 510. IO被保持使得它不會(huì)接觸第一反射鏡508. 1 。應(yīng)當(dāng)理解的是，用于結(jié)合光束控制單元的這些空腔可以通過(guò)任 意合適的手段來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，可以將相應(yīng)的空腔引入到實(shí)心反射鏡 本體中。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，反射 鏡本身可以形成為其內(nèi)部至少部分中空的結(jié)構(gòu)，從而它能夠容納光 束控制單元。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中， 代替至少一個(gè)光束控制單元，形成第一度量裝置的相應(yīng)度量部件的 發(fā)射器和/或接收器可以在適當(dāng)?shù)奈恢锰幈３植⑶乙虼私Y(jié)合在第一 反射鏡內(nèi)，而不會(huì)接觸反射鏡。為了按照與已知校平系統(tǒng)類似的方式沿著軸線502.2提供用于 基板臺(tái)504. 2的校平信息，發(fā)射器和接收器單元510. 1發(fā)射出第一 測(cè)量光束510.11。第一測(cè)量光束510.11通過(guò)第一光束控制單元 510, 9引導(dǎo)穿過(guò)第一反射鏡508. l，并且傾斜地投射到基板504. 1上。 然后第二測(cè)量光束510. 11從基板504. 1的表面反射進(jìn)入第二光束控 制單元510. 10。第二光束控制單元510. 10將第一測(cè)量光束510. 11 引導(dǎo)至在接收器單元510.8內(nèi)的接收器。根據(jù)基板臺(tái)504.2沿著軸 線502. 2的位置，第一測(cè)量光束510. 11在一定位置處照射接收器。 因此，第一測(cè)量光束510.11照射接收器的位置提供了有關(guān)基板臺(tái) 504. 2沿著軸線502. 2相對(duì)于外殼502， 1的位置的信息。第一度量裝置510還包括兩個(gè)基準(zhǔn)單元510. 12和510. 13?；鶞?zhǔn)單元510. 12與基板臺(tái)504. 2直接機(jī)械連接，從而第一度量裝置510 可以在剩下的自由度中提供在基板臺(tái)504. 2和第一度量裝置510之 間的空間關(guān)系?；鶞?zhǔn)單元510. 13與第一反射鏡直接機(jī)械連接，使得 第一度量裝置510可以在六個(gè)自由度中提供在第一反射鏡508. 1和 第一度量裝置510之間的空間關(guān)系。因此，第一度量裝置510在6 個(gè)自由度中可以提供在基板臺(tái)504. 2和第一反射鏡508. 1之間的空 間關(guān)系，然后該空間關(guān)系能夠用來(lái)在如上所述的曝光過(guò)程期間使基 板臺(tái)504, 2以及因此基板504. 1在空間中定位。第七實(shí)施方式在下面將參照?qǐng)D8和9A至9C對(duì)可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明的方法的 優(yōu)選實(shí)施方式的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)成像裝置601的第七優(yōu)選實(shí)施方 式進(jìn)行說(shuō)明。圖8的實(shí)施方式在其主要設(shè)計(jì)和功能方面在很大程度上與圖1 的實(shí)施方式對(duì)應(yīng)。具體地說(shuō)，在圖8中，已經(jīng)給類似或相同部分賦 予增加600的相同參考標(biāo)號(hào)。圖8的實(shí)施方式與圖1的實(shí)施方式之 間的一個(gè)差別在于第一度量裝置610的設(shè)計(jì)以及光學(xué)元件單元608 的第一反射鏡608. 1的設(shè)計(jì)。相對(duì)于圖1的實(shí)施方式的另一個(gè)差別 在于，基板單元604為部分目標(biāo)單元620，該目標(biāo)單元還包括圖像傳 感器單元621。所有其它部分都是相同的，從而可以參照針對(duì)圖1 中給出的上述描述。圖8為按照以13腿的波長(zhǎng)在EUV范圍內(nèi)工作的光學(xué)曝光裝置 601的形式的光學(xué)成像裝置下部的示意性并且不是按比例繪制的示 意圖，該光學(xué)曝光裝置601具有包括光學(xué)元件單元組605的光學(xué)投 影單元602。目標(biāo)單元620設(shè)計(jì)成通過(guò)在圖8中未示出的合適裝置選擇性地 將基板單元604和圖像傳感器單元621設(shè)置到曝光位置中，其中它 們接收由光學(xué)元件組605轉(zhuǎn)印形成在掩模上的圖案的圖像。在圖8 中，顯示出基板單元604處于曝光位置中。圖像傳感器單元621包括由圖像傳感器臺(tái)621.2承栽的圖像傳 感器621. 1。圖像傳感器621. 1設(shè)計(jì)用于捕獲形成在掩模上的圖案的 圖像并且給在圖8中未示出的評(píng)估單元提供相應(yīng)的信號(hào)，以便評(píng)估 所捕獲的圖像的質(zhì)量。在所示的實(shí)施方式中，圖像傳感器臺(tái)621.2為可以單獨(dú)控制的 部件。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，基板臺(tái) 和圖像傳感器臺(tái)可以機(jī)械連接以形成 一 個(gè)整體部件。在光學(xué)曝光裝置601的操作期間，光學(xué)元件單元組605相對(duì)于 彼此以及相對(duì)于掩模和基板604.1的相對(duì)位置由于如上所述引入到 該系統(tǒng)中的內(nèi)在和外在千擾而會(huì)出現(xiàn)變化。與光學(xué)曝光裝置601是作為薄片步進(jìn)投影裝置或作為步進(jìn)掃描 裝置操作無(wú)關(guān)，光學(xué)元件單元組605的光學(xué)元件相對(duì)于彼此以及相 對(duì)于掩模603. 1和基板604. 1的相對(duì)位置必須保持在預(yù)定極限范圍 內(nèi)以便獲得高質(zhì)量成像結(jié)果。為了保持光學(xué)元件單元組605的光學(xué)元件相對(duì)于彼此以及相對(duì) 于掩模603. 1和基板604. 1的相對(duì)位置的上述預(yù)定極限，其中可以 通過(guò)由控制單元619控制的促動(dòng)器單元608. 7 (在圖"中僅僅示意性 地顯示出)將第一反射鏡608. 1主動(dòng)設(shè)置在空間中。同樣，可以通過(guò) 相應(yīng)的支撐結(jié)構(gòu)(在圖8中未示出)將掩模臺(tái)和基板臺(tái)6O4. 2主動(dòng)設(shè) 置在空間中。這些部分的主動(dòng)定位是根據(jù)多個(gè)度量裝置尤其是用來(lái)捕獲光學(xué) 曝光裝置601的某些部件之間的空間關(guān)系的第一度量裝置610的測(cè) 量結(jié)果來(lái)進(jìn)行的。這些度量裝置將所捕獲的位置信息提供給控制單 元619，該控制單元控制著相應(yīng)部件的促動(dòng)。第一度量裝置610在六個(gè)自由度(DOF)中捕獲了在作為光學(xué)曝光 裝置601的成像裝置第一部件的光學(xué)元件單元組605的第一反射鏡 608.1和與所述成像裝置第一部件不同的作為光學(xué)曝光裝置601的 成像裝置第二部件的基板單元604之間的空間關(guān)系。第一度量裝置610包括編碼器裝置，其具有安裝在基板臺(tái)6(M. 2上并且與控制單元619連接的第一發(fā)射器和接收器單元610. 1和三 個(gè)第二發(fā)射器和接收器單元610. 6、 610. 14和610. 15。度量裝置610 的編碼器裝置還包括與第一反射鏡608.1即成像裝置第一部件直接 機(jī)械連接的第一基準(zhǔn)元件610. 2。其位置在圖9A至9C中由虛線表示的第一基準(zhǔn)元件610. 2與第 一反射鏡608. 1的與第一反射鏡608. 1的第一反射表面608. 2相對(duì) 的背面608.3連接。第一基準(zhǔn)元件為以二維光柵610. 2形式的編碼 器元件。在圖8中所示的實(shí)施方式中，基準(zhǔn)元件610. 2由第一反射 鏡608. 1的背面608. 3形成。為此，第一反射鏡的背面608. 