硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了硅片清洗設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】中的一種硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，包括進(jìn)料槽、出料槽、去污槽、藥液槽，漂洗槽、進(jìn)水管和排污管，其中去污槽為四個(gè)，藥液槽為二個(gè)，漂洗槽為四個(gè)，進(jìn)水管分別與進(jìn)料槽、四個(gè)去污槽、二個(gè)藥液槽、四個(gè)漂洗槽和出料槽相連，其特征在于：還包括一個(gè)收集箱，四個(gè)漂洗槽、出料槽的排水管與收集箱相連，進(jìn)料槽、四個(gè)去污槽和二個(gè)藥液槽的排水管與排污管相連，收集箱外設(shè)有水泵，水泵與收集箱、進(jìn)料槽之間管道相連,收集箱內(nèi)設(shè)置液位感應(yīng)器。本實(shí)用新型利用收集箱回收漂洗水可以實(shí)現(xiàn)水的循環(huán)利用、降低水耗及生產(chǎn)成本，增加液位感應(yīng)器可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的自動(dòng)化程度，從而提高設(shè)備利用率。
【專利說(shuō)明】硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及硅片清洗設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽(yáng)能電池硅片在切割后必需經(jīng)過(guò)多級(jí)清洗，以去除附著在硅片表面的砂漿。目前所用清洗設(shè)備為多級(jí)槽式清洗機(jī)，硅片清洗設(shè)備主要是利用純水及超聲波將硅片依次進(jìn)入8個(gè)以上的水槽內(nèi)清洗干凈，附著切割液的硅片隨著設(shè)備的運(yùn)作，依次進(jìn)入各個(gè)水槽，待清洗硅片從第一個(gè)清洗槽開(kāi)始逐級(jí)清洗后移出，在第一個(gè)清洗槽中硅片表面附著的雜質(zhì)最多，以后將逐級(jí)減少，除固定更換的兩個(gè)藥液槽外，其余各個(gè)水槽都需要不間斷注入新水，使槽內(nèi)清洗硅片后的水構(gòu)成流動(dòng)的更換，各級(jí)清洗槽所排出的污水直接排放，清洗硅片所耗水量很大，存在很大的水資源浪費(fèi)問(wèn)題，而且還會(huì)污染環(huán)境。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種布置合理、降低水耗及生產(chǎn)成本、自動(dòng)化程度高、提高設(shè)備利用率的硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:
[0005]一種硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，包括進(jìn)料槽、出料槽、去污槽、藥液槽，漂洗槽、進(jìn)水管和排污管，其中去污槽為四個(gè)，藥液槽為二個(gè)，漂洗槽為四個(gè)，進(jìn)水管分別與進(jìn)料槽、四個(gè)去污槽、二個(gè)藥液槽、四個(gè)漂洗槽和出料槽相連，其特征在于:還包括一個(gè)收集箱，四個(gè)漂洗槽、出料槽的排水管與收集箱相連，進(jìn)料槽、四個(gè)去污槽和二個(gè)藥液槽的排水管與排污管相連，收集箱外設(shè)有水泵，水泵與收集箱、進(jìn)料槽之間管道相連。
[0006]優(yōu)選的，所述收集箱內(nèi)設(shè)置液位感應(yīng)器。
[0007]優(yōu)選的，所述液位感應(yīng)器與水泵導(dǎo)線連接。
[0008]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:本實(shí)用新型利用收集箱回收漂洗水可以實(shí)現(xiàn)水的循環(huán)利用、降低水耗及生產(chǎn)成本，增加液位感應(yīng)器可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的自動(dòng)化程度，從而提高設(shè)備利用率。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖中:1_進(jìn)料槽，2-出料槽，3-去污槽，4-藥液槽，5-漂洗槽，6-進(jìn)水管，7-排污管，8-收集箱，9-水泵。