一種清潔滾筒的制作方法
【專利摘要】一種清潔滾筒，涉及一種清潔工具，包括支架、手柄、滾筒和設(shè)置在所述滾筒表面的粘性清潔層，滾筒包括甲支撐條和乙支撐條，甲支撐條和乙支撐條可以在甲折疊骨架和乙折疊骨架和其他裝置的作用下伸出縮進。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明能夠在清除少量灰塵雜物的情況下只使用清潔滾筒的一部分，保持另一部分的粘性，使得清潔滾筒的使用時間增加，減少了用水清洗清潔滾筒的頻率。不僅增加了清潔滾筒的清潔效率，還節(jié)約用水。
【專利說明】一種清潔滾筒
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種清潔工具，尤其是一種具有粘性的清潔滾筒。
【背景技術(shù)】
[0002]為了保持居家環(huán)境整潔及個人用品的整潔，常常需要使用很多不同的清潔用具，才能達到保持環(huán)境整潔及個人衣物整齊的目的?，F(xiàn)在市面上有一種清潔滾筒，利用設(shè)置在其表面的粘性清潔層來清潔桌面、墻面、地面或者其他地方的細小灰塵或雜物。因為粘性清潔層大多數(shù)用水洗后還具有粘性的PU或RTPU清潔黏貼層，所以這種清潔滾筒可以重復(fù)使用。但是這種滾筒也具有一些缺點，一旦表面沾有少量的灰塵或者雜物后粘性就會降低，如果要恢復(fù)粘性就需要及時水洗，無法一次長時間使用，同時頻繁水洗容易造成水資源的浪費。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供了一種清潔滾筒，能夠在清除少量灰塵雜物的情況下只使用清潔滾筒的一部分，保持另一部分的粘性，使得清潔滾筒的使用時間增加，減少了用水清洗清潔滾筒的頻率。不僅增加了清潔滾筒的清潔效率，還節(jié)約用水。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明通過下述技術(shù)方案得以解決:一種清潔滾筒，包括支架、手柄、滾筒和設(shè)置在所述滾筒表面的粘性清潔層，所述的支架包括左支撐板、右支撐板和前支撐板，所述的滾筒轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述的左支撐板和所述的右支撐板之間，所述的滾筒包括左蓋板、右蓋板和設(shè)置在所述左蓋板和所述右蓋板之間的若干個甲支撐條和若干個乙支撐條，所述的甲支撐條和所述的乙支撐條兩端設(shè)置有豎直滑槽，所述的左蓋板和所述的右蓋板上設(shè)置有與所述的豎直滑槽相配合的滑塊，所述的甲支撐條與所述的乙支撐條交錯排列成圓柱形，所述的圓柱形內(nèi)部中空，所述的圓柱形內(nèi)部設(shè)置有中空管，所述的中空管上設(shè)置有若干個甲折疊骨架，所述的甲折疊骨架連接有所述的甲支撐條，所述的中空管穿過所述的左蓋板和所述的左支撐板，所述的中空管上設(shè)置有兩個甲限位機構(gòu)，所述的左支撐板上設(shè)子有與所述甲限位機構(gòu)相配合的甲卡扣，所述的中空管內(nèi)設(shè)置有控制管，所述的控制管上設(shè)置有若干個乙折疊骨架，所述的中空管上設(shè)置有與所述的乙折疊骨架相配合的移動槽，所述的乙折疊骨架連接有所述的乙支撐條，所述的控制管穿過所述的右蓋板和所述的右支撐板，所述的控制管上設(shè)置有兩個乙限位機構(gòu)，所述的右支撐板上設(shè)子有與所述乙限位機構(gòu)相配合的乙卡扣，所述的甲支撐條和所述的乙支撐條上設(shè)置有粘性清潔層。
[0005]這樣設(shè)置，甲支撐條和乙支撐條都是長條型，且截面為上底面和下底面為圓弧的梯形，若干個甲支撐條和若干個乙支撐條交錯拼接可以形成一個圓柱形。有甲支撐條和乙支撐條組成的圓柱形內(nèi)部中空，圓柱形內(nèi)部中空內(nèi)具有中空管和控制管，中空管和控制管分別連接有甲折疊骨架和乙折疊骨架。只要拉動中空管或控制管，在甲折疊骨架或乙折疊骨架的作用下，甲支撐條或乙支撐條就能向外移動，使甲支撐條或乙支撐條突出。
[0006]圓柱形在左蓋板和右蓋板之間，甲支撐條和乙支撐條上有豎直滑槽，左蓋板和右蓋板有與豎直滑槽相配合的滑塊；滑塊與豎直滑槽對甲支撐條和乙支撐條起導向和限位最用，在甲支撐條或乙支撐條突出后的滾動過程中不至于發(fā)生偏移。
