專利名稱：雙折射性圖案轉印箔的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種雙折射性圖案轉印箔、及利用該雙折射性圖案轉印箔轉印有雙折射性圖案的物品。
背景技術：
近年來，高級品牌商品或現(xiàn)金券、商品券、紙幣、信用卡、工業(yè)用零件等的偽造品持續(xù)增多。作為此偽造品的對策，業(yè)界提出有將使用雙折射性圖案的圖像應用于安全標簽(security label)(專利文獻1、專利文獻2)。雙折射性圖案具有在不具有偏光性的通常光源下幾乎不可見，另一方面藉由罩上偏光鏡而可見化的特殊性質，不易復制。藉由將此種雙折射性圖案制成標簽并貼附在擔憂會被偽造的物品上，視需要利用偏光鏡等進行確認，可鑒別真品與偽造品。然而，即使標簽本身難以復制，但在可從真品上剝離標簽的情況下，仍有自真品上剝離標簽并轉貼在偽造品上之虞。作為其對策，現(xiàn)提出有將雙折射性圖案形成在轉印箔上，再轉印至成為對象的物品上而使用(專利文獻3)。于該情況下，由于雙折射性圖案是以較薄的箔的形式存在，故而難以剝離，或容易被剝離力破壞，因此可防止轉貼。另一方面，在轉印箔的構成中具有剝離層與接著層的情況下，會因此等層的相反性質而難以操作。另外，在為了提升生產性而將轉印箔制成卷筒狀的情況下，在保管時存在因接著層與支撐體的背面接著而發(fā)生的品質降低、即所謂“結塊(blocking)”的情況。中揭示有為了抗結塊而將二氧化硅微粒子等無機填料添加至接著層中，但未考慮到由該添加引起的對雙折射性的影響。現(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本專利特開2001-63300號公報專利文獻2:日本專利特開2009-175208號公報專利文獻3:日本專利特開2010-113249號公報專利文獻4:日本專利特開2001-71698號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的課題本發(fā)明的課題在于提供一種潛像的視覺辨認性良好，并且操作性良好，可利用于各種對象的雙折射性圖案轉印箔。解決課題的手段本發(fā)明者等人在研究不易對潛像的視覺辨認性產生影響的接著層的性質的同時，進而反復研究操作性亦優(yōu)異的接著層，而完成了本發(fā)明。SP，本發(fā)明提供下述[I]至[12]。[I] 一種雙折射性圖案轉印箔，其是在臨時支撐體上具有至少一層含有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的圖案化光學異向性層、與至少一層接著層的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于:該接著層的延遲(retardation)為40nm以下。[2]如[I]所述的雙折射性圖案轉印箔，其中在所述接著層上施加有抗結塊手段。[3]如[2]所述的雙折射性圖案轉印箔，其中所述抗結塊手段是添加至所述接著層中的微粒子。[4]如[2]所述的雙折射性圖案轉印箔，其中所述抗結塊手段是貼合在接著層表面的覆膜(cover film)。[5] 一種雙折射性圖案轉印箔，其是在臨時支撐體上具有至少一層含有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的圖案化光學異向性層、與至少一層接著層的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于:在該接著層上施加有抗結塊手段。[6]如[2]至[5]中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其是以卷筒膜的形式提供。[7]如[I]至[6]中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其中所述圖案化光學異向性層是由含有具有至少I個反應性基的液晶性化合物的組合物所形成的層。[8]如[7]所述的雙折射性圖案轉印箔，其中所述液晶性化合物至少具有自由基性的反應性基與陽離子性的反應性基。[9]如[8]所述的雙折射性圖案轉印箔，其中所述自由基性的反應性基為丙烯?；?或甲基丙烯?；?，且所述陽離子性基為乙烯基醚基、氧雜環(huán)丁基及/或環(huán)氧基。[10]如[I]至[9]中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其中轉印后的透射率為30%以上。[11] 一種反射性物品，其特征在于:具有使用如[I]至[10]中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案。[12] 一種透明物品，其特征在于:具有使用如[I]至[10]中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可提供一種應用性及操作性優(yōu)異，可利用于各種對象的雙折射性圖案轉印箔。


