具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉及其制備方法，以含鉛低溫封接玻璃系統(tǒng)為基礎(chǔ)組分，在所述基礎(chǔ)組分中加有可使封接玻璃產(chǎn)生光譜選擇性吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物。所述含鉛封接玻璃中基礎(chǔ)組分總量與所述稀土和過渡金屬氧化物總量之間的重量分數(shù)比為100：0.12~10.0。按照本發(fā)明所述方法制備的含鉛封接玻璃粉，具有光譜選擇性吸收特性，適用于加熱源為紫外、可見或紅外光的光輻射加熱封接工藝，可用于電真空器件、電子元器件或真空玻璃絕緣密封或氣密性封接；同時，封接玻璃還具有封接溫度低、化學穩(wěn)定性好、膨脹系數(shù)適當，易于制備、可以實現(xiàn)連續(xù)化的大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)點。
【專利說明】具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及玻璃生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]電子元器件、電真空器件或真空組件經(jīng)常采用含鉛封接玻璃粉制作絕緣密封或氣密性封接，通常以電熱元件作為熱源，熱量傳遞以對流為主。該方法存在加熱時間長、封接過程慢、耗能高、生產(chǎn)效率低等缺點，特別是被封接物件需要整體被加熱到玻璃粉封接溫度才能完成封接，使其在一些應用中受到限制。例如:0LED顯示器在制造時需使用封接玻璃粉在兩炔基板之間形成氣密性封接，封接溫度約40(T45(TC。但距基板封接部位距離約80-90毫米的像素區(qū)域，在封接過程中溫度不得超過80°C，因此采用傳統(tǒng)加熱封接方法將由于過熱引起性能衰減。再如:鋼化真空玻璃的封接加熱過程，如采用傳統(tǒng)加熱封接方法將使鋼化玻璃的應力被去除，無法保持鋼化強度。
[0003]光輻射加熱是另一種常用的加熱方式，具有加熱效率高、速度快、易于控制等優(yōu)點。特別是可利用不同材料光學吸收性能的差異，實現(xiàn)對被封接物體不同部位的選擇性升溫。如果封接玻璃粉對加熱光的吸收遠大于被封接物件本體，在封接時被封接物件的整體溫度可能大大低于封接處，避免了高溫帶來的傷害。因此應用于以上兩事例中，光輻射加熱與電熱元件加熱相比，具有突出優(yōu)勢。光輻射加熱可采用激光器或聚光燈作為熱源，如:可見光激光器(420或640納米)、紅外光激光器(810納米)、紫外激光器(355納米)、紅外燈(810^5000納米)等等。實現(xiàn)選擇性局部加熱的關(guān)鍵在于使用適當?shù)木哂泄庾V選擇性吸收特性的封接玻璃粉，及與之相匹配的光輻射加熱源，以便有效地吸收輻射能量。
[0004]現(xiàn)有的含鉛低溫封接玻璃粉是以滿足傳統(tǒng)的電熱元件整體加熱封接方式為目的而設(shè)計的，關(guān)注的重點集中在玻璃粉的封接溫度、熱膨脹系數(shù)、流動性、封接強度、絕緣電阻和化學穩(wěn)定性等。將其用于光輻射加熱封接工藝時，易出現(xiàn)加熱速度慢、加熱區(qū)域大、被封接物體整體溫度升高等一系列問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實施例的目的是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種具有光譜選擇性吸收特性，可用于光輻射選擇性加熱封接工藝，且封接溫度低、化學穩(wěn)定性好、膨脹系數(shù)適當，易于制備的含鉛封接玻璃粉。
[0006]本發(fā)明的另一目的在于提供一種用于制造上述含鉛封接玻璃粉的方法，該方法不僅使封接玻璃粉的制造過程易于進行，而且可以根據(jù)不同的特性要求，添加不同組分的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，滿足電真空器件、電子元器件、真空組件的封接對玻璃光譜特性、熔封溫度、膨脹系數(shù)的要求。
[0007]為了實現(xiàn)上述目的本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:
[0008]一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉，以含鉛低溫封接玻璃系統(tǒng)為基礎(chǔ)組分，在所述基礎(chǔ)組分中加有可使封接玻璃產(chǎn)生光譜選擇性吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物。
[0009]所述基礎(chǔ)組分選自鉍系含鉛低溫封接玻璃和磷系含鉛低溫封接玻璃，其中:
