本發(fā)明涉及轉(zhuǎn)印工藝，尤其涉及一種紋理轉(zhuǎn)印膜及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、隨著信息技術(shù)的進(jìn)步與發(fā)展，手機(jī)、平板、筆記本電腦等智能終端產(chǎn)品已深度融合人類社會(huì)的信息交流，隨著設(shè)計(jì)美學(xué)的發(fā)展，各大廠商愈發(fā)傾向于提升產(chǎn)品的外觀設(shè)計(jì)作為吸引消費(fèi)者的關(guān)鍵，其中，光學(xué)紋理的應(yīng)用是通過(guò)構(gòu)建紋理使光波發(fā)生折射、漫反射、衍射或干涉等，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)各種變化豐富的炫酷光影效果。

2、轉(zhuǎn)印工藝是利用轉(zhuǎn)印膠水與紋理模板不粘的特性，將各類紋理效果通過(guò)轉(zhuǎn)印工藝轉(zhuǎn)移到pc、pmma片材或pet材料上，從而作出包括但不限于cd紋、拉絲紋、太陽(yáng)紋、批花紋、編織紋、噴砂紋、皮紋、木紋、3d面、幻彩效果、鼓包效果、貓眼效果、啞面、亮面、高亮面效果，廣泛應(yīng)用于裝飾片、外殼、視窗、鏡片、logo等，讓產(chǎn)品外表?yè)碛胸S富多彩的2d、3d外觀紋理圖案效果，而不再局限于傳統(tǒng)的印刷、噴涂紋理效果。

3、以手機(jī)后蓋為例，不論是玻璃或復(fù)合材質(zhì)，為了達(dá)到3d、磨砂、星空漸變等絢麗的外觀效果和質(zhì)感，都需要增加紋理層的設(shè)計(jì)，廠商及消費(fèi)者已將視線更多地轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品的外觀顏值上，紋理設(shè)計(jì)、轉(zhuǎn)印工藝具有廣闊的應(yīng)用前景，但現(xiàn)有技術(shù)依然存對(duì)其發(fā)展限制的問(wèn)題。

4、現(xiàn)有轉(zhuǎn)印膜具有載體層、第一膠體層、第二膠體層以及接著層，以抽真空及加熱方式使得接著層粘接在產(chǎn)品外表上，冷卻后撕下轉(zhuǎn)印膜，則接著層以及第二膠體層轉(zhuǎn)印在產(chǎn)品外表上，其中，第一膠體層具有紋理，紋理是通過(guò)紋理模板壓印在第一膠體層上，后在第一膠體層上平鋪第二膠體層，則第二膠體層冷卻后形成與第一膠體層上紋理對(duì)應(yīng)的紋理，我們發(fā)現(xiàn)轉(zhuǎn)印的紋理在產(chǎn)品日常使用過(guò)程中產(chǎn)生磨擦容易形成劃痕，從而破壞紋理，存在不耐刮的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是提出一種紋理轉(zhuǎn)印膜及其制備方法，克服紋理容易形成劃痕以及不耐刮的問(wèn)題。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

3、一種紋理轉(zhuǎn)印膜，包括：

4、載體層，一側(cè)具有第一紋理；

5、透明硬化層，設(shè)置在載體層具有第一紋理的一側(cè)；

6、接著層，設(shè)置在透明硬化層遠(yuǎn)離載體層的一側(cè)；

7、其中，透明硬化層采用透明硬化膠涂布在載體層上固化形成，則透明硬化層朝向載體層具有第一紋理的一側(cè)對(duì)應(yīng)形成第一紋理，透明硬化層另一側(cè)具有第二紋理，接著層為接著膠成型，加熱激活后處于熔融狀態(tài)。

8、優(yōu)選地，載體層為一薄膜，在載體層的一側(cè)設(shè)置底涂層，第一紋理設(shè)置在底涂層上。

9、優(yōu)選地，在透明硬化層遠(yuǎn)離載體層的一側(cè)設(shè)置第一架橋?qū)樱诙y理成型在第一架橋?qū)由?，第一架橋?qū)舆h(yuǎn)離透明硬化層的一側(cè)設(shè)置第二架橋?qū)?，第二架橋?qū)舆h(yuǎn)離第一架橋?qū)拥囊粋?cè)設(shè)置電鍍層。

10、優(yōu)選地，電鍍層遠(yuǎn)離透明硬化層的一側(cè)設(shè)置印刷層，印刷層遠(yuǎn)離電鍍層的一側(cè)設(shè)置蓋底層，接著層設(shè)置在蓋底層遠(yuǎn)離印刷層的一側(cè)。

11、一種紋理轉(zhuǎn)印膜制備方法，制備所述的紋理轉(zhuǎn)印膜，包括以下步驟：

12、準(zhǔn)備原膜作為載體層；

13、采用涂布機(jī)在載體層上涂布形成底涂層；

14、采用涂布機(jī)在底涂層涂一層具有離型力的uv紋理膠，采用預(yù)先設(shè)定的光學(xué)紋理模板粘接裹覆在輥輪上，壓制后再過(guò)紫外線照射使其固化而具有附在底涂層一側(cè)的第一紋理；