圖1是示意性地表示具有臨時支撐體、圖案化光學異向性層及接著層的基本的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖2是示意性地表示具有剝離層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖3是示意性地表示具有脫模層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖4是示意性地表示具有配向層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖5是示意性地表示具有印刷層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖6是示意性地表示具有添加劑層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖7是示意性地表示具有復數(shù)層圖案化光學異向性層的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。圖8是示意性地表示具有抗結塊手段的雙折射性圖案轉印箔的構成的圖。
圖9是是示意性地表示基本的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖10是示意性地表示在臨時支撐體上具有光學異向性層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖11是示意性地表示具有剝離層及/或脫模層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖12是示意性地表示具有配向層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖13是示意性地表示具有印刷層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖14是示意性地表示具有反射層的轉印型雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖15是示意性地表示具有添加劑層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖16是示意性地表示具有復數(shù)層光學異向性層的雙折射性圖案制作材料的構成的圖。圖17是示意性地表示具有使用雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案的物品的構成的圖。圖18是表示實例所進行的圖案曝光的圖案的圖。圖19是表示在實例I所制作的轉印有雙折射性圖案的物品上所觀察到的雙折射性圖案的概況的圖。
具體實施例方式以下，詳細說明本發(fā)明。此外，在本說明書中，“ ”的含義為包括其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值。在本說明書中，Re表示延遲。Re可利用根據(jù)透射或反射的分光光譜并使用美國光學學會期刊(Journal of Optical Society of America),第 39 卷，第 791 頁 第 794 頁(1949)或日本專利特開2008-256590號公報所記載的方法換算為相位差的光譜相位差法進行測定。上述文獻是使用透射光譜的測定方法，尤其是反射的情況下，由于光會通過光學異向性層2次，故而可將由反射光譜換算的相位差的一半設為光學異向性層的相位差。Re只要未特別指定，則是指正面延遲。Re(X)是使用波長為λ nm的光作為測定光。