一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明揭示一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置，其包括：槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩；夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩；其特征在于，所述裝置還包括：噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗；所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。
【專利說明】一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及清洗裝置領(lǐng)域，且特別涉及一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來,使用有機(jī)電致發(fā)光(Electro Luminescence:以下稱“有機(jī)EL”)組件的有機(jī)EL顯示裝置，已取代CRT及LCD的顯示裝置而受到囑目，正研究開發(fā)一種具備例如用以驅(qū)動(dòng)該有機(jī)EL組件的薄膜晶體管(Thin Film Transistor:以下稱“TFT”)的有機(jī)EL顯示裝置。
[0003]有機(jī)EL組件被依序?qū)臃e形成:由IT0(Indium Tin Oxide氧化銦錫)等的透明電極所形成的陽極；由MTDATA(4，4-雙(3-甲基苯基苯氨基)聯(lián)苯)等第I空穴輸送層、TPD (4，4，4-三(3-甲基苯基苯氨基)三苯胺)等第2空穴輸送層所構(gòu)成的空穴輸送層；包含唳酮(Quinacridone)衍生物的Bebq2 (10-苯弁[h]輕基喹啉-鈹絡(luò)合物(10_benzo[h]quinolinol-beryllium complex))所形成的發(fā)光層；由Bebq2所形成的電子輸送層；及由鋁合金所形成的陰極的構(gòu)造。
[0004]如上所述的有機(jī)EL組件通過用以驅(qū)動(dòng)該有機(jī)EL組件的驅(qū)動(dòng)用TFT供給電流而發(fā)光。即，從陽極所注入的空穴與從陰極所注入的電子在發(fā)光層內(nèi)部再結(jié)合，激發(fā)用以形成發(fā)光層的有機(jī)分子而產(chǎn)生激發(fā)子(exdton)。在該激發(fā)子放射失活的過程中由發(fā)光層發(fā)光，該光會(huì)從透明的陽極經(jīng)由透明的陽極及玻璃基板等絕緣性基板放出至外部而進(jìn)行發(fā)光。
[0005]上述有機(jī)EL組件的各層中，用于形成空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層的有機(jī)材料具有耐溶劑性低、不耐水分的特性。因此無法利用半導(dǎo)體工藝的光刻技術(shù)。因此，通過使用以例如金屬薄膜所構(gòu)成的金屬遮罩(屏蔽)的蒸鍍法，使上述有機(jī)材料選擇性蒸鍍?cè)诰邆潋?qū)動(dòng)用TFT的絕緣性基板上，以形成有機(jī)EL組件的空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層及陰極的圖案。
[0006]當(dāng)蒸鍍完成后，有機(jī)物將會(huì)沾附于金屬遮罩的表面，因此，為了之后的使用金屬遮罩需要進(jìn)行清洗。目前金屬遮罩的清洗機(jī)采用浸泡藥劑的方式，溶解去除沾附于遮罩表面的有機(jī)物。此方式的浸泡槽內(nèi)隨時(shí)裝有大量的藥劑供浸泡金屬遮罩使用，而使用此清洗方法導(dǎo)致藥劑耗用量大，使用成本高，且浸泡槽內(nèi)儲(chǔ)存有大量的藥劑，在設(shè)備安全性上有較高的風(fēng)險(xiǎn)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面提供一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置，其包括:槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩；夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩；其特征在于，所述裝置還包括:噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗；所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。
[0009]優(yōu)選地，所述裝置還包括第一控制機(jī)構(gòu)，所述第一控制機(jī)構(gòu)連接所述噴灑機(jī)構(gòu)，控制所述噴灑機(jī)構(gòu)清洗時(shí)沿豎直方向上下移動(dòng)噴灑藥液。
[0010]優(yōu)選地，所述裝置還包括第二控制機(jī)構(gòu)，所述第二控制機(jī)構(gòu)連接所述夾具，清洗時(shí)控制所述金屬遮罩沿豎直方向上下移動(dòng)。
[0011 ] 優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括若干噴灑直管，清洗時(shí)，所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的側(cè)面，向所述金屬遮罩的表面噴灑藥液。
[0012]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括兩根噴灑直管，清洗時(shí)，所述兩根噴灑直管分別位于所述金屬遮罩的兩側(cè)。
[0013]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括四根噴灑直管，清洗時(shí)，其中兩根所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的一個(gè)側(cè)面，另兩根所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的另一個(gè)側(cè)面。