[0010]所述基礎(chǔ)組分由鉛系低溫封接玻璃組成，所述鉛系含鉛低溫封接玻璃包括以下重量份的組分:Pb030.0~87.0 份，Β2035.0~30.0 份，Ζη00-20.0 份，SiO20.2~5.0 份 Al2O30.2~5.0份，，Bi2O3(Tli).0 份，Ρ2050~5.0 份，Κ200~0.5 份，Na200^0.5 份，Li200^0.5 份，Mg00~0.5 份，Ca00~0.5 份，Sr00~2.0 份，Ba00~2.0 份，Sn00~6.0 份，Sn200~2.0 份，Te020~3.0 份，V2050~2.0份，Sb2030~2.0 份，Ag2CXTl0.0 份，PbF2O^l0.0 份。
[0011]所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物選自:氧化鈰、三氧化二鐵、三氧化二鉻、三氧化二鎳、三氧化二鈷、氧化銅、氧化亞鐵、五氧化二釩和二氧化錳；各組分的重量份為:Ce020~2.0 份，F(xiàn)e2 O30.02 ~2.0 份，Cr2O30.02~2.0 份，Co2O30.02~2.0 份，CuO0.02~4.0 份，F(xiàn)eO0.02~4.0 份，Ni2O30.02 ~2.0 份，V2050~1.0 份，Μη00~1.0 份。
[0012]所述基礎(chǔ)組分的總重量與所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的總重量之間的重量比為 100:0.12 ~10.0。
[0013]本發(fā)明還提供利用上述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉制備玻璃粉的方法，包括以下步驟:
[0014]步驟101:按照所述基礎(chǔ)組分和所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；所述氧化物對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；
[0015]步驟102:將步驟101中得到的混合料在800~1200°C下熔化0.5~3小時，得到混合料的熔融液體；
[0016]步驟103:將步驟102中得到的混合料的熔融液體進行固化冷卻，研磨成基質(zhì)玻璃粉；
[0017]步驟104:選取或者制備膨脹系數(shù)為(一100~96) X 10_7/°C的耐火填料；
[0018]步驟105:將步驟103得到的基質(zhì)玻璃粉和步驟4得到的耐火填料充分混合均勻。
[0019]本發(fā)明提供的另一種利用上述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉制備玻璃粉的方法，包括以下步驟:
[0020]步驟101:按照所述基礎(chǔ)組分的組成，稱取所述基礎(chǔ)組分中的各種氧化物和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；所述氧化物對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；
[0021]步驟102:將步驟101中得到的混合料在800~1200°C下熔化0.5~3小時，得到混合料的熔融液體；
[0022]步驟103:將步驟102得到的混合料的熔融液體進行固化冷卻，研磨成基質(zhì)玻璃粉；
[0023]步驟104:選取可使封接玻璃粉產(chǎn)生特征光譜吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，經(jīng)充分混合制成混合物；
[0024]步驟105:選取或者制備膨脹系數(shù)為(一100~96) X 10_7/°C的耐火填料；
[0025]步驟106:將步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉、步驟104中得到的混合物和步驟105中得到的耐火填料進行充分混合均勻。[0026]所述步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉與步驟104中得到的混合物的總體積之和與所述耐火填料的體積比為:100:5~25。
[0027]本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0028]采用發(fā)明的方法制備的含鉛封接玻璃粉，具有光譜選擇性吸收特性，可用于光輻射加熱封接工藝；同時，封接玻璃還具有封接溫度低、化學穩(wěn)定性好、膨脹系數(shù)適當，易于制備、可以實現(xiàn)連續(xù)化的大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)的優(yōu)點。適用于電子元器件、電真空器件和真空玻璃的光輻射加熱封接技術(shù)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1是本發(fā)明實施例提供的一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法的流程圖；