本說明書中的Re是指針對R、G、B分別以611±5nm、545±5nm、435±5nm的波長進行測定而獲得的Re，只要無特別針對顏色的記載，則含義為以545±5nm的波長進行測定而獲得的Re。在本說明書中，關于角度，所謂“實質上”是指與嚴密的角度的誤差在小于±5°的范圍內。此外，與嚴密的角度的誤差較佳為小于4°，更佳為小于3°。關于延遲，所謂“實質上”是指延遲具有±5%以內的誤差。此外，所謂延遲實質上為0，是指延遲為5nm以下。另外，折射率的測定波長只要無特別記述，則是指可見光區(qū)域的任意波長。此外，在本說明書中，所謂“可見光”，是指波長為400nm 700nm的光。[雙折射性圖案的定義]所謂雙折射性圖案，廣義上是指將雙折射性不同的2個以上區(qū)域配置在二維面內或立體配置而繪制的圖案。此外，尤其在二維面內，雙折射性是由折射率達到最大的慢軸的方向與區(qū)域內的延遲的大小兩個參數(shù)所定義。例如由液晶性化合物形成的相位差膜等上的面內配向缺陷或厚度方向上的液晶的傾斜分布在廣義上可稱為雙折射性圖案，但狹義上較期待將基于預先決定的設計等，意在控制雙折射性進行圖案化而成的圖案定義為雙折射性圖案。雙折射性圖案只要無特別記載，則可遍及復數(shù)層，復數(shù)層圖案的邊界可一致亦可不同。[雙折射性圖案轉印箔]在本說明書中，所謂“雙折射性圖案轉印箔”是指至少具有臨時支撐體、形成在該臨時支撐體上的圖案化光學異向性層及接著層，且藉由經過規(guī)定的制程可使圖案化光學異向性層轉印至物品上的材料。制程并無特別限定，例如為:可在藉由熱壓印(hotstamping)、連續(xù)壓印(in-line stamping)及各種層壓使雙折射性圖案轉印箔壓接至物品上之后，剝離臨時支撐體，藉此使圖案化光學異向性層轉印至物品上的制程。此時，圖案化光學異向性層以外的層及臨時支撐體可同時轉印至物品上，亦可不同時轉印。此外，在本說明書中，所謂“圖案化光學異向性層”是指具有雙折射性圖案的光學異向性層，進而換言之，是指具有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的光學異向性層。圖案化光學異向性層更佳為具有3個以上雙折射性不同的區(qū)域。雙折射性相同的各個區(qū)域可為連續(xù)形狀，亦可為非連續(xù)形狀。圖案化光學異向性層例如可使用下述雙折射性圖案制作材料而容易地制作，但只要為具有雙折射性不同的區(qū)域的層，則制作方法并無特別限定。圖1 圖7是本發(fā)明的雙折射性圖案轉印箔的例子。雙折射性圖案轉印箔具有臨時支撐體11、至少一層圖案化光學異向性層101及接著層12。圖中，將雙折射性不同的區(qū)域分別例示為101A、101B、101C。圖1所示的雙折射性圖案轉印箔是在臨時支撐體11上具有圖案化光學異向性層101與接著層12的最基本的雙折射性圖案轉印箔的構成。圖2所示的雙折射性圖案轉印箔是在臨時支撐體11與圖案化光學異向性層101之間具有剝離層13的例子。剝離層13具有與臨時支撐體之間形成容易剝離的界面，而使臨時支撐體11順利剝離的作用。圖3(a)、圖3(b)所示的雙折射性圖案轉印箔是在臨時支撐體11與圖案化光學異向性層101之間具有脫模層14的例子。脫模層14雖然亦具有輔助臨時支撐體11的剝離的作用，但剝離層13是與臨時支撐體11之間形成剝離界面，相對于此，脫模層14是與其上的層(例如圖案化光學異向性層)之間形成剝離界面。另外，亦存在如圖3(b)所示具有剝離層13與脫模層14兩者的情況，在該情況下剝離層13與脫模層14之間成為剝離界面。圖4所示的雙折射性圖案轉印箔是具有配向層15的例子。在使用由如下光學異向性層所形成的層作為圖案化光學異向性層101的情況下，配向層15是作為用于輔助液晶性化合物的配向的層而發(fā)揮功能，該光學異向性層是涂布含有液晶性化合物的溶液并干燥而形成液晶相后，加熱或光照射進行聚合固定化而成的層。圖5是具有印刷層16的雙折射性圖案轉印箔的例子。印刷層一般是與不可見的雙折射性圖案重疊而提供可見的圖像，例如亦可與利用UV(紫外線)熒光染料或IR(紅外線)染料等的不可見的安全印刷組合。印刷層可在光學異向性層之上，亦可在其之下，只要印刷層具有透射性，則在利用濾光器使由雙折射性圖案形成的潛像可見化時，印刷與潛像重疊而變得可見。圖6(a)、圖6(b)所示的雙折射性圖案轉印箔是在圖案化光學異向性層上具有添加劑層17的雙折射性圖案轉印箔。