[0014]優(yōu)選地，所述噴灑直管的長度大于等于所述金屬遮罩側(cè)面的長度，其噴灑區(qū)域覆蓋所述金屬遮罩的整個(gè)表面。
[0015]優(yōu)選地，所述噴灑直管的長度小于所述金屬遮罩的長度。
[0016]優(yōu)選地，所述第一控制機(jī)構(gòu)還控制所述噴灑直管沿所述金屬遮罩的側(cè)面水平移動(dòng)噴灑藥液，使其噴灑區(qū)域覆蓋所述金屬遮罩的整個(gè)表面。
[0017]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括一環(huán)形管，所述金屬遮罩清洗時(shí)位于所述環(huán)形管的中間。
[0018]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)的噴灑方向?yàn)槌蛩鼋饘僬谡謧?cè)向下噴灑。
[0019]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)的噴灑方向?yàn)槌蛩鼋饘僬谡謧?cè)向上噴灑。
[0020]優(yōu)選地，所述裝置還包括旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述噴灑機(jī)構(gòu)相連接，控制噴灑機(jī)構(gòu)自轉(zhuǎn)，以改變其噴灑角度。
[0021]優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)控制所述噴灑機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)的可轉(zhuǎn)動(dòng)角度為180度。
[0022]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)上包括若干噴灑孔，所述藥液從所述噴灑孔灑向所述金屬遮罩。
[0023]優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)上包括若干噴灑槽，所述藥液從所述噴灑槽灑向所述金屬遮罩。
[0024]優(yōu)選地，所述裝置還包括一加熱裝置，對(duì)噴灑機(jī)構(gòu)內(nèi)的藥液進(jìn)行加熱。
[0025]優(yōu)選地，所述裝置還包括一超聲波發(fā)射裝置，所述超聲波發(fā)射裝置從所述槽體外向所述金屬遮罩發(fā)射超聲波。
[0026]優(yōu)選地，所述藥液為有機(jī)溶液。
[0027]優(yōu)選地，所述排液口對(duì)所述藥液的排量大于所述噴灑機(jī)構(gòu)對(duì)藥液的噴灑量。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面提供一種金屬遮罩上有機(jī)或臟污的去除方法，其中，去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置包括:槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩；夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩；噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗；第一控制機(jī)構(gòu)，所述第一控制機(jī)構(gòu)連接所述噴灑機(jī)構(gòu)，控制所述噴灑機(jī)構(gòu)清洗時(shí)沿豎直方向上下移動(dòng)噴灑藥液。所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。其特征在于，所述方法包括如下步驟:使用夾具固定金屬遮罩，并將其置于槽體中；第一控制機(jī)構(gòu)控制噴灑機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)，所述噴灑機(jī)構(gòu)同時(shí)將與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液噴灑至所述金屬遮罩上，對(duì)所述金屬遮罩進(jìn)行清洗；清洗后的藥液經(jīng)排液口流出槽體。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面提供一種金屬遮罩上有機(jī)或臟污的去除方法，其中，去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置包括:槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩；夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩；噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗；第二控制機(jī)構(gòu)，所述第二控制機(jī)構(gòu)連接所述夾具，清洗時(shí)控制所述金屬遮罩沿豎直方向上下移動(dòng)。所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。其特征在于，所述方法包括如下步驟:使用夾具固定金屬遮罩，并將其置于槽體中；噴灑機(jī)構(gòu)噴灑與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液；第二控制裝置控制所述夾具的上下移動(dòng)，通過所述夾具帶動(dòng)所述金屬遮罩的上下移動(dòng)；清洗后的藥液經(jīng)排液口流出槽體。
[0030]本發(fā)明通過提供一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置，其使用噴灑的方式，將藥劑涂布在遮罩上，使其將遮罩上的有機(jī)物溶解，達(dá)到清潔效果。此方式不需在藥液槽內(nèi)裝滿大量藥液，藥液耗量低且安全性更高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]通過閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯:
[0032]圖1示出根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的主視圖；