[0007]在左支撐板、右支撐板上還設(shè)置有卡扣，中空管上設(shè)置有兩個甲限位機構(gòu)，其中在外側(cè)的甲限位機構(gòu)固定未伸張時的甲支撐條，在內(nèi)側(cè)的甲限位機構(gòu)固定伸展狀態(tài)時的甲支撐條。這樣在轉(zhuǎn)動時甲支撐條就不會縮進伸出。同理，控制管上也有這種設(shè)置。
[0008]在甲支撐條和乙支撐條的表面都黏貼設(shè)置有粘性清潔層，粘性清潔層在沾有灰塵雜質(zhì)時粘性會降低，必須通過水洗，洗去灰塵雜質(zhì)讓粘性清潔層重新具有粘性。
[0009]使用時，當灰塵雜質(zhì)較多時本發(fā)明以當一般的清潔滾筒使用。當灰塵雜質(zhì)較少是，拉出中空管或控制管讓甲支撐條或乙支撐條突出，然后通過卡扣和限位裝置固定住。這樣在清潔時只有突出的那一部分才接觸到灰塵雜質(zhì)，另一部分沒有接觸依然就有最大的粘性。這種設(shè)置的好處是能夠在清除少量灰塵雜物的情況下只使用清潔滾筒的一部分，保持另一部分的粘性，使得清潔滾筒的使用時間增加，減少了用水清洗清潔滾筒的頻率。不僅增加了清潔滾筒的清潔效率，還節(jié)約用水。
[0010]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的前支撐板上設(shè)置有若干個橡膠凸起。
[0011]這樣設(shè)置，對于頑固污潰可以先用橡膠凸起擦拭然后用清潔滾筒擦拭。
[0012]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的滾筒包括7個所述的甲支撐條和7個所述的乙支撐條，所述的甲支撐條與所述的乙支撐條交錯排列成圓柱形。
[0013]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的中空管上設(shè)置有兩組所述的甲折疊骨架，每組具有7個平均圓周分布在同一豎直平面內(nèi)的甲折疊骨架，在同一組內(nèi)的所述的甲折疊骨架分別連接有一個所述的甲支撐條。
[0014]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的控制管上設(shè)置有兩組乙折疊骨架，每組具有7個平均圓周分布在同一豎直平面內(nèi)的乙折疊骨架，在同一組內(nèi)的所述的乙折疊骨架分別連接有一個所述的乙支撐條。
[0015]這樣設(shè)置，滾筒包括7個甲支撐條和7個乙支撐條，每一塊甲支撐條都連接有兩個甲折疊骨架，同理，每一個乙支撐條都連接有兩個乙折疊骨架。在同一甲支撐條和乙支撐條上的甲折疊骨架和乙折疊骨架之間的間距都相等，且距個甲支撐條或乙支撐條兩端的距離也都相等。
[0016]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的甲限位機構(gòu)是設(shè)置在所述中空管上的甲環(huán)形凹槽，所述的乙限位機構(gòu)是設(shè)置在所述控制管上的乙環(huán)形凹槽。
[0017]這樣設(shè)置，甲限位機構(gòu)和乙限位機構(gòu)分別是在中空管和控制管上的凹槽，只要卡扣卡住這些凹槽就能使中空管和控制管固定住。
[0018]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述中空管穿過所述左蓋板和所述的左支撐板的一端設(shè)置有把手，所述控制管穿過所述的右蓋板和所述的右支撐板的一端也設(shè)置有把手。
[0019]這樣設(shè)置，在中空管和控制管上設(shè)置有把手，方便使用人員拔動。
[0020]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的甲折疊骨架包括甲支撐臂和乙支撐臂，所述的甲支撐臂轉(zhuǎn)動連接有所述的中空管，所述的乙支撐臂轉(zhuǎn)動連接有所述的甲支撐條，所述的甲支撐臂與所述的乙支撐臂轉(zhuǎn)動連接，所述甲支撐臂與所述乙支撐臂連接的一端設(shè)置有甲限位塊。
