專(zhuān)利名稱(chēng)：反射式電潤(rùn)濕透鏡的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及反射式光閥。
背景技術(shù)：
反射式光閥在許多不同應(yīng)用中使用，以用于操縱和控制光波的方向。這種應(yīng)用的實(shí)例包括投影系統(tǒng)、投影顯示器和照明系統(tǒng)。
最普通類(lèi)型的反射式光閥由旋轉(zhuǎn)鏡構(gòu)成，該旋轉(zhuǎn)鏡根據(jù)其角位置沿理想方向反射入射光波。這種布置是公知的，且目前用于不同結(jié)構(gòu)中。旋轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例在US 4,934,781中給出。然而，這種配置明顯包括移動(dòng)部件，該移動(dòng)部件隨著時(shí)間的流逝將顯著磨損，由此導(dǎo)致性能下降。采用旋轉(zhuǎn)鏡的其它缺陷包括噪音和振動(dòng)。
因此，需要提出改進(jìn)的反射式光閥。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供可以減少上述問(wèn)題的改進(jìn)的反射式光閥。
該目的通過(guò)后附權(quán)利要求1中限定的呈反射式電潤(rùn)濕裝置(reflectiveelectrowetting device)形式的反射式光閥、權(quán)利要求7中限定的反射系統(tǒng)、以及權(quán)利要求8中限定的陣列實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的有利實(shí)施例在附加的從屬權(quán)利要求中限定。本發(fā)明還提供一種使用反射式電潤(rùn)濕裝置的方式。
因此，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種反射式電潤(rùn)濕裝置。該反射式電潤(rùn)濕裝置限定出用于光波的光路，并且包括流體腔室、至少兩個(gè)電極、潤(rùn)濕表面以及電潤(rùn)濕流體系統(tǒng)，該電潤(rùn)濕流體系統(tǒng)包含在所述流體腔室中并包括正面流體和背面流體。正面流體和背面流體具有不同的電學(xué)性能，并對(duì)于潤(rùn)濕表面具有不同的潤(rùn)濕性能，且通過(guò)彎月面(meniscus)分隔，該彎月面的形狀可通過(guò)施加于電極上的電場(chǎng)控制。該正面流體形成該光路的一部分，并且其折射率高于背面流體的折射率，從而使得通過(guò)彎月面以一定的反射角在光路中提供全反射，該反射角取決于彎月面的形狀和正面流體與背面流體的折射率之間的比值。因此，光路中的反射角可通過(guò)所述電場(chǎng)控制。
因此，本發(fā)明提供一種反射式電潤(rùn)濕裝置。其與最近給予更多關(guān)注的透射式電潤(rùn)濕裝置(例如透鏡)相對(duì)。透射式電潤(rùn)濕透鏡例如在WO03/069380中描述。在透射式電潤(rùn)濕透鏡中，彎月面典型地用于偏轉(zhuǎn)透過(guò)彎月面的光波。相反，在根據(jù)本發(fā)明的反射式電潤(rùn)濕裝置中，彎月面用于偏轉(zhuǎn)光波，以使得其被反射。換言之，在透射透鏡中，光波通過(guò)彎月面?zhèn)鞑ィ诜瓷溲b置中，光波被彎月面反射，并由此保持在彎月面的初始側(cè)。
照射彎月面的光的反射通過(guò)正面流體調(diào)節(jié)，該正面流體具有比背面流體更高的折射率，其中該正面流體為光通過(guò)其照射彎月面的流體，該背面流體留在彎月面的另一側(cè)。絕對(duì)垂直照射彎月面的光將始終透過(guò)彎月面。然而，根據(jù)折射率之間的比值大小，以足夠角度照射彎月面的光將被全反射或部分反射。折射率的差值越小，必須用于確保光的全反射的角度越大。
