專利名稱：光圈及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種光圈及其制作方法，尤其是關(guān)于一種可過濾紅外線或紫外線的光圈及其制作方法。
背景技術(shù)：
隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展，數(shù)碼相機(jī)、攝影機(jī)越來越為廣大消費(fèi)者青睞，在人們對(duì)數(shù)碼相機(jī)、攝影機(jī)追求小型化的同時(shí)，對(duì)其拍攝物體的影像質(zhì)量提出更高要求。
數(shù)碼相機(jī)一般包括透鏡或透鏡組及影像感測(cè)元件CCD(電荷耦合器Charge Coupled Device，下稱CCD)或CMOS(補(bǔ)充性氧化金屬半導(dǎo)體Complementary Metal-Oxide Semiconductor，下稱CMOS)，由于CCD或CMOS影像感測(cè)元件的波長感應(yīng)光譜范圍約為350～1500nm，而可見光的波長范圍為400～700nm，波長范圍大于700nm～1000000nm為紅外線波長范圍，即CCD或CMOS影像感測(cè)元件不僅可感測(cè)到可見光，而且也可感測(cè)到部分紅外線，因而使拍攝的影像受紅外線的干擾產(chǎn)生噪聲，導(dǎo)致色彩失真。
為解決上述色彩失真的問題，一般數(shù)碼相機(jī)通過一紅外截止濾光片來濾除照射至CCD或CMOS影像感測(cè)元件的紅外光，該紅外截止濾光片通常由一透明基板鍍覆相應(yīng)膜層形成，用以阻止紅外線通過，避免在正常拍攝時(shí)紅外線入射至影像感測(cè)元件干擾產(chǎn)生噪點(diǎn)，以利于色彩還原。
此外，數(shù)碼相機(jī)中需通過一光圈的開孔大小來控制進(jìn)光量，其與紅外截止濾光片同為數(shù)碼相機(jī)的必備組件。然而，現(xiàn)有技術(shù)中，由于紅外截止濾光片及光圈均具一定厚度，上述組件堆疊一起，使得產(chǎn)品的厚度增大，難以滿足數(shù)碼相機(jī)模塊的小型化的需求。

發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種可過濾光線的光圈；此外，有必要提供一種可過濾光線的光圈制作方法。
一種光圈，該光圈包括一基體；至少一可以過濾光線的膜層及一遮光層，該光圈具有一中心透光區(qū)，該膜層及遮光層設(shè)于該基體表面。
一種光圈制作方法，該光圈制作方法包括提供一基體；在基體的至少一側(cè)鍍覆至少一可過濾光線的膜層；在該膜層上涂覆一遮光層；在該遮光層上成型若干透光區(qū)；以每一透光區(qū)的中心切割該基體。
相較現(xiàn)有技術(shù)，該光圈不僅可以控制數(shù)碼相機(jī)的通光量，而且可以過濾被攝物反射光線中的紅光線或紫外線，提高了成像質(zhì)量。具有該光圈的數(shù)碼相機(jī)因具有該光圈，可省去一濾光片，減小了該數(shù)碼相機(jī)的厚度。
相較現(xiàn)有技術(shù)，該光圈制作方法不僅生產(chǎn)率高，且制作簡(jiǎn)單，降低了生產(chǎn)成本。

圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈制作方法的基體立體圖；圖3是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈制作方法的基體鍍膜后的立體圖；圖4是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈制作方法的基體鍍有遮蔽層的立體圖；圖5是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈制作方法的曝光顯影后的立體圖；圖6是本發(fā)明圖5沿VI-VI的剖示圖；圖7是本發(fā)明圖5沿VII-VII被切割后的立體圖；圖8是本發(fā)明較佳實(shí)施方式光圈制作方法的沖壓示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明較佳實(shí)施方式的光圈應(yīng)用在數(shù)碼相機(jī)內(nèi)，用以控制通光量，并可過濾被攝物體反射光線中的紅外線。