3至少 在基準(zhǔn)元件610.2的區(qū)域中表現(xiàn)為二維光柵，例如直接曝光到背面 608. 3上的光柵。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，第一基準(zhǔn) 元件也可以為與第一反射鏡分開(kāi)并且與之直接機(jī)械連接的元件。例 如，它可以為在通過(guò)剛性連接、摩擦連接、粘接連接或其任意組合 與第 一 反射鏡直接連接的單獨(dú)部分上的反射表面或光柵等。例如， 可以用螺釘、夾子、粘接劑或其它方式將它固定連接在第一反射鏡 上。另外，可以為每個(gè)發(fā)射器和接收器單元或這些發(fā)射器和接收器 單元的分組設(shè)置單獨(dú)編碼器單元。在各個(gè)編碼器單元優(yōu)選處于在圖8 中所示的基板臺(tái)的中央位置中的情況下，使每個(gè)發(fā)射器和接收器單 元對(duì)中，即與其相關(guān)編碼器單元的中心對(duì)準(zhǔn)。優(yōu)選的是，這種單獨(dú)部分具有與第 一 反射鏡的熱膨脹系數(shù)相配 的熱膨脹系數(shù)。優(yōu)選的是，在那里形成有光柵的那部分的熱膨脹系 數(shù)盡可能低，或者該部分由合適的裝置來(lái)控制溫度以便避免光柵出 現(xiàn)任何4丑曲或變形。編碼器裝置的第一發(fā)射器和接收器單元610.1以及第二發(fā)射器 和接收器單元610.6、 610.14和610.15中的每一個(gè)分別朝著光柵 610. 2發(fā)射至少一條光束610. 16和610. 17,并且接收由光柵610. 2 分別反射回的至少一部分光束610. 16和610. 17。在光柵和相應(yīng)的發(fā)射器和接收器單元之間沿著與相應(yīng)光束垂直的方向存在相對(duì)運(yùn)動(dòng) 時(shí)，在發(fā)射器和接收器單元處接收到的光強(qiáng)度由于光柵的結(jié)構(gòu)而按 照公知的方式改變，從而導(dǎo)致由發(fā)射器和接收器單元發(fā)出相應(yīng)的脈沖信號(hào)?？刂茊卧?19按照公知的方式使用這些信號(hào)以便在相對(duì)運(yùn) 動(dòng)上得出結(jié)論。編碼器裝置使用來(lái)自第一發(fā)射器和接收器單元610.1和第二發(fā) 射器和接收器單元610. 6、 610. 14和610. 15的信號(hào)提供在至少三個(gè) 自由度中的位置信息，即在與光學(xué)投影單元602的光軸602. 2垂直 的平面中的兩個(gè)平移自由度(通常被稱為沿著X軸線和Y軸線的平移) 以及繞著光軸602. 2的旋轉(zhuǎn)自由度(通常被稱為繞著Z軸的旋轉(zhuǎn))。應(yīng)當(dāng)理解的是，可以使用由第一發(fā)射器和接收器單元610.1以 及第二發(fā)射器和接收器單元610. 6、 610. 14和610. 15、 610. 6中的 每一個(gè)提供的一條或多條測(cè)量光束來(lái)在所有六個(gè)自由度中對(duì)在第一 反射鏡608. 1和基板臺(tái)604. 2之間的相對(duì)位置進(jìn)行測(cè)量。另外，例如編碼器裝置的編碼器原理可以與干涉測(cè)量和/或電容 傳感器組合以提供在剩余3個(gè)自由度中的位置信息。在圖8中所示 的實(shí)施方式中，這可以通過(guò)沿著光軸602. 2 (Z軸)的三個(gè)測(cè)量來(lái)實(shí)現(xiàn)。 應(yīng)當(dāng)理解的是，光柵610.2已經(jīng)為此提供了普通基準(zhǔn)元件。例如， 可以使用電容式傳感器或采用反射離開(kāi)光柵610.2的衍射圖案的干 涉測(cè)量傳感器。但是，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，在第一度 量裝置中可以使用處于在第一反射鏡的背面608.3之外的其它位置 處的其它編碼器元件。因此，例如整個(gè)度量裝置可以根據(jù)編碼器原 理來(lái)操作。使用編碼器裝置具有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。它比已知的干涉測(cè)量系統(tǒng)更容 易進(jìn)行操作，并且可以使用更少的部件和更少的空間來(lái)提供更多的 位置信息。另外，編碼器元件例如光柵比已知干涉測(cè)量系統(tǒng)所需的 高質(zhì)量鏡面相比更容易制造。使用編碼器裝置的另 一 個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，例如可以通過(guò)將例如多個(gè)復(fù)位指標(biāo)脈沖結(jié)合進(jìn)光柵610.2中從而很容易在兩個(gè)平移自由度(X 軸線和Y軸線)中按照公知的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)復(fù)位功能。因此，可以將基 板臺(tái)604. 2反復(fù)地驅(qū)動(dòng)到相對(duì)于光學(xué)投影單元602的已知起始位置， 而無(wú)需復(fù)雜的初始化過(guò)程。應(yīng)當(dāng)理解的是，為了在復(fù)位標(biāo)志脈沖的 捕獲范圍中使基板臺(tái)604.2定位，基板臺(tái)604.2的定位單元的定位 精度更加充分。如上所述，部分第一度量裝置610與第一反射鏡608. 1的連接更 準(zhǔn)確地說(shuō)結(jié)合以及第一度量裝置610的剩余部分尤其是發(fā)射器和接收 器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610. 15與基板臺(tái)604. 2直接連接更準(zhǔn) 確地說(shuō)結(jié)合如上所述能夠避免在光學(xué)投影單元602的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)和外殼 之間插入大型笨重結(jié)構(gòu)，例如度量框架等。發(fā)射器和接收器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610. 15設(shè)置在基 板604.1的外周附近并且在其上均勻分布。它們的相互距離等于基 板604.1的最大直徑的至少一半，因此降低了在基板臺(tái)604.2的極 端位置處出現(xiàn)的最大Abbe臂。因此，從顯示出基板臺(tái)6 04. 2的末端位置的圖9B和9C中可以 看出，這些發(fā)射器和接收器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610,15中 的至少兩個(gè)即三個(gè)用來(lái)在光學(xué)投影單元602和基板單元6(M之間的 相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍中的任意時(shí)刻提供上述的位置信息。換句話說(shuō)，這些 發(fā)射器和接收器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610.15中的每一個(gè)用 來(lái)在光學(xué)4殳影單元602和基板單元604之間的一部分相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍 中提供位置信息，這些部分的相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍重疊成使得這些發(fā)射器 和接收器單元610.1、 610.6、 610.14、 610. 15中的三個(gè)用來(lái)提供在任意時(shí)刻處的位置信息。應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，可以使用其它數(shù) 量的發(fā)射器和接收器單元。甚至可以使用一個(gè)單獨(dú)發(fā)射器和接收器 單元。但是，優(yōu)選使用至少兩個(gè)更優(yōu)選至少三個(gè)發(fā)射器和接收器單 元，它們?cè)谥辽僖粋€(gè)共同自由度中以相同的分辨率進(jìn)行測(cè)量，以避 免編碼器元件數(shù)量過(guò)多。應(yīng)當(dāng)理解的是，那四個(gè)發(fā)射器和接收器單元610.1、 610.6、 610. 14、 610. 