[0030]圖2是本發(fā)明實施例提供的另一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0031]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細描述。
[0032]參見圖1，本發(fā)明的含鉛低溫封接玻璃粉原料由化工原料或礦物原料組成，包括:氧化鉛、硼酸、氧化鋅、三氧化二鉍、五氧化二磷、二氧化硅、氧化鋁、碳酸鉀、純堿、碳酸鋰、氧化鎂、碳酸鈣、碳酸鍶、碳酸鋇、氧化亞錫(II)、二氧化錫(IV)、二氧化碲、五氧化二釩、三氧化二銻、硝酸銀、氟化鉛、二氧化鈰、三氧化二鐵、三氧化二鉻、三氧化二鎳、三氧化二鈷、氧化銅、氧化亞鐵、五氧化二釩和二氧化錳。這些原料按照其氧化物含量換算成相應的重量份數(shù)比進行配料，稱取含鉛低溫封接玻璃的基礎(chǔ)組分和可產(chǎn)生選擇性光譜吸收特性的稀土氧化物、過渡金屬氧化物，混合，再經(jīng)過高溫熔制、冷卻、碾碎、研磨、過篩，制成基質(zhì)玻璃粉，還可加入具有特定膨脹系數(shù)的耐火填料，將基質(zhì)玻璃粉和耐火填料均勻混合，制成具有光譜選擇性吸收特性的含鉛低溫封接玻璃粉。
[0033]參見圖2，本發(fā)明提供的另一種制備方法，先稱料:稱取含鉛低溫封接玻璃的基礎(chǔ)組分，混合，再經(jīng)過高溫熔制、冷卻、碾碎、研磨、過篩，制基質(zhì)玻璃粉，再稱量可產(chǎn)生選擇性光譜吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，選取或制備具有特定膨脹系數(shù)的耐火填料，將基質(zhì)玻璃粉、稀土氧化物和過渡金屬氧化物和耐火填料均勻混合，制成具有光譜選擇性吸收特性的含鉛低溫封接玻璃粉。
[0034]下面就含鉛封接玻璃粉性能指標以及產(chǎn)品的加工要求結(jié)合具體實施例作進一步說明。
[0035]實施例1
[0036]一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法:
[0037]步驟101:按照表1中實施例1對應的組分，即基礎(chǔ)組分和稀土氧化物和過渡金屬氧化物的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；其中，氧化硼、氧化鈣、氧化鍶、氧化鋇和氧化銀選用其對應的化合物，對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；[0038]步驟102:將步驟101中得到的混合料在1200°C下熔化3小時，得到混合料的熔融液體；
[0039]步驟103:將步驟102中得到的混合料的熔融液體在鐵板上冷卻，將冷卻后的玻璃碎塊碾碎、研磨，過200目篩，獲得基質(zhì)玻璃粉；
[0040]基質(zhì)玻璃粉組成如下(克):
[0041]Pb030.0，Β20330.0，Ζη020.0，Ρ2055.0，Si025.0，Α12035.0，MgO0.5，CaO0.5，Sr02.0，Ba02.00
[0042]其中還包括可使封接玻璃產(chǎn)生光譜選擇性吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，其組成如下(克):
[0043]CeO20.3, Fe2O30.3, Cr2O30.3, Ni2O30.3, Co2O30.4, Cu04.0, Fe04.0, V2O50.2, MnO0.2。
[0044]其中，基礎(chǔ)組分的總重量與所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的總重量之間的重量比為:100:10.0。
[0045]步驟104:制備耐火填料；[0046]石英玻璃粉填料的制備過程為:采用三類或者四類石英玻璃經(jīng)碾碎、研磨、過大于300目篩，即可制得低膨脹系數(shù)石英玻璃粉填料。
[0047]步驟105:將步驟103中得到的基質(zhì)玻璃粉和步驟104中得到的耐火填料充分混合均勻；
[0048]基質(zhì)玻璃粉與石英玻璃粉按著體積比為100:5，進行充分混合均勻，制成本實施例的無鉛封接玻璃粉。