下面給出在折射率為ui的第一材料和折射率為ut的第二材料之間的界面上傳播的光的偏轉(zhuǎn)的一般公式uisinθi＝utsinθt(1)其中θi和θt分別為入射角和出射角，θ＝0°對(duì)應(yīng)于光垂直照射界面，并且θ＝90°對(duì)應(yīng)于光與界面平行地傳播。因此，θt＞90°對(duì)應(yīng)于光的全反射，意味著偏轉(zhuǎn)光被界面反射，并由此通過(guò)第一材料繼續(xù)傳播。對(duì)于θt求解公式(1)得出θt＝arcsine(ui/utsinθi)(2)因此，對(duì)于某些角度θi＜90°，假設(shè)ui＞ut，光將以角度θt＞90°全反射。全反射的角度θi的范圍從θi＝90°開(kāi)始，并根據(jù)ui/ut的大小包括一組較小的角度。例如，ui/ut＝3/2導(dǎo)致入射角在θi＝90°和θi＝45°之間的光的全反射(因?yàn)閟in45°＝2/3)。
根據(jù)上述公式(2)，反射光的角度(這里表示為反射角)取決于折射率的比值(ui/ut)以及入射角(θi)。然而，折射率的比值通常為一靜態(tài)參數(shù)(第一和第二材料的折射率在合理的操作環(huán)境下基本不變)。因此，反射角為入射角的直接函數(shù)。反過(guò)來(lái)，入射角取決于光波在反射裝置中的入射角以及彎月面的形狀。因此，通過(guò)利用電潤(rùn)濕力改變彎月面的形狀可以控制反射角。
根據(jù)本發(fā)明，已認(rèn)識(shí)到，這種效果可以被利用，以提供可控制的反射式電潤(rùn)濕裝置。與透射式電潤(rùn)濕透鏡相比，這種反射式電潤(rùn)濕裝置的不同之處在于，光路受透鏡腔室中的兩種流體之一的限制，并且這種特定流體必須具有比另一(背面)流體更高的折射率。
盡管反射式電潤(rùn)濕裝置的操作在概念上與透射式電潤(rùn)濕透鏡的操作不同，但是在兩種概念之間具有明顯的相似性。因此，當(dāng)涉及材料和流體等的選擇時(shí)，針對(duì)透射式電潤(rùn)濕透鏡的教導(dǎo)也可應(yīng)用于反射式電潤(rùn)濕透鏡中。
然而，在透射式電潤(rùn)濕透鏡中，透鏡的光路典型地布置成基本上垂直于彎月面的延長(zhǎng)線。相反，在反射式電潤(rùn)濕透鏡中，優(yōu)選相對(duì)于彎月面以一定角度布置透鏡的光路。這是由于僅僅對(duì)于以足夠角度照射彎月面的光才產(chǎn)生在彎月面處的光的全反射的緣故。
本發(fā)明對(duì)于彎月面的形狀提供了很大的自由度。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，彎月面具有大致矩形形狀，并且潤(rùn)濕表面被分隔成沿彎月面的周邊的兩個(gè)面對(duì)邊緣布置的兩個(gè)區(qū)域。因此，彎月面的形狀可以被控制，以?xún)H僅沿平行于電潤(rùn)濕表面區(qū)域的方向彎曲。這種配置的一個(gè)實(shí)例在下面參照?qǐng)D5給出。
根據(jù)另一實(shí)施例，潤(rùn)濕表面沿流體腔室的周邊包圍整個(gè)彎月面，從而使得彎月面的形狀可以被控制，以沿兩個(gè)垂直方向彎曲。例如，彎月面可以呈圓形，并且彎月面可在凸起形和凹入形之間控制。
根據(jù)又一實(shí)施例，附加電極沿彎月面的周邊布置，從而使得彎月面的形狀可通過(guò)施加于不同電極對(duì)之間的不同電場(chǎng)控制。這樣，可以在更大數(shù)量的一組形狀之間控制彎月面。此外，通過(guò)向各電極施加適宜的電勢(shì)，可以提供基本平坦的彎月面，其可根據(jù)在各電極處所施加的電勢(shì)傾斜。
因此，根據(jù)又一實(shí)施例，流體腔室、潤(rùn)濕表面以及電極這樣布置，以使得彎月面的形狀基本上是平坦的并可傾斜。
如上所述，光必須以足以產(chǎn)生全反射的角度照射彎月面(所需角度取決于流體的折射率之間的比值)。然而，以太小角度照射的一(小)部分的光也將被反射，而其余部分的光將透過(guò)彎月面。事實(shí)上，當(dāng)接近所需的入射角時(shí)，被反射的一部分光將增加。這種現(xiàn)象可被利用，以提供部分透射和部分反射裝置或在一種狀態(tài)下反射全部光、而在另一種狀態(tài)下透射大部分光的裝置。