添加劑層如下所述是在雙折射性圖案制作材料中用于向光學異向性層后添加塑化劑或光聚合起始劑的層，此外，視需要在雙折射性圖案轉印箔中亦可賦予如下層的功能:強化層間的密接性的底涂層、制造過程中用于表面保護的硬涂層、藉由不透射紅外線而使紅外線相機無法拍攝到的遮蔽層、淹水后會變色等而檢測淹水的淹水檢測層、顏色根據(jù)溫度而變化的熱致層、控制潛像的顏色的著色過濾層、賦予磁記錄性的磁性層、消光層、散射層、潤滑層等。圖7(a) 圖7(c)所示的雙折射性圖案轉印箔是具有復數(shù)層圖案化光學異向性層的雙折射性圖案轉印箔。復數(shù)層光學異向性層的面內慢軸可相同亦可不同，較佳為不同。復數(shù)層光學異向性層的雙折射性不同的區(qū)域可相互相同亦可不同。圖中雖然未揭示，但圖案化光學異向性層亦可具有3層以上。設置2層以上的延遲或者慢軸的方向相互不同的光學異向性層，賦予各自獨立的圖案，可形成具有更加多彩的功能的潛像。圖8 (a)、圖8 (b)所示的雙折射性圖案轉印箔是具有抗結塊手段的例子?？菇Y塊手段具有防止雙折射性圖案轉印箔的表面在保管過程中發(fā)生接著的現(xiàn)象(結塊)，而提升雙折射性圖案轉印箔的保管性的作用。圖8(a)是向接著層添加微粒子18作為抗結塊手段的例子，圖8(a)是在接著層表面貼合覆膜19作為抗結塊手段的例子。[雙折射性圖案制作材料]制作上述圖案化光學異向性層的方法并無特別限定，例如可列舉使用以下所示的雙折射性圖案制作材料的方法。雙折射性圖案制作材料是用于制作圖案化光學異向性層的材料，是指藉由經過規(guī)定步驟可制作圖案化光學異向性層的材料。對雙折射性圖案制作材料進行規(guī)定步驟而制作圖案化光學異向性層，在此基礎上進一步視需要形成追加層，藉此可制作雙折射性圖案轉印箔。例如使用日本專利特開2009-175208號公報中所記載的具有感光性的雙折射性圖案制作材料的情況下，可根據(jù)曝光量而控制照射部的延遲，亦可使未曝光部的延遲實質上為O。藉由使用此種雙折射性圖案制作材料，變得可容易地制作具有賦予所需雙折射性圖案的圖案化光學異向性層的雙折射性圖案轉印箔雙折射性圖案制作材料通常為膜、或片狀即可。雙折射性圖案制作材料除了包含光學異向性層，或僅包含光學異向性層以外，亦可具有可賦予各種次要功能的功能性層。作為功能性層，可列舉:支撐體、配向層、反射層等。另外，在用作轉印材料的雙折射性圖案制作用材料、或使用轉印材料而制作的雙折射性圖案制作材料等中，亦可具有臨時支撐體、力學特性控制層。另外，由于其是之后用于雙折射性圖案轉印箔的材料，故而亦可具有在雙折射性圖案轉印箔中發(fā)揮功能的剝離層、脫模層、接著層等。圖9所示的雙折射性圖案制作材料是僅包含具有自支撐性的光學異向性層20的雙折射性圖案制作材料的例子。光學異向性層是具有雙折射性的層，可由經單軸或雙軸延伸的聚合物層或將經配向的液晶性化合物固定化而成的層、配向一致的有機或無機單晶層等所形成。作為光學異向性層，較佳為具有如下功能的層:可藉由利用光罩的曝光或者數(shù)位曝光等圖案曝光，或熱壓印或熱寫頭、紅外線雷射曝光等圖案加熱，利用針或筆進行機械加壓或剪切的觸針描繪、反應性化合物的印刷等，而任意地控制光學異向性。其原因在于:具有此種功能的光學異向性層可容易地藉由下述方法等獲得圖案化光學異向性層。為了形成圖案，較佳為使用利用光罩的曝光或者掃描曝光等圖案曝光。除了該圖案化步驟以外，視需要亦可與利用熱或藥液的漂白、顯影等組合而形成圖案。在該情況下，利用熱的漂白、顯影由于對支撐體的制約少，故而較佳。圖10是之后用作雙折射性圖案轉印箔的在臨時支撐體11上具有光學異向性層20的例子。圖11(a) 圖11(c)是之后用作雙折射性圖案轉印箔的預先具有剝離層13及/或脫模層14的雙折射性圖案制作材料的例子。剝離層13與脫模層14是在雙折射性圖案轉印箔中發(fā)揮功能的功能性層，視需要亦可在雙折射性圖案制作材料的使用過程中形成。圖12(a) 圖12(c)所示的雙折射性圖案制作材料是具有配向層15的例子。在使用由如下光學異向性層所形成的層作為光學異向性層20的情況下，配向層15作為用于輔助液晶性化合物的配向的層而發(fā)揮功能，該光學異向性層是涂布含有液晶性化合物的溶液并干燥而形成液晶相后，加熱或光照射進行聚合固定化而成的層。圖13(a) 圖13(c)是具有印刷層16的雙折射性圖案制作材料的例子。印刷層16亦為在雙折射性圖案轉印箔中發(fā)揮功能的功能性層，視需要亦可在雙折射性圖案制作材料的使用過程中形成。