[0049]本實施例的含鉛封接玻璃粉為膨脹系數(shù)為86.8X 10_V°C，熔封溫度為520°C的含鉛低熔封接玻璃粉。本含鉛封接玻璃粉具有較低的熱膨脹系數(shù)和適中熔封溫度，并具有吸紅外光譜特性，可用于加熱光源為紅外激光器或紅外光燈(波長810-5000納米)的光輻射加熱封接工藝。
[0050]實施例2
[0051]一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法:
[0052]步驟101:按照表1中實施例2對應的組分，即基礎(chǔ)組分和稀土氧化物和過渡金屬氧化物的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；制成混合料；其中，氧化硼、氧化鉀、氧化鈉、氧化鋰和氧化銀選用其對應的化合物，對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；
[0053]步驟102:將步驟101中得到的混合料在800°C下熔化0.5小時，得到混合料的熔
融液體；
[0054]步驟103:將步驟102得到的混合料的熔融液體在鐵板上冷卻，將冷卻后的玻璃碎塊碾碎、研磨，過300目篩，獲得基質(zhì)玻璃粉；
[0055]加工好的基質(zhì)玻璃粉的組成如下(克):
[0056]Pb087.0，Β2035.0，Bi2O3L 0，P2O5L 0，SiO20.5，Al2O30.5，K2O0.5，Na2O0.5，Li2O0.5，Sη00.5，SnO20.5，TeO20.5，V2O50.5Sb2030.5，Ag2Oj PbF20.5。
[0057]其中還包括可使封接玻璃產(chǎn)生光譜選擇性吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，其組成如下(克):
[0058]Ce022.0，F(xiàn)e2032.0，Cr2032.0，Ni2O30.2，Co2O30.1，CuO0.1，F(xiàn)eO0.5，V2O50.1，MnO0.1。[0059]其中，基礎(chǔ)組分的總重量與所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的總重量之間的重量比為:100:7.1。
[0060]步驟104:制備耐火填料；
[0061]耐火填料為過300目篩的鈣鈦酸鉛粉
[0062]步驟105:將步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉與步驟104中所得到的鈣鈦酸鉛填料進行充分混合均勻；
[0063]基質(zhì)玻璃粉與鈣鈦酸鉛粉按著體積比為100:10進行充分混合均勻，制成本實施例的無鉛封接玻璃粉。
[0064]本實施例的含鉛封接玻璃粉膨脹系數(shù)為91.6X10_7/°C，熔封溫度為430°C，具有較低的熔封溫度和良好流動性，對紫外光具有選擇性光譜吸收特性，可用于加熱光源為紫外激光器或紫外燈(波長355納米)的光輻射加熱封接工藝。
[0065]實施例3
[0066]一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法:
[0067]步驟101:按照表1中實施例3對應的組分，即基礎(chǔ)組分和稀土氧化物和過渡金屬氧化物的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；其中，氧化硼、氧化鈣、氧化鍶、氧化鋇和氧化銀選用其對應的化合物，對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；
[0068]步驟102:將步驟101中得到的混合料在1100°C下熔化2小時，得到混合料的熔融液體；
[0069]步驟103:將步驟102得到的混合料的熔融液體在鐵板上冷卻，將冷卻后的玻璃碎塊碾碎、研磨，過300目篩，獲得基質(zhì)玻璃粉；
[0070]加工好的基質(zhì)玻璃粉的組成如下(克):
[0071]Pb046.0, Β2036.0, ZnOl.3，Bi2O3I0.0, SiO20.2，Al2O30.2，K2O0.2，Na2O0.1，Li2O0.2，MgO0.2，Ca O0.2，SrO0.2，BaO0.2，Sn06.0，Sn022.0，Te023.0，V2052.0，Sb2032.0，Ag2Ol0.0，PbF2I0.00
[0072]步驟104:選取可使封接玻璃粉產(chǎn)生特征光譜吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，即表1中實施例3的過渡金屬氧化物，經(jīng)充分混合制成混合物；
[0073]混合物組成如下(克):
[0074]Fe2O30.02，Cr2O30.02，Ni2O30.02，Co2O30.02，CuO0.02，F(xiàn)eO0.02。
[0075]步驟105:選取耐火填料；
[0076]耐火填料為過300目篩的β -鋰霞石；