15通過(guò)用于編碼器校準(zhǔn)的控制單元619來(lái)提供可以使 用的多余位置信息。第一度量裝置610還包括這樣的編碼器裝置，它具有安裝在圖 像傳感器單元621. 2上并且也與控制單元619連接的第三發(fā)射器和 接收器單元610, 18和三個(gè)第四發(fā)射器和接收器單元610. 19。第三發(fā) 射器和接收器單元610. 18和第四發(fā)射器和接收器單元610. 19按照 與發(fā)射器和接收器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610. 15的布置類似 的方式布置，它在這里只是參照上面給出的說(shuō)明。在薄片604.2的曝光過(guò)程已經(jīng)完成并且必須將新的薄片604.2 安放到薄片臺(tái)604. 1上時(shí)，將圖像傳感器單元621設(shè)置到曝光位置 中，因此從曝光位置中將基板單元604去除。當(dāng)然也可以在將基板 單元604第一次設(shè)置在曝光位置中之前即在薄片604.2曝光之前， 將圖像傳感器單元621設(shè)置到曝光位置中。在圖像傳感器單元621設(shè)置在曝光位置中即呈現(xiàn)出在圖8中所 示的基板單元604的位置時(shí)，則發(fā)射器和接收器單元610.18和 610. 19按照與發(fā)射器和接收器單元610. 1、 610.6、 610.14、 610,15 類似的方式與第一基準(zhǔn)元件610.2協(xié)作，它在這里主要參照上面給 出的說(shuō)明。編碼器裝置使用來(lái)自第三發(fā)射器和接收器單元"0. 18和第四發(fā) 射器和接收器單元610. 19的信號(hào)提供了在至少三個(gè)自由度中的位置 信息，即在與光學(xué)投影單元602的光軸602. 2垂直的平面中的兩個(gè) 平移自由度(通常被稱為沿著X軸線和Y軸線的平移)以及繞著光軸 602. 2的旋轉(zhuǎn)自由度(通常被稱為繞著Z軸的旋轉(zhuǎn))。但是，應(yīng)當(dāng)理解 的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，可以釆用任意其它合適的基于 無(wú)接觸式或接觸式的工作原理(如上所述)。如上所述，由圖像傳感器單元621的圖像傳感器621.1提供的 信號(hào)可以用來(lái)評(píng)估所捕獲的圖像的質(zhì)量。圖像傳感器單元621包括 承載著設(shè)計(jì)用來(lái)捕獲形成在掩模上的圖案的圖像并且給評(píng)估單元(圖8中未示出)提供相應(yīng)的信號(hào)的圖像傳感器621.1的圖像傳感器 臺(tái)621. 2。應(yīng)當(dāng)理解的是，由圖像傳感器621. 1提供的這種圖像質(zhì)量 信息尤其可以由控制單元619用來(lái)校準(zhǔn)和調(diào)節(jié)光學(xué)曝光裝置601的部件。還應(yīng)當(dāng)理解的是，在圖8的光學(xué)曝光裝置601中，如在上面參 照?qǐng)D2所述的一樣可以執(zhí)行根據(jù)本發(fā)明將圖案圖像轉(zhuǎn)印到基板上的 方法的優(yōu)選實(shí)施方式。該基板由此形成在本發(fā)明意義上的第一 目標(biāo) 器件。另外，采用該光學(xué)曝光裝置601，上面參照?qǐng)D2所述的方法也 可以用于將圖案圖像轉(zhuǎn)印到形成本發(fā)明的第二目標(biāo)器件的圖像傳感 器621. 1上。還應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，相應(yīng)的發(fā)射器 和接收器單元不必安裝在基板單元上。例如，發(fā)射器和接收器單元 可以實(shí)施成單獨(dú)發(fā)射器單元和單獨(dú)接收器單元。在這種情況中，可 以將光束引導(dǎo)裝置例如反射鏡安裝在基板單元上以便檢測(cè)進(jìn)出編碼 器元件的相應(yīng)光束。還應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，如上所述的編 碼器裝置可以與部分或唯一由其它類型光學(xué)元件例如折射或衍射光 學(xué)元件構(gòu)成的光學(xué)投影單元組合使用。另外，如上所述的編碼器裝 置可以與在其它波長(zhǎng)范圍內(nèi)工作的光學(xué)投影單元組合使用。另外，成像裝置第一部件不必為光學(xué)元件單元的組成部件。具 體地說(shuō)，在沒(méi)有位于基板附近的大型光學(xué)元件的光學(xué)投影單元中， 例如如普通折射系統(tǒng)的情況一樣，編碼器元件也可以形成或安裝在 光學(xué)投影單元的一部分外殼上，或者甚至形成或安裝在支撐著光學(xué)投影單元的支撐結(jié)構(gòu)上。具體地說(shuō)，在采用浸沒(méi)技術(shù)的情況下即在 最靠近基板單元的一部分光學(xué)元件與一部分基板一起浸沒(méi)在浸沒(méi)介 質(zhì)例如高純薄片中的情況下可以是這樣。在這些情況中，最終需要 單獨(dú)傳感器器件來(lái)捕獲在編碼器元件和其位置要相對(duì)于基板單元確 定的光學(xué)元件之間的相對(duì)位置。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，第一反射鏡608.1 、基板單元6(M和第一62度量裝置610可以代替在上述第一至第六實(shí)施方式中的任一個(gè)中的 相應(yīng)部分。還應(yīng)當(dāng)理解的是，具有作為第一目標(biāo)單元的基板單元和作為第 二目標(biāo)單元的圖像傳感器的這種裝置也可以與上述第一至第六實(shí)施 方式中的任一個(gè)組合使用。最后，應(yīng)當(dāng)理解的是，包括如上面結(jié)合圖8所述的編碼器裝置 的度量裝置也可以與掩模單元的定位結(jié)合使用。掩模單元的部件也 可以不是如上所述的部件。第一反射鏡608. 1 、基板單元604和第一 度量裝置610可以代替在上述第一至第六實(shí)施方式中的任一個(gè)中的 相應(yīng)部分。雖然，在前面已經(jīng)對(duì)其中光學(xué)元件只是反射元件的本發(fā)明實(shí)施 方式進(jìn)行了說(shuō)明，但是應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中， 光學(xué)元件單元的光學(xué)元件可以使用反射、折射或衍射元件或者其任 意組合。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，可以選擇 用于上面列出的光學(xué)元件分組的任意其它支撐構(gòu)思的組合。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)成像裝置，包括用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，所述成像裝置第一部件為其中一個(gè)所述光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件與成像裝置第一部件不同并且為所述掩模單元、光學(xué)投影單元和基板單元中的一個(gè)的部件；以及度量裝置；所述度量裝置捕獲所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系，所述度量裝置包括基準(zhǔn)元件，所述基準(zhǔn)元件直接與所述成像裝置第一部件機(jī)械連接。
2. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第一 部件為所述光學(xué)投影單元的最靠近所述掩模單元和所述基板單元中 的一個(gè)的光學(xué)元件單元的部件。
3. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第一 部件為光學(xué)元件。
4. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第一 部件為反射鏡。
5. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述基準(zhǔn)元件包括 基準(zhǔn)表面，所述基準(zhǔn)表面為反射表面和衍射表面中的至少一個(gè)。
