專利名稱：改良的硅片收集裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種收集裝置，特別涉及一種硅片的收集裝置，屬于硅片加工設備的技術領域。
背景技術：
硅片加工過程中，通過線切割將硅棒加工成硅片。切割后的硅片通過收集裝置收集?，F有技術中的收集裝置包括收集槽，收集過程中，硅片下落時會相互擠壓重疊，拾取時容易使娃片表面受:損，從而影響娃片加工質量。近來出現了一種收集裝置，包括收集槽，其中收集槽上設有出風裝置，當硅片落下來時可以吹出氣體，對硅片進行緩沖。但是其出風裝置的出風口端頭位于收集裝置內，也會對下落中的娃片造成損壞。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是針對以上弊端提供一種新型的硅片收集裝置。為解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案是一種改良的硅片收集裝置，包括收集槽，其中，所述收集槽兩壁中各設有一空腔，所述空腔外壁上設有出風裝置，內壁均勻設有若干縱向通孔。上述一種改良的硅片收集裝置，其中，所述的出風裝置內置一定時控制閥。本發(fā)明的有益效果為當硅片落下來時，可通過出風裝置噴出氣體，從各縱向通孔中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質量，節(jié)省了人工。兩臂的出風裝置通過設定定時控制閥分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，節(jié)省了人工。


圖1為本發(fā)明的結構示意圖
具體實施例方式下面結合附圖對本發(fā)明作進一步說明。如圖所示，本發(fā)明包括收集槽1，其中，所述收集槽I兩壁中各設有一空腔3，所述空腔3外壁上設有出風裝置41、42，內壁均勻設有若干縱向通孔2。當硅片落下來時，可通過出風裝置41、42噴出氣體，從各縱向通孔2中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質量，節(jié)省了人工。同時，出風裝置41、42內置一定時控制閥51、52，通過設定定時控制閥51、52實現分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，節(jié)省了人工。
權利要求
1.一種改良的硅片收集裝置，包括收集槽，其特征為，所述收集槽兩壁中各設有一空腔，所述空腔外壁上設有出風裝置，內壁均勻設有若干縱向通孔。
2.如權利要求1所述的一種改良的硅片收集裝置，其特征為，所述的出風裝置內置一定時控制閥。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型的硅片收集裝置，包括收集槽，其中，所述收集槽兩壁中各設有一空腔，所述空腔外壁上設有出風裝置，內壁均勻設有若干縱向通孔，且所述的出風裝置內置一定時控制閥。兩壁的出風裝置通過設定定時控制閥分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，當硅片落下來時，可通過出風裝置噴出氣體，從各縱向通孔中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質量，節(jié)省了人工。
文檔編號B28D5/04GK103042615SQ20121057248
公開日2013年4月17日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權日2012年12月26日
發(fā)明者聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司