[0021]上述技術(shù)方案中，優(yōu)選的，所述的乙折疊骨架包括丙支撐臂和丁支撐臂，所述的丙支撐臂轉(zhuǎn)動連接有所述的控制管，所述的丁支撐臂轉(zhuǎn)動連接有所述的乙支撐條，所述的丙支撐臂與所述的丁支撐臂轉(zhuǎn)動連接，所述丙支撐臂與所述丁支撐臂連接的一端設(shè)置有乙限位塊。
[0022]這樣設(shè)置，甲折疊骨架包括甲支撐臂和乙支撐臂，甲支撐臂與所述乙支撐臂連接的一端設(shè)置有甲限位塊。不使用時，甲支撐臂與乙支撐臂之間呈折疊狀態(tài)，在使用時，甲支撐臂與乙支撐臂被拉直，甲支撐條被頂起。又在甲限位塊的作用下使甲支撐臂與乙支撐臂之間不會過度轉(zhuǎn)動。使甲支撐條始終被頂起。同理的乙折疊骨架也是相同設(shè)置。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:能夠在清除少量灰塵雜物的情況下只使用清潔滾筒的一部分，保持另一部分的粘性，使得清潔滾筒的使用時間增加，減少了用水清洗清潔滾筒的頻率。不僅增加了清潔滾筒的清潔效率，還節(jié)約用水。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1為本發(fā)明俯視示意圖。
[0025]圖2為本發(fā)明左側(cè)面示意圖。圖3為本發(fā)明滾筒結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖4為本發(fā)明滾筒使用狀態(tài)時結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖5為本發(fā)明中空管局部示意圖。
[0028]圖6為本發(fā)明中空管示意圖(省略部分甲折疊骨架、乙折疊骨架和移動槽)。
[0029]圖7為本發(fā)明左蓋板背面示意圖。
[0030]圖8為本發(fā)明甲支撐條側(cè)面示意圖。
[0031]圖9為本發(fā)明左支撐板背面示意圖。
[0032]圖10為本發(fā)明右支撐板背面示意圖。
【具體實施方式】
[0033]下面結(jié)合附圖與【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細描述。
[0034]參見圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7、圖8、圖9和圖10所示，一種清潔滾筒，包括支架1、手柄2、滾筒3和設(shè)置在所述滾筒3表面的粘性清潔層100。支架I包括左支撐板la、右支撐板Ib和前支撐板lc，前支撐板Ic上設(shè)置有若干個橡膠凸起9。滾筒3轉(zhuǎn)動設(shè)置在左支撐板Ia和所述的右支撐板Ib之間。滾筒3包括左蓋板3a、右蓋板3b和設(shè)置在左蓋板3a和所述右蓋板3b之間的7個甲支撐條3c和7個乙支撐條3d，甲支撐條3c和乙支撐條3d兩端設(shè)置有豎直滑槽4，左蓋板3a和右蓋板3b上設(shè)置有與豎直滑槽4相配合的滑塊5。
[0035]甲支撐條3c和乙支撐條3d都是長條型，且截面為上底面和下底面為圓弧的梯形，7個甲支撐條3c和7個乙支撐條3d交錯拼接可以形成一個圓柱形。在本發(fā)明中甲支撐條3c和乙支撐條3d可以為是其他數(shù)量的，只要能交錯拼接可以形成一個圓柱形即可。甲支撐條3c和乙支撐條3d形成的圓柱形內(nèi)部中空，在這個圓柱形內(nèi)具有中空管6和控制管7，其中中空管6內(nèi)部中空，控制管7在中空管6內(nèi)。
[0036]中空管6上設(shè)置有兩組甲折疊骨架61，每組具有7個在同一豎直平面內(nèi)的甲折疊骨架61，在同一組內(nèi)的甲折疊骨架61分別連接有一個的甲支撐條3c。甲折疊骨架61包括甲支撐臂61a和乙支撐臂61b，甲支撐臂61a轉(zhuǎn)動連接有中空管6，乙支撐臂61b轉(zhuǎn)動連接有甲支撐條3c，甲支撐臂61a與乙支撐臂61b轉(zhuǎn)動連接，甲支撐臂61a與乙支撐臂61b連接的一端設(shè)置有甲限位塊61c。甲限位塊61c限制甲支撐臂61a與乙支撐臂61b之間的轉(zhuǎn)動范圍只能在O度至90度之間。中空管6穿過左蓋板3a和所述的左支撐板la，中空管6暴露在外的一段設(shè)置有兩個甲限位機構(gòu)63，甲限位機構(gòu)63是設(shè)置在中空管6上的環(huán)形凹槽。左支撐板Ia上設(shè)子有與甲限位機構(gòu)63相配合的甲卡扣11。