[0077]步驟106:將步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉、步驟104中得到的混合物和步驟105中所得到的β_鋰霞石粉進行充分混合均勻；
[0078]其中，各種粉體的比例關(guān)系如下:
[0079]步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉:步驟104中得到的混合物的重量百分比=100:0.12 ；
[0080]步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉與步驟104中得到的混合物總體積之和:步驟105中得到的耐火填料的體積比=100:15ο
[0081 ] 將其進行充分混合制成本實施例的含鉛封接玻璃粉。[0082]本實施例的含鉛封接玻璃粉膨脹系數(shù)為81.2X10_7/°C，熔封溫度為460°C，具有較低的熔封溫度和良好流動性，對可見光具有選擇性光譜吸收特性，可用于加熱光源為可見激光器(波長380-780納米)的光輻射加熱封接工藝。
[0083]實施例4
[0084]一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉的制造方法:
[0085]步驟101:按照表1中實施例4對應的組分，即基礎(chǔ)組分的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；其中，氧化硼和氧化銀選用其對應的化合物，對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)；
[0086]步驟102:將步驟101中得到的混合料在1000°C下熔化I小時，得到混合料的熔融液體；
[0087]步驟103:將步驟102得到的混合料的熔融液體在鐵板上冷卻，將冷卻后的玻璃碎塊碾碎、研磨，過300目篩，獲得基質(zhì)玻璃粉；
[0088]加工好的基質(zhì)玻璃粉的組成如下(％):
[0089]Pb062.9，Β2039.1，ZnOl.0, Bi2035.0, Ρ2053.1，SiO2L 4，Α12032.4，Te022.0, V2O5L O, Sb203l.0，Ag205.5，PbF25.5。
[0090]步驟104:選取可使封接玻璃粉產(chǎn)生特征光譜吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，即表1中第二種組分中的的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，經(jīng)充分混合制成混合物；
[0091]混合物具有如下組成:
[0092]CeO20.1, Fe2O30.2, Cr2O30.2, Ni2032.0, Co2032.0, CuO1.0, FeOl.0, V2O5L O, MnO1.0。
[0093]步驟105:選取耐火填料；
[0094]耐火填料為過300目篩的堇青石粉；
[0095]步驟106:將步驟103中所得到的玻璃粉、步驟104中得到的混合物和步驟105中所得到的堇青石粉進行充分混合均勻；
[0096]其中，各種粉體的比例關(guān)系如下:
[0097]步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉與步驟104中得到的混合物的重量百分比為:100:8.5 ;步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉與步驟104得到的混合物的總體積之和與步驟105中得到的耐火填料的體積比為:100:25。
[0098]將其進行充分混合制成本實施例的含鉛封接玻璃粉。
[0099]本實施例的含鉛封接玻璃粉膨脹系數(shù)為79.1X10_7/°C，熔封溫度為500°C，具有較低的熔封溫度和良好流動性，對紅外光具有選擇性光譜吸收特性，可用于加熱光源為紅外激光器或紅外光燈(波長810-5000納米)的光輻射加熱封接工藝。
[0100]步驟104:選取耐火填料；
[0101]耐火填料為過300目篩的堇青石粉；
[0102]表1三種實施例封接玻璃的組成和性能
[0103]
【權(quán)利要求】
1.一種具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉，其特征在于，以含鉛低溫封接玻璃系統(tǒng)為基礎(chǔ)組分，在所述基礎(chǔ)組分中加有可使封接玻璃產(chǎn)生光譜選擇性吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉，其特征在于，所述基礎(chǔ)組分由鉛系低溫封接玻璃組成，所述鉛系含鉛低溫封接玻璃包括以下重量份的組分:PbO 30.0~87.0 份，Β2035.0~30.0 份，ZnO 0~20.0 份，Bi2O3O^l0.0 份，Ρ2050~5.0 份，SiO20.2~5.0 份 Al2O30.2~5.0 份，K2O 0~0.5 份，Na2O(H).5 份，Li2O 0~0.5 份，MgO 0~0.5 份，CaO 0~0.5 份，SrO 0~2.0 份，BaO 0~2.0 份，SnO 0~6.0 份，Sn2O 0~2.0 份，Te020~3.0 份，V2050~2.0 份，Sb2030~2.0 份，Ag200~10.0 份，PbF2O^l0.0 份。
