一種墓地的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種墓地，包括若干柱體，至少兩個墓地單元，第一墓地單元置于地表，第二墓地單元置于所述第一墓地單元上方，第三墓地單元置于所述第二墓地單元上方，以此類推，所有不與地表接觸的墓地單元均與所述柱體固定連接，相鄰墓地單元之間的垂直距離為3—10米，相鄰墓地單元之間設(shè)有第一階梯。本實(shí)用新型充分的利用了土地面積，即有效的解決了墓地土地面積緊缺的問題，墓地面積也不會過分窄小，能夠讓更多的人群真正“入土為安”；也方便后人緬懷、追思；且采光、通風(fēng)、透氣性好，低成本、節(jié)能。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及祭祀建筑【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種墓地。 一種墓地

【背景技術(shù)】
[0002] 我國人口快速增長與年齡結(jié)構(gòu)老齡化形勢愈加緊急，老年人口每年以695萬的速 度遞增，到2020年老年人口達(dá)到2. 4億，2050年老年人口將達(dá)到4億，超過人口總量的百分 三十。
[0003] 目前，我國共有耕地17億畝，僅占世界的四分之一，城市人口的密度達(dá)每平方米 11. 160人，居世界首位。人口的過密化、意味著人均占有土地面積和空間的減少，相反在自 然死亡率相對穩(wěn)定條件下，社會老齡化程度加快必然引起城市人口死亡數(shù)增加，從而導(dǎo)致 各城市、縣城對殯葬用地產(chǎn)生大量的需求。
[0004] 作為中國人的文化傳統(tǒng)之一，老一輩人群大多數(shù)希望自己在去世后能夠"入土為 安"。但是，由此帶來的數(shù)量龐大的喪葬土地需求，不僅會大量占用土地，也會給后人的生存 空間帶來挑戰(zhàn)。
[0005] 從現(xiàn)實(shí)的情況來看，特別是在城市，多是采用公共墓地。在傳統(tǒng)的公共墓地中，每 一個墓穴占有各自的一塊土地。盡管每個墓穴的大小各有不同，但每個墓穴內(nèi)都只能存放 一位逝者，空間的利用率比較低。而且也只有經(jīng)濟(jì)條件允許的逝者人群才能承受公共墓地 的費(fèi)用。因此，傳統(tǒng)的公共墓地?zé)o法滿足更多的人群的"入土為安"的需求，也沒能更好的 利用土地。
[0006] 現(xiàn)有安葬主要有土葬、花葬、草坪葬、樹葬、海葬、空葬等方式，絕大部分人都會選 擇園陵葬，即使國家規(guī)定園陵葬每穴墓地?fù)?jù)規(guī)定每人不得超過〇. 5平方米，而實(shí)際已經(jīng)大 大超過了 〇. 5平方米，占用了大量的土地資源，墓地造價高昂，以老齡化逐及加劇的宏觀環(huán) 境下，現(xiàn)有的墓地已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足需要。
[0007] 在中國專利申請?zhí)枺?01320250477中公開了一種墓墻，主要解決現(xiàn)有土地資源緊 缺，墓地造價高昂的問題。所述墓墻本體（1)由若干個帶有空格狀墓穴（2)的石碑（7)堆 疊而成，所述墓穴（2)穴口設(shè)有密封門（3)。該技術(shù)方案不便后人進(jìn)行祭拜，過分擁擠，本來 生前就是擠在一起居住，離開塵世后還是那么擁擠的，環(huán)境又差，后人于心何忍？該技術(shù)方 案使用效果不好。
[0008] 在中國專利申請?zhí)枺?01120118635中公開了一種板式結(jié)構(gòu)骨灰盒存放室，特別是 立體的家族式集約型墓地厝室位。墓地厝室位是在土地表面之下設(shè)置矩形中空立方室體， 室內(nèi)后部用縱向分隔板和橫向分隔板隔成存骨灰盒的厝架，室內(nèi)前部為祠室空間，祠室上 方的頂板上設(shè)置有人孔，人孔上配置有密封蓋板。該技術(shù)方案土地、空間利用率還有待進(jìn) 一步改進(jìn)。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0009] 針對上述問題，本實(shí)用新型提供了一種墓地，該技術(shù)方案具有節(jié)約土地，方便祭拜 等優(yōu)點(diǎn)。
[0010] 為了解決上述問題，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為：