[0037]控制管7上設(shè)置有兩組乙折疊骨架71,每組具有7個在同一豎直平面內(nèi)的乙折疊骨架71，在同一組內(nèi)的乙折疊骨架71分別穿過設(shè)置在中空管6上的移動槽62連接有一個所述的乙支撐條3d。乙折疊骨架71包括丙支撐臂71a和丁支撐臂71b，丙支撐臂71a轉(zhuǎn)動連接有控制管7，丁支撐臂71b轉(zhuǎn)動連接有乙支撐條3d，丙支撐臂71a與丁支撐臂71b轉(zhuǎn)動連接，丙支撐臂71a與丁支撐臂71b連接的一端設(shè)置有乙限位塊71c。乙限位塊71c限制丙支撐臂71a與丁支撐臂71b之間的轉(zhuǎn)動范圍只能在O度至90度之間?？刂乒?穿過右蓋板3b和右支撐板lb，控制管7暴露在外的一段設(shè)置有兩個乙限位機構(gòu)73，乙限位機構(gòu)73是設(shè)置在控制管7上的環(huán)形凹槽。右支撐板Ib上設(shè)子有與乙限位機構(gòu)73相配合的乙卡扣12。
[0038]在甲支撐條3c和乙支撐條3d表面都黏貼有粘性清潔層100，粘性清潔層100通常為I3U或者RTPU材料制成，粘性清潔層100可以重復(fù)水洗不喪失粘性。
[0039]中空管6穿過左蓋板3a和左支撐板Ia的一端設(shè)置有把手8，控制管7穿過右蓋板3b和右支撐板Ib的一端也設(shè)置有把手8。
[0040]在使用時，如果要清潔的桌面，椅面等不是很臟，可以通過把手8拉動中空管6，這時甲支撐條3c會向外伸出。因為具有豎直滑槽4和與其相配合的滑塊5，甲支撐條3c會沿一定的方向放射性伸出，又因為每一個甲折疊骨架61都會同時運動相同的距離，每一塊甲支撐條3c都會伸出相同的距離，這些甲支撐條3c形成的圖形也是一個圓形。甲支撐條3c伸出后，用甲卡扣11卡住中空管6里側(cè)的甲限位機構(gòu)63，用乙卡扣12卡住控制管7里側(cè)的乙限位機構(gòu)73，這樣在甲支撐條3c在滾動時就不是縮進去，同時乙支撐條3d也不會在滾動時伸出來，保證了只有甲支撐條3c上的粘性清潔層100接觸灰塵。同理也可以設(shè)置為只伸出乙支撐條3d。如果要清潔的面灰塵污潰較多，可以先用橡膠凸起9擦拭，然后通過甲卡扣11和乙卡扣12卡住位于中空管6外側(cè)的甲限位機構(gòu)63和位于控制管7外側(cè)的乙限位機構(gòu)73。這時甲支撐條3c和乙支撐條3d就形成一個圓，在甲支撐條3c和乙支撐條3d上的所有粘性清潔層100都能接觸灰塵污潰。
【權(quán)利要求】
1.一種清潔滾筒，包括支架(I)、手柄(2)、滾筒(3)和設(shè)置在所述滾筒(3)表面的粘性清潔層(100)，其特征為，所述的支架(I)包括左支撐板(la)、右支撐板(Ib)和前支撐板(lc)，所述的滾筒(3)轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述的左支撐板(Ia)和所述的右支撐板(Ib)之間，所述的滾筒(3)包括左蓋板(3a)、右蓋板(3b)和設(shè)置在所述左蓋板(3a)和所述右蓋板(3b)之間的若干個甲支撐條(3c)和若干個乙支撐條(3d)，所述的甲支撐條(3c)和所述的乙支撐條(3d)兩端設(shè)置有豎直滑槽(4)，所述的左蓋板(3a)和所述的右蓋板(3b)上設(shè)置有與所述的豎直滑槽(4)相配合的滑塊(5)，所述的甲支撐條(3c)與所述的乙支撐條(3d)交錯排列成圓柱形，所述的圓柱形內(nèi)部中空，所述的圓柱形內(nèi)部設(shè)置有中空管(6)，所述的中空管(6)上設(shè)置有若干個甲折疊骨架(61)，所述的甲折疊骨架(61)連接有所述的甲支撐條(3c)，所述的中空管(6)穿過所述的左蓋板(3a)和所述的左支撐板(la)，所述的中空管(6)上設(shè)置有兩個甲限位機構(gòu)(63)，所述的左支撐板(Ia)上設(shè)子有與所述甲限位機構(gòu)(63)