圖14(a) 圖14(c)是具有反射層21的雙折射性圖案制作材料的例子。雙折射性圖案制作材料中的反射層21在制造制程中的曝光的效率化、或制造過程中的光學異向性層的光學特性評價的簡化方面有效果。另外，亦可在雙折射性圖案制作材料的階段起設置在雙折射性圖案轉印箔中用于調整視覺辨認性的反射層或者半透明反射層。圖15(a) 圖15(d)是在光學異向性層上具有添加劑層17的雙折射性圖案制作材料的例子。添加劑層是用于向光學異向性層中后添加塑化劑、熱聚合抑制劑及光聚合起始劑等添加劑的層，視需要亦可賦予在雙折射性圖案制作材料中或者雙折射性圖案轉印箔中發(fā) 車的別的功能。圖16(a) 圖16(d) 所示的雙折射性圖案制作材料是具有復數(shù)層光學異向性層的雙折射性圖案制作材料。復數(shù)層光學異向性層的面內慢軸可相同亦可不同，較佳為不同。圖中雖然未揭示，但光學異向性層亦可為3層以上。另外，在使用液晶性化合物而形成光學異向性層的情況下，較佳為具有配向層，亦可如圖16(c)所示，藉由使光學異向性層本身兼具配向層的功能而省略配向層。[轉印有雙折射性圖案的物品]圖17是具有使用本發(fā)明的雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案的物品的例子。圖17(a)、圖17(b)所示的具有雙折射性圖案的物品分別為具有雙折射性圖案的透射性物品及具有雙折射性圖案的反射性物品的構成。在為透射性物品的情況下，光源及觀測點是夾持轉印至透射性物品主體22上的圖案化光學異向性層101,而位于相反側。于該情況下，自使用偏光鏡等所制作的偏光光源發(fā)出的光通過具有雙折射性圖案的物品，而在面內成為不同的偏光狀態(tài)，并在觀測點側進一步通過偏光鏡而使信息可見化。此處，偏光鏡可為直線偏光鏡，亦可為圓偏光鏡，亦可為橢圓偏光鏡，偏光鏡本身亦可具有雙折射性圖案或二色性圖案。在為反射性物品的情況下，自轉印至反射性物品主體23上的圖案化光學異向性層101觀察，光源及觀測點均位于單側，另外，與此等相反的側具有反射面(在該情況下為反射性物品主體23的表面)。在該情況下，自使用偏光鏡等所制作的偏光光源發(fā)出的光通過具有雙折射性圖案的物品，而在面內成為不同的偏光狀態(tài)，并在反射面反射，在再次通過具有雙折射性圖案的物品時再次被影響，最后在觀測點側通過偏光鏡而使信息可見化。此處，偏光鏡可為直線偏光鏡，亦可為圓偏光鏡，亦可為橢圓偏光鏡，偏光鏡本身亦可具有雙折射性圖案或二色性圖案。另外，光源與觀測可使用同一偏光鏡。反射面亦可兼具反射性高的全像層或電極層等。此外，反射面可為部分地反射光且部分地透射光的半透射半反射層，此時具有雙折射性圖案的物品不僅可使透射、反射兩方的圖像可見化，亦可在不采用濾光器的情況下，自圖案化光學異向性層的上側可見位于具有雙折射性圖案的物品的半透射半反射層的下側的文字或圖像等一般信息。以下，詳細說明雙折射性圖案轉印箔與作為其材料的一種的雙折射性圖案制作材料、使用其的雙折射性圖案轉印箔的制作方法及構成此等的材料、制作方法等。但是，本發(fā)明并不限定于該型態(tài)，其他型態(tài)亦可參考以下的記載及先前公知的方法而實施，本發(fā)明并不限定于以下所說明的型態(tài)。[光學異向性層]本發(fā)明的雙折射性圖案制作材料中的光學異向性層是成為圖案化光學異向性層的原料的層，是測定延遲時有至少I個延遲實質上不為O的入射方向的層，即具有非等方性的光學特性的層。作為雙折射性圖案制作材料中的光學異向性層，可列舉:含有至少I種單體及/或寡聚物的層、含有至少I種聚合物的層、含有至少I種有機或無機單晶的層等。另外，該聚合物亦可為使至少I種單體及/或寡聚物硬化而成的聚合物。含有聚合物的所述光學異向性層在可滿足雙折射性、透明性、耐溶劑性、強韌性及柔軟性等不同種類的要求方面較佳。該光學異向性層中的聚合物較佳為具有未反應的反應性基。認為其原因在于:雖然藉由曝光使未反應的反應性基反應而引起聚合物鏈的交聯(lián)，但藉由曝光條件不同的曝光，聚合物鏈的交聯(lián)程度亦不同，結果延遲值會變化而變得易形成雙折射性圖案。光學異向性層較佳為在20°C下、更佳為在30°C下、進而更佳為在40°C下為固體。其原因在于:如果在20°C下為固體，容易涂布其他功能性層，或者轉印或貼合至(圖案形成前的)別的支撐體上。