因此，根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，彎月面可以被控制成具有這樣的形狀，以使得其中在光路中傳播的第一部分光在彎月面處被反射，并且在光路中傳播的第二部分光透過(guò)彎月面。
根據(jù)本發(fā)明的反射式電潤(rùn)濕裝置也可以被組合成反射裝置的系統(tǒng)。因此，本發(fā)明的另一方面提供一種包括至少兩個(gè)上述反射式電潤(rùn)濕裝置并具有互連光路的反射系統(tǒng)。因此，可以提供更為復(fù)雜的光路。例如，第一反射式電潤(rùn)濕裝置可以便于沿一個(gè)方向進(jìn)行控制，并且將光傳送到便于沿第二方向控制光的第二反射式電潤(rùn)濕裝置。
本發(fā)明的又一方面提供一種反射式電潤(rùn)濕裝置的陣列。該陣列包括至少兩個(gè)上述反射式電潤(rùn)濕裝置，該兩個(gè)反射式電潤(rùn)濕裝置一起形成一復(fù)合光路，每個(gè)反射式電潤(rùn)濕裝置構(gòu)成所述復(fù)合光路的一分離可控制子部。這種陣列例如可用于顯示裝置中，其中每個(gè)反射裝置可對(duì)應(yīng)于一圖像元素(像素)。
本發(fā)明的又一方面提供上述反射式電潤(rùn)濕裝置的用途，用于根據(jù)彎月面的形狀沿一方向反射照射所述彎月面的光波。


現(xiàn)在參照附加的示例性附圖進(jìn)一步描述本發(fā)明，其中圖1示出了一反射式電潤(rùn)濕裝置的橫截面圖，其中彎月面分別處于第一狀態(tài)(左)和第二狀態(tài)(右)，并且光路通過(guò)流體腔室的側(cè)壁布置。
圖2示出了一電潤(rùn)濕裝置的橫截面圖，其中光路通過(guò)流體腔室的頂面布置。
圖3示出了一反射式電潤(rùn)濕裝置的陣列的透視圖，其中每個(gè)裝置提供一復(fù)合光路的分離可控制子部。
圖4示出了一圓形反射式電潤(rùn)濕裝置的橫截面圖(左)和俯視圖(右)，該圓形反射式電潤(rùn)濕裝置具有沿彎月面的周邊布置的多個(gè)電極。
圖5示出了一矩形反射式電潤(rùn)濕裝置的透視圖，其中彎月面可控制，以基本上僅沿一個(gè)方向彎曲。
圖6示出了具有互連光路的兩個(gè)反射式電潤(rùn)濕裝置的系統(tǒng)。
具體實(shí)施例方式
為清楚起見(jiàn)，首先描述電潤(rùn)濕裝置的基本機(jī)理。總的構(gòu)思在于采用兩種力、即疏液力和靜電力的結(jié)合。
疏液力為通過(guò)溶劑排斥表面對(duì)溶劑產(chǎn)生的力。對(duì)于水基溶劑而言，該機(jī)理通常被稱(chēng)作是疏水的。例如，上過(guò)蠟的表面一般是斥水的，并因此是疏水的。
靜電力為由相互吸引或排斥的電荷所產(chǎn)生的力。
電潤(rùn)濕裝置的總構(gòu)思是形成由兩種不混溶(或不相溶)的流體構(gòu)成的流體系統(tǒng)，該兩種不混溶的流體具有不同的靜電性能，并且相對(duì)于疏液表面表現(xiàn)出不同的行為。在一基本結(jié)構(gòu)中，該裝置包括流體腔室，該流體腔室包含流體系統(tǒng)并具有布置在其內(nèi)表面處的疏液部分。疏液部分被這樣布置，以使得流體系統(tǒng)具有一獨(dú)特的靜止位置，并因此具有分隔流體的獨(dú)特彎月面形狀。該流體例如可為油和水，并且于是疏液部分優(yōu)選地是疏水的。例如，流體腔室的一半內(nèi)表面可以是疏水的，其余的內(nèi)表面可以相對(duì)于該兩種流體是中性的。因此，水將位于腔室的中性部分中，并且油將位于腔室的疏水部分中。
流體的不同靜電特性使得一種流體是導(dǎo)電的并因而被電場(chǎng)吸引，而另一種流體是不導(dǎo)電的(或者至少基本上不導(dǎo)電)并因而不受電場(chǎng)影響。
