專利名稱：一種中性高透低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃領(lǐng)域，尤其涉及一種中性高透低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
目前，作為建筑用節(jié)能玻璃，低輻射中空玻璃已被廣泛使用。但目前高透產(chǎn)品已經(jīng)跟不上建筑鍍膜的要求，特別是熱學(xué)性能要求。其中影響玻璃熱學(xué)性能的主要是鍍膜玻璃的輻射率。同時(shí)大多數(shù)的建筑幕墻都會(huì)使用單片陽光膜作為窗間墻部分的外圍護(hù)結(jié)構(gòu)。在不同的觀察角度條件下，窗間墻部分的鍍膜玻璃顏色需要與中空低輻射鍍膜玻璃顏色接近以保證建筑總體外觀效果一致
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種具有中性顏色，高可見光透射率的中性高透低輻射鍍膜玻璃。技術(shù)方案為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明所述的一種中性高透低輻射鍍膜玻璃，在玻璃原片的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I、金屬銀層、氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷阻擋層和電介質(zhì)層II ;其中，所述的電介質(zhì)層I為氧化鈦層、氧化鋅層、氮化硅層或其組合，電介質(zhì)層II為氧化鈦層、氧化鋅層、氮化硅層或其組合。作為優(yōu)選,所述的電介質(zhì)層I的厚度為10 IOOnm ;金屬銀層Ag的厚度為2 50nm ;氧化鋅招或氧化鈦陶瓷阻擋層的厚度為I 50nm ；電介質(zhì)層II的厚度為10 150nm。作為優(yōu)選，所述玻璃原片的厚度為4mm、5mm、6mm、8mm、IOmm或12mm。有益效果本發(fā)明提供的中性高透低輻射鍍膜玻璃，與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)使用的玻璃膜層采用鈦基層，同時(shí)采用氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷材料作為阻擋層保護(hù)銀層，從而具有高可見光透射率，中性顏色，輻射率低等優(yōu)點(diǎn)。


圖I為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本發(fā)明。如圖I所示的一種中性高透低輻射鍍膜玻璃，在玻璃原片I的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I 2、金屬銀層3、氧化鈦陶瓷阻擋層4和電介質(zhì)層II 5;其中，電介質(zhì)層I 2為氧化鈦層，電介質(zhì)層II 5為氧化鈦層。其中，所述的玻璃原片I的厚度為8mm，電介質(zhì)層I 2的厚度為55nm (10 IOOnm范圍內(nèi)均可);金屬銀層3的厚度為25nm (2 50nm范圍內(nèi)均可)；氧化鈦陶瓷阻擋層4的厚度為25nm (I 50nm范圍內(nèi)均可)；電介質(zhì)層II 5的厚度為80nm (10 150nm范圍內(nèi)均可)。制作上述中性高透低輻射鍍膜玻璃的參數(shù)如下
上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的是讓熟悉該技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作出的等同變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種中性高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于在玻璃原片(I)的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I (2)、金屬銀層(3)、氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷阻擋層(4)和電介質(zhì)層II (5);其中，所述的電介質(zhì)層I (2)為氧化鈦層、氧化鋅層、氮化硅層中的一種或其組合，電介質(zhì)層II(5)為氧化鈦層、氧化鋅層、氮化硅層中的一種或其組合。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的中性高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述的電介質(zhì)層I(2)的厚度為10 IOOnm ;金屬銀層(3)的厚度為2 50nm ;氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷阻擋層(4)的厚度為I 50nm ;電介質(zhì)層II (5)的厚度為10 150nm。
3 .根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種中性高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述玻璃原片(I)的厚度為 4mm、5mm、6mm、8mm、10mm 或 12mm。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種中性高透低輻射鍍膜玻璃，在玻璃原片的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層Ⅰ、金屬銀層、氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷阻擋層和電介質(zhì)層Ⅱ；其中，所述的電介質(zhì)層Ⅰ為氧化鈦層、氧化鋅層、氮化硅層或其組合，電介質(zhì)層Ⅱ?yàn)檠趸亴?、氧化鋅層、氮化硅層或其組合。本發(fā)明提供的中性高透低輻射鍍膜玻璃，與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)使用的玻璃膜層采用鈦基層，同時(shí)采用氧化鋅鋁或氧化鈦陶瓷材料作為阻擋層保護(hù)銀層，從而具有高可見光透射率，中性顏色，輻射率低等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C03C17/36GK102806728SQ20121032427
公開日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月5日
發(fā)明者王茂良, 顧黎明, 徐峰 申請(qǐng)人:太倉耀華玻璃有限公司