[0011] 一種墓地，包括若干柱體，至少兩個墓地單元，第一墓地單元置于地表，第二墓地 單元置于所述第一墓地單元上方，第三墓地單元置于所述第二墓地單元上方，以此類推，所 有不與地表接觸的墓地單元均與所述柱體固定連接，相鄰墓地單元之間的垂直距離為3- 10米，相鄰墓地單元之間設(shè)有第一階梯；本技術(shù)方案充分的利用了土地面積，即有效的解 決了墓地土地面積緊缺的問題，墓地面積也不會過分窄小，能夠讓更多的人群真正"入土為 安"；也方便后人緬懷、追思。
[0012] 優(yōu)選的，第一墓地單元為階梯型，中部水平高度高于邊緣水平高度，至少分為2個 平臺，即第一平臺、第二平臺，所述第一平臺位于所述第二平臺上方，相鄰平臺的高度差為 0. 5- 2米，相鄰平臺之間設(shè)有第二階梯。
[0013] 優(yōu)選的，所述第一墓地單元分為3個平臺，即第一平臺、第二平臺、第三平臺，所述 第二平臺位于所述第三平臺上方，所述第一平臺位于所述第二平臺上方，相鄰平臺的高度 差為0. 8 -1. 8米。
[0014] 優(yōu)選的，所有墓地單元均為階梯型，中部水平高度高于邊緣水平高度，均分為3個 平臺，相鄰平臺的高度差為1. 2 - 1. 6米；設(shè)計(jì)成階梯型，能夠讓相互之間的墓地不干擾，采 光、通氣、透風(fēng)性更好。
[0015] 優(yōu)選的，所有不與地表接觸的墓地單元的底部均為內(nèi)凹弧形；第η個墓地單元的 底部為內(nèi)凹弧形是為了不影響第η- 1個墓地單元，讓兩相鄰墓地單元之間留出更多的空 間。
[0016] 優(yōu)選的，所有不與地表接觸的墓地單元上均開有通光孔；便于采光，
[0017] 優(yōu)選的，所述柱體的端面為圓形，所述柱體呈對稱分布；中國傳統(tǒng)文化講究用圓形 較好。
[0018] 優(yōu)選的，相鄰墓地單元之間的垂直距離為6. 81米。
[0019] 優(yōu)選的，相鄰平臺的高度差為1. 5米。
[0020] 優(yōu)選的，所述第一、第二墓地單元上設(shè)有綠化帶；營造更好的環(huán)境。
[0021] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果為：
[0022] 本實(shí)用新型充分的利用了土地面積，即有效的解決了墓地土地面積緊缺的問題， 墓地面積也不會過分窄小，能夠讓更多的人群真正"入土為安"；也方便后人緬懷、追思；且 采光、通風(fēng)、透氣性好，低成本、節(jié)能。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023] 圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024] 圖2為本實(shí)用新型第一墓地單元的俯視圖。
[0025] 圖中：1、第一墓地單元，2、第二墓地單元，3、柱體，4、第一階梯，5、第二階梯，6、第 一平臺，7、第二平臺，8、第三平臺，9、通光孔，10、綠化帶，11、墓碑。

【具體實(shí)施方式】
[0026] 下面對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明：
[0027] 結(jié)合圖1、圖2, 一種墓地，包括若干柱體，至少兩個墓地單元，第一墓地單元置于 地表，第二墓地單元置于第一墓地單元上方，第三墓地單元置于第二墓地單元上方，以此類 推，所有不與地表接觸的墓地單元均與柱體固定連接，若還需要橫梁做支撐，橫梁應(yīng)置于墓 地單元的上表面；相鄰墓地單元之間的距離為3 -10米，相鄰墓地單元之間設(shè)有第一階梯。
[0028] 本實(shí)施例以第一、第二墓地單元做詳細(xì)說明：
[0029] 第一墓地單元1、第二墓地單元2均為階梯型，中部水平高度高于邊緣水平高度， 第一、第二墓地單元之間設(shè)有第一階梯4。
[0030] 第一、第二墓地單元分別包括3個平臺，即第一平臺6、第二平臺7、第三平臺8,第 二平臺7位于第三平臺8上方，第一平臺6位于第二平臺7上方，相鄰平臺的高度差為0.8- 1. 8米，優(yōu)選為1. 5米，相鄰平臺之間設(shè)有第二階梯5 ;設(shè)計(jì)成階梯型，能夠讓相互之間的墓 地不干擾，采光、通氣、通風(fēng)性更好。
[0031] 第二墓地單元2的底部均為內(nèi)凹弧形；是為了不影響第一個墓地單元1，讓兩相鄰 墓地單元之間留出更多的空間。