3.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉，其特征在于，所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物選自:氧化鈰、三氧化二鐵、三氧化二鉻、三氧化二鎳、三氧化二鈷、氧化銅、氧化亞鐵、五氧化二釩和二氧化錳；各組分的重量份為:Ce02(T2.0份，F(xiàn)e2O30.02 ~2.0 份，Cr2O30.02~2.0 份，Ni2O30.02 ~2.0 份，Co2O30.02~2.0 份，CuO0.02~4.0份，F(xiàn)eO 0.02~4.0 份，V2050~1.0 份，MnO (Tl.0 份。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉，其特征在于，所述基礎(chǔ)組分的總重量與所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的總重量之間的重量比為100:0.12 ~10.0。
5.利用權(quán)利要求4所述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉制備玻璃粉的方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟101:按照所述基礎(chǔ)組分和所述稀土氧化物和過渡金屬氧化物的組成，稱取各種氧化物原料和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；所述氧化物對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)； 步驟102:將步驟101中得到的混合料在800~1200°C下熔化0.5~3小時，得到混合料的熔融液體； 步驟103:將步驟102中得到的混合料的熔融液體進行固化冷卻，研磨成基質(zhì)玻璃粉； 步驟104:選取或者制備膨脹系數(shù)為(一 100~96) X 10_7/°C的耐火填料； 步驟105:將步驟103得到的基質(zhì)玻璃粉和步驟104得到的耐火填料充分混合均勻。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述基質(zhì)玻璃粉與所述耐火填料的體積比為:100:5-25。
7.利用權(quán)利要求1所述的具有光譜選擇性吸收特性的含鉛封接玻璃粉制備玻璃粉的方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟101:按照所述基礎(chǔ)組分的組成，稱取所述基礎(chǔ)組分中的各種氧化物和/或氧化物對應的化合物，充分混合，制成混合料；所述氧化物對應的化合物的重量份為按照其氧化物含量換算成的相應的重量份數(shù)； 步驟102:將步驟101中得到的混合料在800~1200°C下熔化0.5~3小時，得到混合料的熔融液體； 步驟103:將步驟102得到的混合料的熔融液體進行固化冷卻，研磨成基質(zhì)玻璃粉； 步驟104:選取可使封接玻璃粉產(chǎn)生特征光譜吸收特性的稀土氧化物和過渡金屬氧化物，經(jīng)充分混合制成 混合物；步驟105:選取或者制備膨脹系數(shù)為(一 100~96) X IO-V0C的耐火填料； 步驟106:將步驟103中所得到的基質(zhì)玻璃粉、步驟104中得到的混合物和步驟105所得耐火填料進行充分混合均勻。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述基質(zhì)玻璃粉與步驟104中得到的混合物的總體積之和與所述耐火填料的體積比為:100:5~25。
【文檔編號】C03C8/24GK103910491SQ201310003969
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年1月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月7日
【發(fā)明者】黃幼榕, 李要輝, 王晉珍, 汪洪 申請人:中國建筑材料科學研究總院, 北京航玻新材料技術(shù)有限公司