15、采用涂布機(jī)將透明硬化膠涂布在第一紋理上；

16、將第一架橋?qū)悠戒佋谕该饔不瘜由?，采用涂布機(jī)在第一架橋?qū)油坎家粚觰v紋理膠，采用預(yù)先設(shè)定的光學(xué)紋理模板粘接裹覆在輥輪上，壓制后再過(guò)紫外線照射使其固化而具有附在第一架橋?qū)右粋?cè)的第二紋理，以使光學(xué)紋理模板上的紋理圖案充分展示在第一架橋?qū)由希?/p>

17、將第二架橋?qū)悠戒佋诘诙y理上，再以蒸鍍或?yàn)R鍍制程在第二架橋?qū)由闲纬呻婂儗樱?/p>

18、以印刷制程在電鍍層上形成印刷層；

19、以印刷制程在印刷層上形成蓋底層；

20、采用涂布機(jī)在蓋底層上涂布形成接著層。

21、一種紋理轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印方法，采用所述的紋理轉(zhuǎn)印膜，包括以下步驟：

22、選取待轉(zhuǎn)印的產(chǎn)品，將產(chǎn)品所需轉(zhuǎn)印的表面對(duì)應(yīng)于紋理轉(zhuǎn)印膜；

23、將紋理轉(zhuǎn)印膜覆蓋在產(chǎn)品所需轉(zhuǎn)印的表面，采用抽真空加熱的方式使接著層激活并處于熔融狀態(tài)，接著層粘接在產(chǎn)品所需轉(zhuǎn)印的表面，冷卻后接著層固化使其牢固粘接在產(chǎn)品上，撕下紋理轉(zhuǎn)印膜，則含有第一紋理、第二紋理的透明硬化層至接觸層轉(zhuǎn)印至產(chǎn)品上。

24、相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的有益效果為：

25、本發(fā)明通過(guò)激活接著層使其熔融狀態(tài)下覆蓋在產(chǎn)品上，固化后轉(zhuǎn)印至產(chǎn)品上的透明硬化層外側(cè)為第一紋理，內(nèi)側(cè)為第二紋理，透明硬化層為透明狀態(tài)，可以展示向外內(nèi)側(cè)的第二紋理，同時(shí)起到對(duì)第二紋理保護(hù)作用避免被破壞，防止第二紋理出現(xiàn)劃痕且耐刮。

技術(shù)特征：

1.一種紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，載體層(1)為一薄膜，在載體層(1)的一側(cè)設(shè)置底涂層(6)，第一紋理(2)設(shè)置在底涂層(6)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，在透明硬化層(3)遠(yuǎn)離載體層(1)的一側(cè)設(shè)置第一架橋?qū)?7)，第二紋理(5)成型在第一架橋?qū)?7)上，第一架橋?qū)?7)遠(yuǎn)離透明硬化層(3)的一側(cè)設(shè)置第二架橋?qū)?8)，第二架橋?qū)?8)遠(yuǎn)離第一架橋?qū)?7)的一側(cè)設(shè)置電鍍層(9)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，電鍍層(9)遠(yuǎn)離透明硬化層(3)的一側(cè)設(shè)置印刷層(10)，印刷層(10)遠(yuǎn)離電鍍層(9)的一側(cè)設(shè)置蓋底層(11)，接著層(4)設(shè)置在蓋底層(11)遠(yuǎn)離印刷層(10)的一側(cè)。

5.一種紋理轉(zhuǎn)印膜制備方法，制備權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，包括以下步驟：

6.一種紋理轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印方法，采用權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的紋理轉(zhuǎn)印膜，其特征在于，包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種紋理轉(zhuǎn)印膜及其制備方法，包括：載體層，一側(cè)具有第一紋理；透明硬化層，設(shè)置在載體層具有第一紋理的一側(cè)；接著層，設(shè)置在透明硬化層遠(yuǎn)離載體層的一側(cè)；其中，透明硬化層采用透明硬化膠涂布在載體層上固化形成，則透明硬化層朝向載體層具有第一紋理的一側(cè)對(duì)應(yīng)形成第一紋理，透明硬化層另一側(cè)具有第二紋理，接著層為接著膠成型，加熱激活后處于熔融狀態(tài)。本發(fā)明通過(guò)激活接著層使其熔融狀態(tài)下覆蓋在產(chǎn)品上，固化后轉(zhuǎn)印至產(chǎn)品上的透明硬化層外側(cè)為第一紋理，內(nèi)側(cè)為第二紋理，透明硬化層為透明狀態(tài)，可以展示向外內(nèi)側(cè)的第二紋理，同時(shí)起到對(duì)第二紋理保護(hù)作用避免被破壞，防止第二紋理出現(xiàn)劃痕且耐刮。

技術(shù)研發(fā)人員：邢獻(xiàn)云,李宏益
受保護(hù)的技術(shù)使用者：合肥市沛霖?cái)?shù)控科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2