除了疏液表面部分之外，在腔室中布置有電極。電極被布置成使得在導(dǎo)電流體上施加電勢(shì)。這種場(chǎng)的施加將朝著電極吸引導(dǎo)電流體，因此在流體系統(tǒng)中產(chǎn)生將改變流體的位置以及變彎月面的形狀的附加力。因此，通過(guò)簡(jiǎn)單地施加電場(chǎng)而不使用任何移動(dòng)部件，可以移動(dòng)流體以及改變彎月面的形狀。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的反射式電潤(rùn)濕裝置100的一實(shí)施例的示意性橫截面圖。該反射式電潤(rùn)濕裝置100包括含有兩種不混溶的流體、即正面流體106和背面流體105的圓柱形流體腔室。該流體腔室具有圓柱形壁102、上側(cè)壁111和下側(cè)壁101。該圓柱形壁帶有圓柱形電極103和圍繞其周邊的潤(rùn)濕表面107。潤(rùn)濕表面107面對(duì)圓柱體的內(nèi)部并對(duì)于兩種不混溶的流體105、106具有不同的潤(rùn)濕性能。
正面流體106和背面流體105通過(guò)彎月面108分隔(或分離)。正面流體106的折射率高于背面流體105的折射率。此外，該不混溶的流體中的一種流體是導(dǎo)電的，而另一種流體基本上不導(dǎo)電。另外，該不混溶的流體對(duì)于潤(rùn)濕表面107具有不同的潤(rùn)濕性能。兩種不混溶的流體例如可由硅油和鹽水(溶解有NaCl的水)形成。根據(jù)所選擇的特定硅油和水的鹽度，具有最高折射率的流體應(yīng)當(dāng)為正面流體。
兩種不混溶的流體和流體腔室的配置可以被設(shè)計(jì)為非常類(lèi)似于透射式電潤(rùn)濕透鏡中已知的配置。
圖1所示的左手側(cè)橫截面圖表示具有分隔兩種流體的凸起形彎月面108的反射式電潤(rùn)濕裝置。根據(jù)在彎月面上的入射點(diǎn)，光線在相對(duì)大和相對(duì)小的反射角之間散射。圖中的虛線箭頭110示出了以相對(duì)小的角度反射的一特定光線，因?yàn)樗鼛缀醮怪闭丈鋸澰旅?，虛線箭頭111示出了以陡得多的角度反射的平行入射光線，因?yàn)槠湓诓煌恢谜丈鋸澰旅妗?br> 圖1所示的反射式電潤(rùn)濕裝置限定出穿過(guò)圓柱形壁102、圓柱形電極103和潤(rùn)濕表面107的光路。因此，這種設(shè)計(jì)要求這些元件具有一定的光學(xué)性能(即，在裝置的壽命期間是透明的)。這對(duì)于一些應(yīng)用而言可能是不利的。
圖2示出了一種替換反射式電潤(rùn)濕裝置，其中光路改為通過(guò)頂壁111照射。因此，僅僅要求頂壁111具有一定的光學(xué)性能，并且側(cè)壁可以不考慮光學(xué)性能而由任何材料制造。在圖2中，與圖1中公開(kāi)的內(nèi)容相同的特征和元件的附圖標(biāo)記增加100(即，101由201表示等)。
很顯然，也可以將光路布置成穿過(guò)部分頂壁111以及部分圓柱形壁102。
采用如圖2所示的裝置，通過(guò)使其光路僅僅穿過(guò)頂壁，可以很容易布置地可獨(dú)立控制的反射器陣列，如圖3所示，其中三個(gè)分離反射器301布置在一反射器陣列300中。
從上面可以看出，根據(jù)正面和背面流體的折射率的比值，對(duì)于在一定角度內(nèi)照射彎月面的光可以實(shí)現(xiàn)全反射。由于該比值不可能無(wú)窮大，總會(huì)有以0°(垂直于彎月面)為中心的角度范圍，在該角度范圍內(nèi)不能實(shí)現(xiàn)全反射。折射率之間的比值越小，該組角度將越大(因此，要求入射光以更平行于彎月面的角度照射彎月面)。
然而，為了產(chǎn)生全反射以太小的入射角照射彎月面的光無(wú)論如何通?？傇谀撤N程度上被反射。因此，即使在為全反射而提供的角度范圍外，也可以控制反射角，應(yīng)當(dāng)記住，只是小部分光將被反射。根據(jù)背面流體的光學(xué)特性，其余的光將透過(guò)背面流體或在背面流體中被吸收。