6. 如權(quán)利要求5所述的光學(xué)成像裝置，其中所述基準(zhǔn)表面為所 述成像裝置第一部件的表面。
7. 如權(quán)利要求5所述的光學(xué)成像裝置，其中，所述光學(xué)投影單元包括一組光學(xué)元件，所述光學(xué)元件具有在將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上的過(guò)程中協(xié)作的投影表面；所述基準(zhǔn)表面為下列表面中的一個(gè)建立在其中一個(gè)投影表面 上的基準(zhǔn)表面；以及建立在其中一個(gè)所述光學(xué)元件的除了所述其中 一個(gè)投影表面之外的表面上的基準(zhǔn)表面。
8. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述光學(xué)投影單元包括一組光學(xué)元件，所述光學(xué)元件具有在將所述圖案的所述圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上的過(guò)程中協(xié)作的投影表面； 所述成像裝置第一部件為反射鏡，所述反射鏡包括后部和具有反射前表面的前部，所述反射前表面為所述投影表面中的 一 個(gè)； 所述基準(zhǔn)元件的至少一部分與所述后部連接。
9. 如權(quán)利要求8所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述后部包括與所述前表面相對(duì)的后表面； 所述基準(zhǔn)元件包括基準(zhǔn)表面，所述基準(zhǔn)表面為反射表面和衍射表面中的至少一個(gè)；所述后表面的至少 一 部分形成所述基準(zhǔn)表面的至少 一 部分。
10. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述光學(xué)投影單元只包括具有在將所述圖案的所述圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上的過(guò)程中協(xié)作的反射投影表面的反射光學(xué)元件； 所述成像裝置第一部件為所述反射光學(xué)元件中的一個(gè)。
11. 如權(quán)利要求l所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第二 部件為光學(xué)元件。
12. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第二 部件為所述掩模單元的部件。
13. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第二 部件為所述基板單元的部件。
14. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述光學(xué)投影單元包括用來(lái)支撐所述光學(xué)元件單元的第一分組的外殼單元；設(shè)有第一隔振裝置，所述第一隔振裝置具有第一端部和第二端部；所述第一隔振裝置的所述第一端部直接接觸所述外殼單元； 所述第 一 隔振裝置的所述第二端部直接接觸基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)。
15. 如權(quán)利要求14所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一隔振裝 置具有在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率。
16. 如權(quán)利要求14所述的光學(xué)成像裝置，其中所述外殼單元支 撐所述度量裝置的至少一部分。
17. 如權(quán)利要求14所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第
18. 如權(quán)利要求14所:的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件由第二隔振裝置支撐。
19. 如權(quán)利要求18所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述第二隔振裝置具有第一端部和第二端部； 所述第一隔振裝置的所述第一端部直接接觸所述成像裝置第一部件；所述第一隔振裝置的所述第二端部直接接觸所述外殼單元和所 述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)。
20. 如權(quán)利要求18所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第二隔振裝 置具有在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率。
21. 如權(quán)利要求18所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述光學(xué)投影單元包括支撐結(jié)構(gòu)，所述支撐結(jié)構(gòu)支撐所述光學(xué)元件單元的第二分組；所述第二分組包括所述成像裝置第一部件。
22. 如權(quán)利要求21所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述第二隔振裝置具有第一端部和第二端部；所述第二隔振裝置的所述第 一 端部直接接觸所述支撐結(jié)構(gòu)； 所述第二隔振裝置的所述第二端部直接接觸所述外殼單元和所 述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)。
23. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中，所述光學(xué)投影單元包括支撐所述光學(xué)元件單元的一分組的第一支撐單元；設(shè)有第二支撐單元，所述第二支撐單元支撐所述成像裝置第一 部件；設(shè)有隔振裝置，所述隔振裝置具有第一端部和第二端部； 所述隔振裝置的所述第一端部直接接觸所述第二支撐單元； 所述隔振裝置的所述第二端部直接接觸基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)。
24. 如權(quán)利要求23所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一隔振裝 置具有在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率。
25. 如權(quán)利要求23所述的光學(xué)成像裝置，其中所迷第二支撐單 元支撐所述度量裝置的至少一部分。
26. 如權(quán)利要求23所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第二支撐單
27. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中， 設(shè)有控制單元；所述控制單元與所述度量裝置連接，以接收所述成像裝置第一 部件和所述成像裝置第二部件之間的所述空間關(guān)系；所述控制單元在將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上的過(guò)程中 根據(jù)從所述度量裝置接收到的所述空間關(guān)系控制所述光學(xué)成像裝置 的至少一個(gè)部件的位置。
28. 如權(quán)利要求1所迷的光學(xué)成像裝置，其中所述掩模單元和所 述光學(xué)投影單元能夠使用EUV范圍內(nèi)的光。
29. —種光學(xué)成像裝置，包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元； 用來(lái)接收基板的基板單元；包括支撐結(jié)構(gòu)和一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元； 所述一組光學(xué)元件單元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上，所述一組光學(xué)元件單元包括所述光學(xué)元件單元的第一分組以及與第一分組分開(kāi)的第一光學(xué)元件單元，所述支撐結(jié)構(gòu)支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上并且支撐著所述第一分組， 所述第一光學(xué)元件單元通過(guò)隔振裝置與所述支撐結(jié)構(gòu)和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)連接。