在光學異向性層上涂布其他功能性層的情況下，光學異向性層較佳為具有耐溶劑性。在本說明書中，所謂“具有耐溶劑性”，是指在對象溶劑中浸潰2分鐘后的延遲在浸潰前的延遲的30%至170%的范圍內，更佳為50%至150%的范圍內，最佳為80%至120%的范圍內。對象溶劑雖然亦取決于欲進行的功能性層的涂布所使用的溶劑，但可列舉:水、甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲基醚乙酸酯、N-甲基吡咯烷酮、己烷、氯仿、乙酸乙酯、或該等的混合溶劑等。光學異向性層較佳為在20°C下延遲為5nm以上，更佳為IOnm以上、IOOOOnm以下，最佳為20nm以上、2000nm以下。延遲為5nm以下時,存在難以形成雙折射性圖案的情況。如果延遲超過lOOOOnm，則存在誤差增大而難以達到可實際使用的精度的情況。光學異向性層的制法并無特別限定，可列舉:涂布含有具有至少I個反應性基的液晶性化合物而成的溶液并干燥而形成液晶相后，加熱或光照射進行聚合固定化而制作光學異向性層的方法；對將具有至少2個以上反應性基的單體聚合固定化的層進行延伸的方法；對包含側鏈具有反應性基的聚合物的層進行延伸的方法；或延伸包含聚合物的層后，使用偶合劑等而導入反應性基的方法等。如下所述，光學異向性層亦可藉由轉印而形成。所述光學異向性層的厚度較佳為0.Ιμπι 20μπι，更佳為0.5μπι ΙΟμπι。[將含有液晶性化合物的組合物配向固定化而成的光學異向性層]作為光學異向性層的制法，對涂布含有具有至少I個反應性基的液晶性化合物而成的溶液并干燥而形成液晶相后，加熱或光照射進行聚合固定化而制作光學異向性層的情況說明如下。本制法與下述延伸聚合物而獲得光學異向性層的制法相比，容易以較薄的膜厚獲得具有同等延遲的光學異向性層，故而較佳。[液晶性化合物]一般而言，液晶性化合物根據(jù)其形狀，可分為棒狀型與圓盤狀型。此外，各自有低分子型與高分子型。所謂高分子，一般是指聚合度為100以上的化合物(高分子物理.相轉移動力學，土井正男著，第2頁，巖波書店，1992)。在本發(fā)明中，雖然可使用任一液晶性化合物，但較佳為使用棒狀液晶性化合物。此外，在本說明書中，在記載為由含有液晶性化合物的組合物所形成的層時，該所形成的層中無須含有具有液晶性的化合物。例如，所述低分子液晶性化合物具有藉由熱、光等發(fā)生反應的基，結果亦可為含有藉由利用熱、光等的反應進行聚合或交聯(lián)而高分子量化，從而失去液晶性的低分子液晶性化合物的層。另外，作為液晶性化合物，亦可使用2種以上棒狀液晶性化合物、2種以上圓盤狀液晶性化合物、或棒狀液晶性化合物與圓盤狀液晶性化合物的混合物。由于可縮小溫度變化或濕度變化，故而更佳為使用具有反應性基的棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物形成層，更佳為至少I種液晶性化合物的I個液晶分子中的反應性基為2個以上。在采用2種以上液晶性化合物的混合物的情況下，較佳為至少I種液晶性化合物具有2個以上反應性基。較佳為使用具有交聯(lián)機制不同的2種以上反應性基的液晶性化合物，選擇條件，僅使2種以上反應性基的部分種類聚合，藉此制作含有具有未反應的反應性基的聚合物的光學異向性層。作為交聯(lián)機制，為縮合反應、氫結合、聚合等，并無特別限定，較佳為2種以上交聯(lián)機制中的至少一方為聚合，更佳為使用2種類以上不同聚合。一般而言，交聯(lián)反應不僅可使用聚合所使用的乙烯基、(甲基)丙烯?；?、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁基、乙烯基醚基，亦可使用羥基、羧酸基、胺基等。在本說明書中，所謂具有交聯(lián)機制不同的2種以上反應性基的化合物，是階段性地使用不同交聯(lián)反應步驟進行交聯(lián)的化合物，在各階段的交聯(lián)反應步驟中，各交聯(lián)機制相應的反應性基作為官能基發(fā)生反應。另外，例如為側鏈具有羥基的聚乙烯醇之類的聚合物的情況下，在進行將聚合物聚合的聚合反應后，利用醛等交聯(lián)側鏈的羥基時，是使用2種類以上的不同交聯(lián)機制，但在本說明書中，在稱為具有2種類以上不同反應性基的化合物時，較佳為在支撐體等上形成層的時刻，該層中具有2種以上不同反應性基的化合物，只要為可在其后階段性地使此反應性基交聯(lián)的化合物即可。作為尤佳的型態(tài)，較佳為使用具有2種以上聚合性基的液晶性化合物。作為階段性地進行交聯(lián)的反應條件，可采用溫度的差異、光(照射線)波長的差異、聚合機制的差異中的任一種，就易分離反應方面而言，較佳為使用聚合機制的差異，更佳為藉由所使用的起始劑的種類進行控制。作為聚合機制，較佳為自