在期望反射一些光并透射一些光的應(yīng)用中，可以利用部分反射。在這種應(yīng)用中，如在普通透射式電潤(rùn)濕透鏡中那樣，透射光通常被彎月面偏轉(zhuǎn)。
以適宜的方式布置流體腔室、潤(rùn)濕表面和電極可提供不同彎月面形狀的大空間。圖4示出了利用該事實(shí)的一實(shí)施例的俯視圖(右)和側(cè)視圖(左)。如圖4所示，圓柱形流體腔室401可以安裝多個(gè)周邊電極402。因此，可以以很大的自由度改變彎月面的形狀。例如，彎月面可以以任意角度傾斜，同時(shí)保持表面的平整度幾乎不受影響。因此，可以相對(duì)于x和y方向沿任意方向反射光而不散射光。在圖4中，示出了三種不同的彎月面設(shè)定形式(A、B和C)。
圖5示出了又一替換彎月面形狀，其中流體腔室501呈矩形，且潤(rùn)濕表面502僅僅布置在兩個(gè)相對(duì)側(cè)壁處。因此，可以沿與潤(rùn)濕表面平行的軸線(圖5中的x軸)使彎月面彎曲。在圖5中，示出了兩種不同的彎月面狀態(tài)(A和B)。這樣，有助于操縱以線的形式、而非點(diǎn)的形式照射到裝置上的光。結(jié)果，入射光可沿一個(gè)方向(圖5中的y方向)散射，但在另一方向(圖5中的x方向)上不受影響。
此外，參照?qǐng)D6，可以布置相互關(guān)聯(lián)的反射裝置的系統(tǒng)。在圖6中，布置兩個(gè)反射裝置，第一反射器601被布置成沿第一方向(這里為x方向)操縱光，第二反射器602被布置成沿第二方向(這里為y方向)操縱光。第一反射器601可以為圖1或2所示類(lèi)型的反射器，第二反射器602可以為圖5所示類(lèi)型的反射器。因此，可以利用更簡(jiǎn)單的元件實(shí)現(xiàn)二維精確操縱。當(dāng)然，也可以利用如圖3所示的反射器進(jìn)行二維操縱。但是，圖3所示的配置比僅具有兩個(gè)電極的配置制造起來(lái)更復(fù)雜。(對(duì)于圖1、2和4所示的配置而言，兩個(gè)電極已經(jīng)足夠。)該反射式電潤(rùn)濕裝置可以用于許多應(yīng)用中。例如，傳統(tǒng)上使用旋轉(zhuǎn)鏡的許多應(yīng)用可以受益于本發(fā)明提供的優(yōu)點(diǎn)。例如，該反射式電潤(rùn)濕裝置可以用于(條形碼)掃描器、顯示器(投影裝置)、通信裝置和照明裝置。
總之，本發(fā)明提供一種反射式電潤(rùn)濕裝置200，其包括流體腔室，該流體腔室含有被彎月面208分隔的兩種不混溶的流體205、206。該流體腔室還包括電極203、204和對(duì)于兩種不混溶的流體205、206具有不同潤(rùn)濕性能的潤(rùn)濕表面207。通過(guò)疏液力和靜電力的相互作用提供的電潤(rùn)濕力被利用，以控制彎月面208，從而使得照射彎月面的光210、212在彎月面處被全反射地反射。此外，本發(fā)明還提供了這種反射式電潤(rùn)濕裝置的系統(tǒng)和陣列。
權(quán)利要求
1.反射式電潤(rùn)濕裝置(100；200)，其限定出用于光波(110，112；210，212)的光路，并包括流體腔室、至少兩個(gè)電極(103，104；203，204)、潤(rùn)濕表面(107；207)、以及電潤(rùn)濕流體系統(tǒng)，該電潤(rùn)濕流體系統(tǒng)包含在所述流體腔室中并包括正面流體(106；206)和背面流體(105；205)，所述正面流體(106；206)和背面流體(105；105)具有不同的電學(xué)性能，并對(duì)于該潤(rùn)濕表面(107；207)具有不同的潤(rùn)濕性能，且通過(guò)該彎月面(108；208)分隔，該彎月面(108；208)的形狀可通過(guò)施加于所述電極(103，104；203，204)上的電場(chǎng)控制，所述正面流體(106；206)形成所述光路的一部分，并且其折射率高于所述背