30. 如權(quán)利要求29所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述隔振裝置具有第一端部和第二端部；所述隔振裝置的所述第一端部直接接觸所述第一光學(xué)元件單元；所述隔振裝置的所述第二端部直接接觸所述支撐結(jié)構(gòu)和所述基 礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)。
31. 如權(quán)利要求29所述的光學(xué)成像裝置，其中所述隔振裝置具 有在0. 01和10Hz之間的諧振頻率。
32. 如權(quán)利要求29所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一光學(xué)元 件單元為所述光學(xué)投影單元的最靠近所述掩模單元和所述基板單元 中的一個(gè)的光學(xué)元件單元。
33. 如權(quán)利要求29所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一光學(xué)元件單元包括反射鏡。
34. 如權(quán)利要求29所述的光學(xué)成像裝置，其中，設(shè)有度量裝置；所述度量裝置捕獲所述第一光學(xué)元件單元的第一部件與所述掩 模單元、所述光學(xué)投影單元和所述基板單元中的一個(gè)的第二部件之間的空間關(guān)系；所述度量裝置包括基準(zhǔn)元件，所述基準(zhǔn)元件與所述第一光學(xué)元 件單元直接機(jī)械連接。
35. 如權(quán)利要求34所述的光學(xué)成像裝置，其中所述基準(zhǔn)元件包 括基準(zhǔn)表面，所述基準(zhǔn)表面為所述第一光學(xué)元件單元的表面。
36. —種光學(xué)成像裝置，包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的基板單元；包括支撐結(jié)構(gòu)和一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元； 所述一組光學(xué)元件單元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上，所述光學(xué)投影單元包括至少支撐著所述光學(xué)元件單元的第一分 組的外殼單元，所述外殼單元按照隔振的方式直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上。
37. 如權(quán)利要求36所述的光學(xué)成像裝置，其中所述外殼單元通 過(guò)直接接觸所述外殼和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的第 一 隔振裝置支撐在所述基 礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上。
38. 如權(quán)利要求37所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一隔振裝 置具有在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率。
39. 如權(quán)利要求36所述的光學(xué)成像裝置，其中， 設(shè)有第一光學(xué)元件單元，所述第一光學(xué)元件單元不形成所述第一分組的一部分，所述第一光學(xué)元件單元按照隔振的方式直接支撐在所述外殼單 元和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)上。
40. 如權(quán)利要求36所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一光學(xué)元 件單元通過(guò)與支撐所述外殼單元的第一隔振裝置分開(kāi)的第二隔振裝 置來(lái)支撐。
41. 如權(quán)利要求36所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第二隔振裝 置直接接觸所述所述外殼單元和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)以及第一光 學(xué)元件單元。
42. 如權(quán)利要求39所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一光學(xué)元 件單元以在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率受到支撐。
43. 如權(quán)利要求39所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一光學(xué)元 件單元與所述光學(xué)元件單元的第二分組一起受到支撐，所述第一光學(xué)元件單元形成所述第二分組的一部分。
44. 一種捕獲光學(xué)成像裝置的第一部件和第二部件之間的空間關(guān)系的方法，所述方法包括提供一光學(xué)成像裝置，該裝置包括 具有圖案的掩模單元； 包括基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單 元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，所述成像裝置第一部件為其中一個(gè)光 學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件與成像裝置第 一部件不同并且為掩模單元、光學(xué)投影單元和基板單元中的一 個(gè)的部件，提供一基準(zhǔn)元件，所述基準(zhǔn)元件直接與所述成像裝置第一部件 機(jī)械連接，并且使用所述基準(zhǔn)元件捕獲所述成像裝置第一部件和所述成像裝置 第二部件之間的空間關(guān)系。
45. 如權(quán)利要求44所述的方法，其中所述成像裝置第一部件為 所述光學(xué)投影單元的最靠近所述掩模單元和所述基板單元中的一個(gè) 的光學(xué)元件單元的部件。
46. 如權(quán)利要求44所述的方法，其中所述成像裝置第一部件為反射鏡。
47. 如權(quán)利要求44所述的方法，其中所述基準(zhǔn)元件包括基準(zhǔn)表 面，所述基準(zhǔn)表面為所述成像裝置第一部件的表面。
48. —種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的方法，包括轉(zhuǎn)印步驟，其中使用光學(xué)成像裝置將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上； 在轉(zhuǎn)印步驟的捕獲步驟中，使用如權(quán)利要求44所述的方法捕獲光學(xué)成像裝置的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系；在轉(zhuǎn)印步驟的控制步驟中，根據(jù)在捕獲步驟中捕獲的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系來(lái)控制所述光學(xué)成像裝置的至少 一 個(gè)部件的位置。
49. 一種支撐光學(xué)投影單元的各個(gè)部件的方法，所述方法包括 提供一組光學(xué)元件單元，所述一組光學(xué)元件單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；提供支撐所述光學(xué)元件單元的第 一分組的外殼單元； 按照隔振方式將所述外殼直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)上。
50. 如權(quán)利要求49所述的方法，其中所述支撐所述外殼的步驟 包括提供直接接觸所述外殼和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的第一隔振裝置。
51. 如權(quán)利要求49所述的方法，其中所述外殼以在0. OlHz和 1 OHz之間的諧振頻率受到支撐。