[0032] 第二墓地單元3上開有通光孔9,通光性好。
[0033] 柱體3的端面為圓形，柱體呈對稱分布；符合中國傳統(tǒng)文化習(xí)慣。
[0034] 第一、第二墓地單元之間的垂直距離為3 -10米，優(yōu)選為6. 81米。
[0035] 第一、第二墓地單元上設(shè)有綠化帶10 ;營造更好的環(huán)境。
[0036] 墓碑11放置于墓地單元表面，選擇合適的方位進(jìn)行擺放，也可以在墓地單元上放 置祭品臺，便于后人進(jìn)行祭拜。
[0037] 本技術(shù)方案充分的利用了土地面積，即有效的解決了墓地土地面積緊缺的問題， 墓地面積也不會過分窄小，能夠讓更多的人群真正"入土為安"；也方便后人緬懷、追思。
[0038] 以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行 業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述 的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還 會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型 要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【權(quán)利要求】
1. 一種墓地，其特征在于：包括若干柱體，至少兩個墓地單元，第一墓地單元置于地 表，第二墓地單元置于所述第一墓地單元上方，第三墓地單元置于所述第二墓地單元上方， 以此類推，所有不與地表接觸的墓地單元均與所述柱體固定連接，相鄰墓地單元之間的垂 直距離為3 -10米，相鄰墓地單元之間設(shè)有第一階梯。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的墓地，其特征在于：第一墓地單元為階梯型，中部水平高度高 于邊緣水平高度，至少分為2個平臺，即第一平臺、第二平臺，所述第一平臺位于所述第二 平臺上方，相鄰平臺的高度差為〇. 5- 2米，相鄰平臺之間設(shè)有第二階梯。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的墓地，其特征在于：所述第一墓地單元分為3個平臺，即第一 平臺、第二平臺、第三平臺，所述第二平臺位于所述第三平臺上方，所述第一平臺位于所述 第二平臺上方，相鄰平臺的高度差為〇. 8 - 1. 8米。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的墓地，其特征在于：所有墓地單元均為階梯型，中部水平高度 高于邊緣水平高度，均分為3個平臺，相鄰平臺的高度差為1. 2 - 1. 6米。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的墓地，其特征在于：所有不與地表接觸的墓地單元的底 部均為內(nèi)凹弧形。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的墓地，其特征在于：所有不與地表接觸的墓地單元上均 開有通光孔。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的墓地，其特征在于：所述柱體的端面為圓形，所述柱體呈對稱 分布。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的墓地，其特征在于：相鄰墓地單元之間的垂直距離為6. 81 米。
9. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的墓地，其特征在于：相鄰平臺的高度差為1. 5米。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的墓地，其特征在于：所述第一、第二墓地單元上設(shè)有綠化帶。
【文檔編號】E04H13/00GK203891563SQ201420234765
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年5月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月8日
【發(fā)明者】朱小三 申請人:朱小三