請(qǐng)參見圖1，該光圈10為一固定光圈，其大致為圓盤狀。該光圈10包括一基體12、一膜層14及一遮光層16。
該基體12大致為圓盤狀，其由高透光性的玻璃材料或塑膠材料制成，如采用B270或BK7等玻璃材料，也可采用聚碳酸脂(Polycarbonate，以下簡(jiǎn)稱PC)、環(huán)烯烴共聚物(Cyclo Olefin Compolymercoc，以下簡(jiǎn)稱COC)或環(huán)烯共聚物(Cyclo Olefin Polymer，以下簡(jiǎn)稱COP)等塑膠材料。
該膜層14鍍覆在該基體12的上面，其在該基體12的表面通過多層鍍膜工藝而形成。該膜層14可過濾被攝物反射光線中的紅外線或紫外線，從而提高數(shù)碼相機(jī)的成像品質(zhì)。
該遮光層16設(shè)在該膜層14的上面，其由不透光的光阻劑組成。該遮光層16僅形成在該膜層14的四周表面上，從而在該膜層14的中部形成一可層16僅形成在該膜層14的四周表面上，從而在該膜層14的中部形成一可透光的透光區(qū)162。該透光區(qū)162大致為圓形，其可使光線通過，該透光區(qū)162的直徑大小可依所需數(shù)碼相機(jī)鏡頭的通光量加以調(diào)整，以控制通光量。
該光圈10不僅可控制數(shù)碼相機(jī)的通光量，且可過濾被攝物反射光線中的紅外線或紫外線，提高了成像質(zhì)量的同時(shí)，且省去了一紅外截止濾光片，減小了數(shù)碼相機(jī)的體積。
為制造光圈10，本發(fā)明較佳實(shí)施方式的光圈制作方法如下請(qǐng)參見圖2，首先提供一基體12，該基體12可由玻璃或塑膠等高透光性材質(zhì)制成。如采用玻璃材料，其可為無色光學(xué)玻璃B270或光學(xué)玻璃BK7。如采用塑膠材料，其可為聚碳酸脂(Polycarbonate，以下簡(jiǎn)稱PC)、環(huán)烯烴共聚物(Cyclo Olefin Compolymercoc，以下簡(jiǎn)稱COC)或環(huán)烯共聚物(CycloOlefin Polymer，以下簡(jiǎn)稱COP)等。為批量化生產(chǎn)，該基體12可為一長方形板狀，通過該基體12，可批量生產(chǎn)若干光圈。
請(qǐng)參見圖3，在該基體12上通過蒸鍍方式鍍覆一層或多層紅外截止濾光薄膜或其它所需的濾光薄膜，從而形成一膜層14。
請(qǐng)參見圖4，在該膜層14上通過旋轉(zhuǎn)涂布(Spin-Coating)方式涂上一層不透光的光阻劑，該光阻劑覆蓋整個(gè)膜層12的表面，從而形成一遮光層16。
請(qǐng)參見圖5及圖6，通過曝光顯影方式在該遮光層16上形成若干與所需鏡頭的光圈孔徑相同的透光區(qū)162，該透光區(qū)162形成一陣列，每一透光區(qū)162是去除該遮光層16的部分所得。因?yàn)樵撏腹鈪^(qū)162的成型方法采用曝光顯影方式，因此該透光區(qū)162的孔徑可小到幾十微米，適合應(yīng)用在小型鏡頭的光圈。
將形成有膜層14及遮光層16的基體12切割，請(qǐng)參見第圖7，首先將該板狀的基體12切割成條狀，其上的透光區(qū)162排成一排。請(qǐng)參見圖8，已切割好的基體12再通過沖頭20切割成與本發(fā)明光圈10相當(dāng)?shù)男螤罴按笮?，從而完成該光?0的制備。
可以理解，該光圈的切割方式也可將基體12切割成方形，再通過研磨工藝將切割物磨成所需的圓形光圈形狀。