52. 如權(quán)利要求49所述的方法，其中，設(shè)有第一光學(xué)元件單元，所述第一光學(xué)元件單元不形成所述第 一分組的一部分，所述第一光學(xué)元件單元按照隔振的方式直接支撐在所述外殼單 元和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)上。
53. 如權(quán)利要求52所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元通過(guò)與支撐所述外殼單元的第一隔振裝置分開(kāi)的第二隔振裝置來(lái)支撐。
54. 如權(quán)利要求53所述的方法，其中所述第二隔振裝置直接接 觸所述外殼單元和所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)中的一個(gè)以及所述第一光學(xué)元件單元。
55. 如權(quán)利要求52所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件以在 0. OlHz至10Hz之間的諧振頻率受到支撐。
56. 如權(quán)利要求52所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元與 所述光學(xué)元件單元的第二分組一起受到支撐，所述第一光學(xué)元件單 元形成所述第二分組的一部分。
57. —種支撐光學(xué)投影單元的各個(gè)部件的方法，該方法包括 提供一組光學(xué)元件單元，所述一組光學(xué)元件單元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；通過(guò)第一支撐單元支撐所述光學(xué)元件單元的第一分組；將第一光學(xué)元件單元與所迷第一分組分開(kāi)支撐，所述第一光學(xué) 元件單元按照隔振的方式受到支撐。
58. 如權(quán)利要求57所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元按 照隔振的方式直接支撐在基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)和所述第一支撐單元中的一個(gè) 上。
59. 如權(quán)利要求50所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元通 過(guò)隔振裝置支撐，所述隔振裝置直接接觸所述基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)和所述第一 支撐單元中的一個(gè)以及所述第一光學(xué)元件單元。
60. 如權(quán)利要求57所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元以 在0. OlHz和10Hz之間的諧振頻率受到支撐。
61. 如權(quán)利要求57所述的方法，其中所述第一光學(xué)元件單元與 所述光學(xué)元件單元的第二分組一起受到支撐，所述第一光學(xué)元件單 元形成所述第二分組的一部分。
62. —種光學(xué)成像裝置，包括 具有圖案的掩模單元； 包括基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用 來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第 一部件，所述成像裝置第 一部件為其中 一個(gè)光學(xué)元 件單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件與成像裝置第一部 件不同并且為所述掩模單元、所述光學(xué)投影單元和所述基板單元中 的一個(gè)的部件；以及度量裝置，用來(lái)捕獲所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第 二部件之間的空間關(guān)系，所述度量裝置的至少一個(gè)度量部件結(jié)合到所述成像裝置第一部 件中。
63. 如權(quán)利要求62所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件為所述光學(xué)投影單元的最靠近所述掩模單元和所述基板單元中的一個(gè)的光學(xué)元件單元的部件。
64. 如權(quán)利要求62所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件為反射鏡。
65. 如權(quán)利要求62所述的光學(xué)成像裝置，其中所述度量部件位 于所述成像裝置第 一部件的容器內(nèi)。
66. 如權(quán)利要求65所述的光學(xué)成像裝置，其中所述度量部件不 接觸所述成像裝置第一部件。
67. 如權(quán)利要求62所述的光學(xué)成像裝置，其中所述度量部件包 括光束控制元件。
68. 如權(quán)利要求62所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 二部件是所述基板單元的部件。
69. 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像裝置，其中所述掩模單元和所 述光學(xué)投影單元能夠使用EUV范圍內(nèi)的光。
70. —種光學(xué)成像裝置，包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用 來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第 一部件，所述成像裝置第 一部件為光學(xué)投影單元的 部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件為所述掩模單元和 所述基板單元中的一個(gè)的部件；以及 包括編碼器裝置的度量裝置，所述度量裝置使用所述編碼器裝置捕獲所述成像裝置第一部件 和所述成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系，所述編碼器裝置包括發(fā)射器、編碼器元件和接收器，所述發(fā)射器通過(guò)所述編碼器元件將光束發(fā)射到接收器上，所述編碼器元件與成像裝置第一部件直接機(jī)械連接。
71. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述發(fā)射器和所述接收器中的至少 一 個(gè)與所述成像裝置第二部件直接機(jī)械連接。
72. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述編碼器元件 為光柵。
73. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件為其中一個(gè)所述光學(xué)元件單元的部件。
74. 如權(quán)利要求73所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件為所述光學(xué)元件單元中最靠近所述成像裝置第二部件的一個(gè) 的部件。
75. 如權(quán)利要求73所述的光學(xué)成像裝置，其中所述成像裝置第 一部件為光學(xué)元件。
76. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述編碼器元件 形成在所述成像裝置第一部件的表面上。
77. 如權(quán)利要求76所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述成像裝置第一部件為反射鏡，并且所述編碼器元件形成在所述反射鏡的背面上。
78. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述編碼器元件形成在安裝于所述成像裝置部件上的支架的表面上。
79. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中，所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第二部件能夠相對(duì)于彼 此運(yùn)動(dòng)，并且具有中央位置，在所述中央位置它們相對(duì)于彼此對(duì)中； 并且所述編碼器元件具有編碼器元件中心；所述編碼器元件和所述接收器被布置成使得在所述成像裝置第 一部件和所述成像裝置第二部件的所述中央位置處，所述接收器通過(guò)所述編碼器中心接收來(lái)自所述編碼器元件的所述光束。
80. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述基板具有外圓周，并且所述接收器靠近所述基板的所述外圓周。
81. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述接收器用來(lái)提供在至少兩個(gè)自由度中的位置信息。
82. 如權(quán)利要求81所述的光學(xué)成像裝置，其中所述編碼器元件 為二維光柵。
83. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述接收器為第一接收器，并且 所述編碼器裝置包括至少一個(gè)第二接收器；所述至少一個(gè)第二接收器位于離所述第一接收器一定距離的位置處。
84. 如權(quán)利要求83所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述基板具有一基板直徑，并且所述第一接收器和所述至少一個(gè)第二接收器之間的所述距離等 于所述基板直徑的至少 一半。
85. 如權(quán)利要求83所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第二接收器 與所述成像裝置第二部件直接機(jī)械連接。
86. 如權(quán)利要求8 3所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述光束為第一光束， 所述編碼器元件為第一編碼器元件，并且所述第二接收器通過(guò)所述第一編碼器元件和第二編碼器元件中的一個(gè)接收第二光束。
87. 如權(quán)利要求83所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述基板具有外圓周，并且所述第一接收器和所述至少一個(gè)第二接收器靠近所述基板的所 述外圓周。
88. 如權(quán)利要求87所述的光學(xué)成像裝置，其中所述第一接收器 和所述至少一個(gè)第二接收器基本上均勻分布在所述基板的所述外圓 周處。
89. 如權(quán)利要求83所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第二部件能夠相對(duì)于彼此運(yùn)動(dòng)并且具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍；所述編碼器裝置在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的至少第一部分上能夠通過(guò)所述第一接收器提供位置信息；所述編碼器裝置在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的至少第二部分上能夠通 過(guò)所述至少一個(gè)第二接收器提供位置信息；所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的所述第一部分和所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的所述 第二部分具有重疊部分。
90. 如權(quán)利要求83所述的光學(xué)成像裝置，其中， 設(shè)有多個(gè)接收器；所述多個(gè)接收器包括所述第一接收器和多個(gè)所述第二接收器； 所述編碼器裝置在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍上能夠在任意時(shí)刻通過(guò)所 述多個(gè)接收器中的至少兩個(gè)接收器來(lái)提供位置信息。
91. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中， 設(shè)有控制單元；所述控制單元與所述度量裝置連接，以接收所述成像裝置第一 部件和所述成像裝置第二部件之間的所述空間關(guān)系；所述控制單元在將所述圖案的所述圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上的過(guò) 程中根據(jù)從所述度量裝置接收到的所述空間關(guān)系來(lái)控制所述光學(xué)成像裝置的至少 一 個(gè)部件的位置。
92. 如權(quán)利要求70所述的光學(xué)成像裝置，其中所述掩模單元和 所述光學(xué)投影單元能夠使用EUV范圍中的光。
93. —種捕獲光學(xué)成像裝置的第一部件和第二部件之間的空間 關(guān)系的方法，該方法包才舌，提供光學(xué)成像裝置，該裝置包括用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收基板的基板單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板上；成像裝置第一部件，所述成像裝置第一部件為所述光學(xué)投 影單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件為所述掩模單元和所述基板單元中的 一個(gè)的部件；提供編碼器裝置，其包括直接與成像裝置第 一部件機(jī)械連接的 編碼器元件；以及捕獲步驟，其中使用所述編碼器裝置捕獲成像裝置第一部件和 成像裝置第二部件之間的空間關(guān)系，所述捕獲空間關(guān)系的步驟包括 通過(guò)所述編碼器元件接收并且評(píng)估朝著編碼器元件發(fā)射的光束的至少一部分。
94. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中，所述提供編碼器裝置的步驟包括提供發(fā)射所述光束的發(fā)射器和 接收所述光束的所述至少一部分的接收器，所述發(fā)射器和所述接收器中的至少一個(gè)與所述成像裝置第二部 件直接機(jī)械連接。
95. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中所述編碼器元件為光柵。
96. 如權(quán)利要求93所迷的方法，其中所述接收器使用所述光束 的所述被接收部分來(lái)提供在至少兩個(gè)自由度中的位置信息。
97. 如權(quán)利要求96所述的方法，其中所述編碼器元件為二維光樹(shù)o
98. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中所述成像裝置第一部件為所述光學(xué)元件單元的最靠近所述成像裝置第二部件的一個(gè)的部件。
99. 如權(quán)利要求93所迷的方法，其中， 所述成像裝置第一部件為反射鏡，并且所述編碼器元件形成在所述反射鏡的表面上。
100. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中， 所述光束為第一光束，并且所述捕獲所述空間關(guān)系的步驟包括通過(guò)編碼器元件接收并且評(píng) 估第二光束的至少一部分。
101. 如權(quán)利要求100所述的方法，其中，所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第二部件能夠在相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍內(nèi)相對(duì)于彼此運(yùn)動(dòng)，所述第一光束的至少一部分在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的至少第一部 分上被接收和評(píng)估，所述第二光束的至少一部分在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的至少第二部分上被接收和評(píng)估，所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的所述第一部分和所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍的所述 第二部分具有重疊部分。