面流體(105；205)的折射率，從而使得通過(guò)該彎月面(108；208)以一定的反射角在該光路中提供全反射，該反射角取決于該彎月面(108；208)的形狀以及該正面和背面流體(106，105；206，205)的折射率之間的比值，由此該光路中的反射角可通過(guò)所述電場(chǎng)控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置，其特征在于，該彎月面具有大致矩形形狀，并且該潤(rùn)濕表面(502)被分隔成沿該彎月面的周邊的兩個(gè)面對(duì)邊緣布置的兩個(gè)區(qū)域，從而使得該彎月面的形狀可被控制為僅沿平行于該潤(rùn)濕表面區(qū)域的方向彎曲(A，B)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置(100；200)，其特征在于，該潤(rùn)濕表面(107；207)沿該流體腔室的周邊包圍整個(gè)彎月面(108；208)，從而使得該彎月面(108；208)的形狀可被控制為沿兩個(gè)垂直方向彎曲。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置，其特征在于，包括沿該彎月面的周邊布置的附加電極(402)，從而使得該彎月面的形狀可被施加于不同電極對(duì)之間的不同電場(chǎng)控制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置，其特征在于，該流體腔室(401)、該潤(rùn)濕表面、以及該電極(402)被布置成使得該彎月面的形狀基本上是平坦的并可傾斜(A、B、C)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置(100；200)，其特征在于，該彎月面(108；208)可被控制成具有這樣的形狀，以使得其中在該光路中傳播的第一部分光在該彎月面處被反射，并且在該光路中傳播的第二部分光透過(guò)該彎月面。
7.反射系統(tǒng)(60)，其包括至少兩個(gè)如權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置(601，602)并具有互連光路。
8.反射式電潤(rùn)濕裝置的陣列(300)，其包括至少兩個(gè)如權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置(310)，該至少兩個(gè)反射式電潤(rùn)濕裝置(310)共同形成一復(fù)合光路，其中每個(gè)電潤(rùn)濕裝置構(gòu)成所述復(fù)合光路的一分離可控制子部。
9.如權(quán)利要求1所述的反射式電潤(rùn)濕裝置的用途，用于根據(jù)彎月面的形狀沿一方向反射照射所述彎月面的光波。
全文摘要
本發(fā)明提供一種反射式電潤(rùn)濕裝置(200)，其包括流體腔室，該流體腔室包含被彎月面(208)分隔的兩種不混溶的流體(205，206)；該流體腔室還包括電極(203，204)和潤(rùn)濕表面(207)，該潤(rùn)濕表面(207)對(duì)于該兩種不混溶的流體(205，206)具有不同的潤(rùn)濕性能；通過(guò)疏液力和靜電力的相互作用提供的電潤(rùn)濕力被利用，以控制該彎月面(208)，從而使得照射該彎月面的光(210，212)在該彎月面上被全反射地反射。本發(fā)明還提供了這種反射式電潤(rùn)濕裝置的系統(tǒng)和陣列。
文檔編號(hào)G02F1/01GK101014895SQ200580030158
公開(kāi)日2007年8月8日 申請(qǐng)日期2005年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月9日
發(fā)明者克里斯托夫·多布魯斯金 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司