可以理解，該光圈10可作為一濾光片應(yīng)用在數(shù)碼相機(jī)中。
可以理解，該膜層14可設(shè)在該基體12的二側(cè)，該膜層14可采用多個(gè)膜層來過濾光線內(nèi)的紅外線或紫外線。
可以理解，該膜層14可僅設(shè)在該基體12的中部，而遮光層16僅設(shè)在基體10未設(shè)膜層14的位置。
可以理解，可直接在該基體12上設(shè)置遮光層16，再將該遮光層16的中部去除，并于該去除部分設(shè)置膜層14。
可以理解，該遮光層16并不限于設(shè)在該膜層14的四周，可部分設(shè)置在該膜層的鄰近四周處，而未設(shè)有遮光層16的膜層14外周可通過鏡筒的內(nèi)徑來阻擋光線通過。
可以理解，該遮光層16設(shè)在該基體12的一側(cè)，而該膜層14設(shè)在該基體12的另一側(cè)。
可以理解，該遮光層16的透光區(qū)162形成方式也可直接在該膜層14的四周涂覆，而該膜層14的中部不需涂覆。
權(quán)利要求
1.一種光圈，其特征在于該光圈包括一基體；至少一可以過濾光線的膜層及一遮光層，該光圈具有一中心透光區(qū)，該膜層及遮光層設(shè)于該基體表面。
2.如權(quán)利要求1所述的光圈，其特征在于該基體由玻璃或塑膠材料制成。
3.如權(quán)利要求2所述的光圈，其特征在于該基體的材料為無色光學(xué)玻璃或光學(xué)玻璃。
4.如權(quán)利要求2所述的光圈，其特征在于該基體的材料為聚碳酸脂、環(huán)烯烴共聚物及環(huán)烯共聚物中的任一種。
5.如權(quán)利要求1所述的光圈，其特征在于該膜層為一紅外截止濾光膜。
6.如權(quán)利要求1所述的光圈，其特征在于該遮光層由一層不透光的光阻劑組成。
7.如權(quán)利要求1所述的光圈，其特征在于該膜層設(shè)在該基體至少一側(cè)的表面。
8.如權(quán)利要求7所述的光圈，其特征在于該遮光層設(shè)在該膜層的四周邊緣。
9.如權(quán)利要求1所述的光圈，其特征在于該遮光層設(shè)于該基體的一側(cè)，該膜層設(shè)在該基體的另一側(cè)。
10.一種光圈的制作方法，其特征在于該光圈的制作方法包括提供一基體；在基體的至少一側(cè)鍍覆一可過濾光線的膜層；在該膜層上或與該膜層相對(duì)的基體另一側(cè)上鍍覆一遮光層；在該遮光層上成型若干透光區(qū)；以每一透光區(qū)為中心切割該基體。
11.如權(quán)利要求10所述的光圈制作方法，其特征在于該膜層通過蒸鍍方式鍍覆在該基體上。
12.如權(quán)利要求10所述的光圈制作方法，其特征在于該遮光層由旋轉(zhuǎn)涂布方式鍍覆在該膜層上。
13.如權(quán)利要求10所述的光圈制作方法，其特征在于該透光區(qū)是在遮光層上通過曝光顯影方式所形成。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于一種光圈及其制作方法，該光圈包括一基體、至少一可以過濾光線的膜層及一遮光層，該遮光層具有一中心透光區(qū)，該膜層及該遮光層設(shè)在該基體表面。該光圈不僅可以控制數(shù)碼相機(jī)的通光量，而且可以過濾被攝物反射光線中的紅光線或紫外線，提高了成像質(zhì)量。具有該光圈的數(shù)碼相機(jī)可省去一濾光片，減小了該數(shù)碼相機(jī)的厚度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1979321SQ200510102000
公開日2007年6月13日 申請(qǐng)日期2005年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月2日
發(fā)明者張仁淙 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司