102. 如權(quán)利要求100所述的方法，其中， 提供多條光束，每一條所述光束的至少一部分被接收， 所述多條光束包括所述第一光束和多條所述第二光束， 在所述相對(duì)運(yùn)動(dòng)范圍上，在任意時(shí)刻接收和評(píng)估所述多條光束中的至少兩條光束的至少 一部分。
103. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中根據(jù)在所述捕獲步驟中捕 獲的所述空間關(guān)系來(lái)控制所述光學(xué)成像裝置的至少 一個(gè)部件在將所 述圖案的所述圖像轉(zhuǎn)印到基板上的過(guò)程中的位置。
104. 如權(quán)利要求93所述的方法，其中所述掩模單元和所述光學(xué) 投影單元能夠使用EUV范圍內(nèi)的光。
105. —種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上的方法，該方法包括 轉(zhuǎn)印步驟，其中，使用光學(xué)成像裝置將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板上；在轉(zhuǎn)印步驟的捕獲步驟中，使用根據(jù)權(quán)利要求93所述的方法捕獲光學(xué)成像裝置的第 一部件和第二部件之間的空間關(guān)系；在轉(zhuǎn)印步驟的控制步驟中，根據(jù)在捕獲步驟中捕獲的第一部件 和第二部件之間的空間關(guān)系來(lái)控制所述光學(xué)成像裝置的至少一個(gè)部件的位置。
106. —種光學(xué)成像裝置，包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元； 用來(lái)接收至少一個(gè)目標(biāo)器件的目標(biāo)單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單元用來(lái)將所述圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述至少 一個(gè)目標(biāo)器件上；成像裝置第一部件，所述成像裝置第一部件為其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件與成像裝置第一部 件不同并且為所述掩模單元、所述光學(xué)投影單元和所述目標(biāo)單元中 的一個(gè)的部件；以及度量裝置，所述度量裝置捕獲所述成像裝置第一部件和所述成像裝置第二 部件之間的空間關(guān)系，所述度量裝置包括基準(zhǔn)元件，所述基準(zhǔn)元件直接與所述成像裝置第一部件機(jī)械連接。
107. 如權(quán)利要求106所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述目標(biāo)單元包括基板單元， 所述至少一個(gè)目標(biāo)器件為基板。
108. 如權(quán)利要求106所述的光學(xué)成像裝置，其中， 所述目標(biāo)單元包括圖像傳感器單元， 所述至少一個(gè)目標(biāo)器件為圖像傳感器器件。
109. 如權(quán)利要求106所述的光學(xué)成像裝置，其中，所述目標(biāo)單元包括用來(lái)接收基板的基板單元和用來(lái)接收?qǐng)D像傳 感器器件的圖像傳感器單元，所述目標(biāo)單元用來(lái)將所迷基板單元和所迷圖像傳感器單元選擇 性地安放到相對(duì)于所述光學(xué)投影單元的曝光位置中，在所述基板單元設(shè)置在所述曝光位置中時(shí)，將所述圖案的圖像 投射到接收在所述基板單元內(nèi)的所述基板上，在所述圖像傳感器單元設(shè)置在所述曝光位置中時(shí)，將所述圖案 的所述圖像投射到接收在所述圖像傳感器單元內(nèi)的所述圖像傳感器 器件上。
110. 如權(quán)利要求106所述的光學(xué)成像裝置，其中所述光學(xué)投影 單元使用EUV范圍內(nèi)的光。
111. 如權(quán)利要求106所述的光學(xué)成像裝置，其中所述目標(biāo)單元 的至少一部分設(shè)置在真空中。
112. —種捕獲光學(xué)成像裝置的第一部件和第二部件之間的空間 關(guān)系的方法，該方法包4舌提供光學(xué)成像裝置，它包括具有圖案的掩模單元； 包括目標(biāo)器件的目標(biāo)單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單 元用來(lái)將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述目標(biāo)器件上；成像裝置第一部件，所述成像裝置第一部件為其中一個(gè)光 學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件，所述成像裝置第二部件與所述成像裝 置第一部件不同并且為所述掩模單元、所述光學(xué)投影單元和所 述目標(biāo)單元中的一個(gè)的部件，提供基準(zhǔn)元件，所述基準(zhǔn)元件直接與成像裝置第一部件機(jī)械連 接，并且使用所述基準(zhǔn)元件捕獲所述成像裝置第一部件和所述成像裝置 第二部件之間的空間關(guān)系。
113. —種光學(xué)成像裝置，包括 用來(lái)接收?qǐng)D案的掩模單元；用來(lái)接收至少一個(gè)目標(biāo)器件的目標(biāo)單元；包括一組光學(xué)元件單元的光學(xué)投影單元，所述光學(xué)投影單用來(lái) 使用EUV范圍內(nèi)的光將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到所述至少 一個(gè)目標(biāo)器件上，所述目標(biāo)單元包括用來(lái)接收形成第一目標(biāo)器件的基板的基板單 元和用來(lái)接收形成第二目標(biāo)器件的圖像傳感器器件的圖像傳感器單 元，所述目標(biāo)單元用來(lái)將所述基板單元和所述圖像傳感器單元選擇 性地安放到相對(duì)于所述光學(xué)投影單元的曝光位置中，在將所述基板單元安放在曝光位置中時(shí)，將圖案的圖像投射到接收在所述基板單元內(nèi)的所述基板上，在將所述圖像傳感器單元安放在曝光位置中時(shí)，將圖案的圖像 投射到接收在所述圖像傳感器單元內(nèi)的所述圖像傳感器器件上。
114. 一種將圖案的圖像轉(zhuǎn)印到多個(gè)目標(biāo)器件上的方法，該方法包括將形成第一目標(biāo)器件的基板和形成第二目標(biāo)器件的圖像傳感器 器件選擇性地安放到相對(duì)于光學(xué)投影單元的曝光位置中，第一轉(zhuǎn)印步驟，其中在所述基板處于曝光位置中時(shí)，使用所述光學(xué)成像裝置并且使用EUV范圍內(nèi)的光將所述圖案的所述圖像轉(zhuǎn)印 到所述基板上，第二轉(zhuǎn)印步驟，其中在所述圖像傳感器器件處于曝光位置中時(shí)， 使用所述光學(xué)成像裝置并且使用EUV范圍內(nèi)的光將所述圖案的所述 圖像轉(zhuǎn)印到所述圖像傳感器器件上。
全文摘要
提供了一種光學(xué)成像裝置，它包括具有圖案(3.1)的掩模單元(3)；包括基板(4.1)的基板單元(4)；包括一組光學(xué)元件單元(5)的光學(xué)投影單元(2)，所述光學(xué)投影單元(2)用來(lái)將圖案(3.1)的圖像轉(zhuǎn)印到所述基板(4.1)上；成像裝置第一部件(8.1)，該成像裝置第一部件(8.1)為其中一個(gè)光學(xué)元件單元的部件；成像裝置第二部件(4.2)，該成像裝置第二部件(4.2)與成像裝置第一部件(8.1)不同并且為掩模單元(3)、光學(xué)投影單元(2)和基板單元(4)中的一個(gè)的部件；以及度量裝置(10)。度量裝置(10)捕獲在成像裝置第一部件(8.1)和成像裝置第二部件(4.2)之間的空間關(guān)系。度量裝置(10)包括基準(zhǔn)元件(10.2)，該基準(zhǔn)元件直接與成像裝置第一部件(8.1)機(jī)械連接。
文檔編號(hào)G02B7/00GK101248392SQ200680026579
公開(kāi)日2008年8月20日 申請(qǐng)日期2006年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月2日
發(fā)明者Y-B·P·克萬(wàn) 申請(qǐng)人:卡爾蔡思Smt股份公司