由基聚合性基與陽離子聚合性基的組合。所述自由基聚合性基為乙烯基、(甲基)丙烯酰
基且所述陽離子聚合性基為環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁基、乙烯基醚基的組合容易控制反應性，故而
尤佳。以下，例示反應性基。
權利要求
1.一種雙折射性圖案轉印箔，其是在臨時支撐體上具有至少一層含有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的圖案化光學異向性層、與至少一層接著層的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于:所述接著層的延遲為40nm以下。
2.根據(jù)權利要求1所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，在所述接著層上施加有抗結塊手段。
3.根據(jù)權利要求2所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，所述抗結塊手段是添加至所述接著層中的微粒子。
4.根據(jù)權利要求2所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，所述抗結塊手段是貼合至所述接著層表面的覆膜。
5.一種雙折射性圖案轉印箔，其是在臨時支撐體上具有至少一層含有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的圖案化光學異向性層、與至少一層接著層的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于:在所述接著層上施加有抗結塊手段。
6.根據(jù)權利要求2-5中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，其是以卷筒膜的形式提供。
7.根據(jù)權利要求1-6中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，所述圖案化光學異向性層是由含有具有至少I個反應性基的液晶性化合物的組合物所形成的層。
8.根據(jù)權利要求7所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，所述液晶性化合物至少具有自由基性的反應性基與陽離子性的反應性基。
9.根據(jù)權利要求8所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，所述自由基性的反應性基為丙烯?；?或甲基丙烯?；?，且所述陽離子性基為乙烯基醚基、氧雜環(huán)丁基及/或環(huán)氧基。
10.根據(jù)權利要求1-9中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于，轉印后的透射率為30%以上。
11.一種反射性物品，其特征在于:具有使用如權利要求1-10任一項所述的雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案。
12.一種透明物品，其特征在于:其具有使用如權利要求1-10中任一項所述的雙折射性圖案轉印箔所轉印的雙折射性圖案。
全文摘要
本發(fā)明提供一種雙折射性圖案轉印箔，其是在臨時支撐體上具有至少一層含有2個以上雙折射性不同的區(qū)域的圖案化光學異向性層、與至少一層接著層的雙折射性圖案轉印箔，其特征在于該接著層上施加有抗結塊手段及/或所述接著層的延遲為40nm以下。本發(fā)明的轉印箔在應用性及操作性方面優(yōu)異，可利用于各種對象。
文檔編號B32B7/02GK103210328SQ201180055258
公開日2013年7月17日 申請日期2011年11月16日 優(yōu)先權日2010年11月19日
發(fā)明者兼巖秀樹, 山本祐也, 池田憐男奈, 伊藤英明 申請人:富士膠片株式會社