相配合的甲卡扣(11)，所述的中空管(6)內(nèi)設(shè)置有控制管(7)，所述的控制管(7)上設(shè)置有若干個乙折疊骨架(71)，所述的中空管(6)上設(shè)置有與所述的乙折疊骨架(71)相配合的移動槽(62)，所述的乙折疊骨架(71)連接有所述的乙支撐條(3d)，所述的控制管(7)穿過所述的右蓋板(3b)和所述的右支撐板(lb)，所述的控制管(7)上設(shè)置有兩個乙限位機構(gòu)(73)，所述的右支撐板(Ib)上設(shè)子有與所述乙限位機構(gòu)(73)相配合的乙卡扣(12)，所述的甲支撐條(3c)和所述的乙支撐條(3d)上設(shè)置有粘性清潔層(100)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的前支撐板(Ic)上設(shè)置有若干個橡膠凸起(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的滾筒包括7個所述的甲支撐條(3c)和7個所述的乙支撐條(3d)，所述的甲支撐條(3c)與所述的乙支撐條(3d)交錯排列成圓柱形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的中空管(6)上設(shè)置有兩組所述的甲折疊骨架(61),每組具有7個平均圓周分布在同一豎直平面內(nèi)的甲折疊骨架(61),在同一組內(nèi)的所述的甲折疊骨架(61)分別連接有一個所述的甲支撐條(3c)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的控制管(7)上設(shè)置有兩組乙折疊骨架(71)，每組具有7個平均圓周分布在同一豎直平面內(nèi)的乙折疊骨架(71)，在同一組內(nèi)的所述的乙折疊骨架(71)分別連接有一個所述的乙支撐條(3d)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的甲限位機構(gòu)(63)是設(shè)置在所述中空管(6)上的環(huán)形凹槽，所述的乙限位機構(gòu)(73)是設(shè)置在所述控制管(7)上的環(huán)形凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述中空管(6)穿過所述左蓋板(3a)和所述的左支撐板(Ia)的一端設(shè)置有把手(8)，所述控制管(6)穿過所述的右蓋板(3b )和所述的右支撐板(Ib)的一端也設(shè)置有把手(8 )。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的甲折疊骨架(61)包括甲支撐臂(61a)和乙支撐臂(61b)，所述的甲支撐臂(61a)轉(zhuǎn)動連接有所述的中空管(6)，所述的乙支撐臂(61b)轉(zhuǎn)動連接有所述的甲支撐條(3c)，所述的甲支撐臂(61a)與所述的乙支撐臂(61b)轉(zhuǎn)動連接，所述甲支撐臂(61a)與所述乙支撐臂(61b)連接的一端設(shè)置有甲限位塊(61c)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的一種清潔滾筒，其特征為，所述的乙折疊骨架(71)包括丙支撐臂(71a)和丁支撐臂(71b)，所述的丙支撐臂(71a)轉(zhuǎn)動連接有所述的控制管(7)，所述的丁支撐臂(71b)轉(zhuǎn)動連接有所述的乙支撐條(3d)，所述的丙支撐臂(71a)與所述的丁支撐臂(71b)轉(zhuǎn)動連接，所述丙支撐臂(71a)與所述丁支撐臂(71b)連接的一端設(shè)置有乙限位塊(71c)。
【文檔編號】A47L25/00GK103462577SQ201310415858
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年9月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月13日
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