本技術屬于基坑監(jiān)測，具體涉及一種基坑用位移監(jiān)測裝置。

背景技術：

1、基坑是在基礎設計位置按基底標高和基礎平面尺寸所開挖的土坑。基坑位移是指基坑開挖時，由于坑內開挖卸荷，造成圍護結構在內外壓力差作用下產生位移，進而引起圍護外側土體的變形，造成基坑外土體或建(構)筑物沉降與移動，通常是基坑的側壁向基坑內部方向移動。因此，基坑開挖施工過程中要采用監(jiān)測裝置進行實時監(jiān)測。

2、現(xiàn)有技術中，對于監(jiān)測裝置，通常包括固定在基坑底面上的底座、設置在底座上的支撐架以及位于支撐架頂部的監(jiān)測模塊，監(jiān)測模塊具有可與基坑的側壁接觸的滑動桿。但是，底座一般通過長定位釘固設在基坑底面上，受到基坑底面的凹凸不平、錘擊各長定位釘?shù)扔绊?，底座及支撐架無法保證水平度，此時監(jiān)測模塊中的滑動桿移動方向與基坑側壁的法向存在一定的角度，進而滑動桿所測得的數(shù)據(jù)比實際測量值偏大，而且底座的固定位置具有很大的局限性，監(jiān)測效果差，實用性差。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型實施例提供一種基坑用位移監(jiān)測裝置，旨在能夠解決現(xiàn)有的基坑位移監(jiān)測裝置因監(jiān)測模塊的監(jiān)測方向無法與基坑側壁的法向保持一致而導致的實用性差的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術方案是：提供一種基坑用位移監(jiān)測裝置，包括：

3、固定底座，用于固設在基坑的底面上；

4、調平支架，設置在所述固定底座上，所述調平支架頂部具有承載平面，所述調平支架用于對所述承載平面進行調節(jié)，以使所述承載平面水平設置；

5、監(jiān)測結構，設置在所述承載平面上，所述監(jiān)測結構具有可與待監(jiān)測基坑側壁接觸的接觸端，所述監(jiān)測結構用于對基坑側壁的位移進行監(jiān)測。

6、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述調平支架包括：

7、立柱，與所述固定底座垂直設置，底端固設在所述固定底座上；

8、固定圓板，固設在所述立柱的頂端，且與所述固定底座平行設置；

9、活動圓板，位于所述固定圓板的上方，且通過連接結構與所述固定圓板萬向轉動連接，所述活動圓板的頂部端面為所述承載平面；

10、調節(jié)結構，設置在所述固定圓板上，且與所述活動圓板接觸，用于對所述活動圓板的水平度進行調節(jié)。

11、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述連接結構包括：

12、固定軸，固設在所述固定圓板上，且與所述固定圓板同軸設置；

13、關節(jié)軸承，具有外圈及與所述外圈萬向轉動的內圈，所述外圈固設在所述活動圓板的底端，所述內圈與所述固定軸固定連接。

14、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述調節(jié)結構包括三個調節(jié)螺桿，各所述調節(jié)螺桿繞著所述固定圓板的軸線環(huán)形間隔設置，且每個所述調節(jié)螺桿均與立柱的長度方向平行設置，每個所述調節(jié)螺桿與所述固定圓板上設置的螺紋孔螺紋連接，且頂端穿過所述固定圓板后與所述活動圓板的底部端面抵接。

15、在一種可能的實現(xiàn)方式中，每個所述調節(jié)螺桿的頂端均具有球形抵接部。

16、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述固定底座包括：

17、橫向桿，設有兩個，兩個所述橫向桿平行間隔設置，以供所述調平支架安裝；

18、縱向桿，設有兩個，兩個所述縱向桿平行且間隔設置在兩個所述橫向桿的兩端，且與所述橫向桿垂直設置，每個所述縱向桿的兩端均向外延伸，每個所述縱向桿上均設有多個用于供長定位釘插設的定位孔。

19、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述監(jiān)測結構包括：

20、方形筒，固設在所述承載平面上，具有筒腔，所述方形筒的兩端均設有與所述筒腔連通的滑孔，兩個所述滑孔所在的軸線與所述承載平面平行設置；

21、滑柱，滑動設置在所述筒腔中，且兩端均穿過所述滑孔后向外伸出，所述滑柱的一端為所述接觸端；

22、彈簧，位于所述筒腔中，且套設在所述滑柱上，所述彈簧的一端與所述筒腔的內壁抵接，另一端與設置在所述滑柱上的抵接環(huán)抵接，所述彈簧用于彈動所述滑柱，以使所述滑柱保持具有持續(xù)與基坑側壁接觸的趨勢；

23、參照牌，固設在所述抵接環(huán)的外緣上；

24、紅外測距傳感器，固設在所述筒腔中，具有朝向所述參照牌對應的激光發(fā)射端，所述紅外測距傳感器用于測定所述參照牌的位置變化值。

25、本實現(xiàn)方式中，固定底座固設在基坑的底面上，可保證其對調平支架及監(jiān)測結構進行穩(wěn)定的支撐，進而在一定程度上保證監(jiān)測效果。而調節(jié)支架能夠對頂部的承載平面的水平度進行調節(jié)，進而保證檢測結構垂直于待監(jiān)測的基坑側壁，可保證監(jiān)測數(shù)值的精準，保證監(jiān)測效果，實用性強。

技術特征：

1.基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，包括：

2.如權利要求1所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，所述調平支架包括：

3.如權利要求2所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，所述連接結構包括：

4.如權利要求2所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，所述調節(jié)結構包括三個調節(jié)螺桿，各所述調節(jié)螺桿繞著所述固定圓板的軸線環(huán)形間隔設置，且每個所述調節(jié)螺桿均與立柱的長度方向平行設置，每個所述調節(jié)螺桿與所述固定圓板上設置的螺紋孔螺紋連接，且頂端穿過所述固定圓板后與所述活動圓板的底部端面抵接。

5.如權利要求4所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，每個所述調節(jié)螺桿的頂端均具有球形抵接部。

6.如權利要求1所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，所述固定底座包括：

7.如權利要求1所述的基坑用位移監(jiān)測裝置，其特征在于，所述監(jiān)測結構包括：

技術總結
本技術提供了一種基坑用位移監(jiān)測裝置，包括固定底座、調平支架以及監(jiān)測結構。固定底座能夠固設在基坑的底面上。調平支架設置在固定底座上，調平支架頂部具有承載平面，調平支架能夠對承載平面進行調節(jié)，以使承載平面水平設置。監(jiān)測結構設置在承載平面上，監(jiān)測結構具有可與待監(jiān)測基坑側壁接觸的接觸端，監(jiān)測結構能夠對基坑側壁的位移進行監(jiān)測。本技術提供的基坑用位移監(jiān)測裝置能夠保證檢測結構垂直于待監(jiān)測的基坑側壁，進而保證監(jiān)測數(shù)值的精準，保證監(jiān)測效果，實用性強。

技術研發(fā)人員：駱永生,向陽,康興月,楊晶明,陳建權,鄭贊贊
受保護的技術使用者：中國京冶工程技術有限公司
技術研發(fā)日：20240514
技術公布日：2025/1/9