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0012]如圖1所示，一種硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，包括進(jìn)料槽1、出料槽2、去污槽3、藥液槽4,漂洗槽5、進(jìn)水管6和排污管7,其中去污槽3為四個(gè),藥液槽4為二個(gè),漂洗槽5為四個(gè)，進(jìn)水管6分別與進(jìn)料槽1、四個(gè)去污槽3、二個(gè)藥液槽4、四個(gè)漂洗槽5和出料槽2相連，其特征在于:還包括一個(gè)收集箱8，四個(gè)漂洗槽5、出料槽2的排水管與收集箱8相連，進(jìn)料槽1、四個(gè)去污槽3和二個(gè)藥液槽4的排水管與排污管7相連，收集箱8外設(shè)有水泵9，水泵9與收集箱8、進(jìn)料槽I之間管道相連，所述收集箱8內(nèi)設(shè)置液位感應(yīng)器，所述液位感應(yīng)器與水泵9導(dǎo)線連接。
[0013]硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備主要是利用純水及超聲波將硅片依次進(jìn)入八個(gè)以上的水槽內(nèi)清洗干凈，且除固定更換的兩個(gè)藥液槽4外，其余各個(gè)水槽都需要不間斷注入新水，使槽內(nèi)清洗硅片后的水構(gòu)成流動(dòng)的更換，本實(shí)用新型包括進(jìn)料槽1、出料槽2、四個(gè)去污槽3，二個(gè)藥液槽4，四個(gè)漂洗槽5、進(jìn)水管6和排污管7，附著切割液的硅片隨著設(shè)備的運(yùn)作，依次進(jìn)入各個(gè)水槽，最后四個(gè)漂洗槽5主要承擔(dān)著經(jīng)過(guò)藥液后硅片的漂洗工作，而設(shè)備前幾個(gè)水槽:進(jìn)料槽1、四個(gè)去污槽3是臟污最嚴(yán)重的水槽，都需要溢流將槽內(nèi)污水進(jìn)行更替，也是主要使用溢流的水槽，將設(shè)備漂洗槽排水管路進(jìn)行改造，將溢流排出的水引入一個(gè)收集箱8內(nèi)，再通過(guò)水泵9抽出，連接管路到清洗設(shè)備的第一個(gè)進(jìn)料槽I內(nèi)，將設(shè)備最后四個(gè)漂洗槽5和出料槽2的溢流水進(jìn)行循環(huán)利用，另外在收集箱8中安裝液位感應(yīng)器，液位感應(yīng)器通過(guò)導(dǎo)線與水泵9連接，可以根據(jù)液壓的高低自動(dòng)控制水泵9的啟停，使之達(dá)到自動(dòng)化，使清洗過(guò)程更加的合理方便。
[0014]本實(shí)用新型利用收集箱回收漂洗水可以實(shí)現(xiàn)水的循環(huán)利用、降低水耗及生產(chǎn)成本，增加液位感應(yīng)器可以實(shí)現(xiàn)水泵的自動(dòng)啟停，提高設(shè)備的自動(dòng)化程度，從而提高設(shè)備利用率。
【權(quán)利要求】
1.一種硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，包括進(jìn)料槽(I)、出料槽(2)、去污槽(3)、藥液槽(4)、漂洗槽(5)、進(jìn)水管(6)和排污管(7),其中去污槽(3)為四個(gè),藥液槽(4)為二個(gè),漂洗槽(5)為四個(gè)，進(jìn)水管(6)分別與進(jìn)料槽(I)、四個(gè)去污槽(3)、二個(gè)藥液槽(4)、四個(gè)漂洗槽(5)和出料槽(2)相連，其特征在于:還包括一個(gè)收集箱(8)，四個(gè)漂洗槽(5)、出料槽(2)的排水管與收集箱(8)相連，進(jìn)料槽(I)、四個(gè)去污槽(3)和二個(gè)藥液槽(4)的排水管與排污管(7)相連，收集箱(8 )外設(shè)有水泵(9 )，水泵(9 )與收集箱(8 )、進(jìn)料槽(I)之間管道相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，其特征在于:所述收集箱(8)內(nèi)設(shè)置液位感應(yīng)器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片多級(jí)循環(huán)清洗設(shè)備，其特征在于:所述液位感應(yīng)器與水泵(9)導(dǎo)線連接。
【文檔編號(hào)】B08B3/08GK203389887SQ201320367106
【公開(kāi)日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2013年6月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月25日
【發(fā)明者】劉彬國(guó), 何京輝, 李立偉, 史彪 申請(qǐng)人:邢臺(tái)晶龍電子材料有限公司