[0033]圖2示出根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖；
[0034]圖3示出根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖；
[0035]圖4示出根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖；
[0036]圖5示出根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的正視圖；以及
[0037]圖6示出根據(jù)本發(fā)明的第五實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0038]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行進(jìn)一步地說明:
[0039]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的主視圖。具體地，所述裝置包括:槽體110、夾具140。其中，槽體110用于放置金屬遮罩120，槽體110的底部設(shè)有一排液口 111，排液口 111將槽體110內(nèi)部的液體排出。優(yōu)選地，槽體110的底部呈圓錐形，排液口 111位于槽體I1的最低處。夾具140用于固定金屬遮罩120，將金屬遮罩120置入槽體110中清洗。
[0040]進(jìn)一步地，所述裝置還包括噴灑機(jī)構(gòu)，噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置(圖中未示出)，噴灑機(jī)構(gòu)將藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液噴灑至金屬遮罩120上對(duì)其進(jìn)行清洗。其中，噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗金屬遮罩120后從排液口 111流出槽體110。優(yōu)選地，排液口 111的排量大于噴灑機(jī)構(gòu)噴灑藥液的噴灑量。優(yōu)選地，所述藥液為有機(jī)溶液。
[0041]更具體地，在一個(gè)實(shí)施例中，噴灑機(jī)構(gòu)包括若干噴灑直管131，噴灑直管131位于金屬遮罩120的側(cè)面，向金屬遮罩120的表面噴灑藥液從而對(duì)金屬遮罩120進(jìn)行清洗。
[0042]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖。具體地，參照?qǐng)D2，在圖2所示實(shí)施例中，噴灑機(jī)構(gòu)包括兩根噴灑直管131，兩根噴灑直管131分別位于金屬遮罩120的兩側(cè)，一根噴灑直管131對(duì)金屬遮罩120的一面進(jìn)行噴灑，另一根噴灑直管131對(duì)金屬遮罩120的另一面進(jìn)行噴灑。更具體地，噴灑直管131的長度大于等于金屬遮罩120的長度，其噴灑區(qū)域覆蓋金屬遮罩120的整個(gè)表面。其中，噴灑直管131上設(shè)有若干噴灑孔，藥液從所述噴灑孔灑向金屬遮罩120，且兩根噴灑直管131的噴灑方向?yàn)槌蚪饘僬谡?20側(cè)向下噴灑。更進(jìn)一步地，在此實(shí)施例中，所述裝置還包括第一控制機(jī)構(gòu)(圖中未示出)，所述第一控制機(jī)構(gòu)控制兩根噴灑直管131沿豎直方向上下移動(dòng)對(duì)金屬遮罩120進(jìn)行噴灑。
[0043]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖。圖3可以理解為上述圖1和圖2所示實(shí)施例的一個(gè)變化例。具體地,如圖3所示,與上述圖2所示實(shí)施例不同的是，在此實(shí)施例中，兩根噴灑直管131的噴灑方向?yàn)槌蚪饘僬谡?20側(cè)向上噴灑。類似地，兩根噴灑直管131經(jīng)所述第一控制機(jī)構(gòu)控制同樣可以沿豎直方向上下移動(dòng)對(duì)金屬遮罩120進(jìn)行噴灑。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，由于圖1、圖2所示實(shí)施例與圖3所示實(shí)施例的噴灑直管131的噴灑角度不同，因此圖1、圖2所示實(shí)施例和圖3所示實(shí)施例對(duì)金屬遮罩120的噴灑區(qū)域也不同，以此實(shí)現(xiàn)不同的噴灑效果。這些實(shí)施例均可予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0044]更進(jìn)一步地，根據(jù)圖1、圖2以及圖3所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述裝置還包括旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)控制兩根噴灑直管131的自轉(zhuǎn)。噴灑直管131可以在豎直方向上下移動(dòng)的同時(shí)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，例如兩根噴灑直管131可以從上移動(dòng)至槽體110底部的過程中從圖2所示的噴灑方向旋轉(zhuǎn)至圖3所示的噴灑方向。優(yōu)選地，噴灑直管131的可旋轉(zhuǎn)角度為180度。通過噴灑直管131的旋轉(zhuǎn)噴灑，從而使金屬遮罩120的每個(gè)區(qū)域均可被噴灑到。
[0045]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的側(cè)視圖。圖4可以理解為上述圖2或圖3所示實(shí)施例的一個(gè)變化例。具體地，與上述圖2或圖3所示實(shí)施例不同的是，噴灑機(jī)構(gòu)包括四根噴灑直管131，其中，兩根噴灑直管131位于金屬遮罩120的一側(cè)對(duì)金屬遮罩120的一個(gè)側(cè)面進(jìn)行噴灑,另兩根噴灑直管131位于金屬遮罩120的另一側(cè)對(duì)金屬遮罩120的另一個(gè)側(cè)面進(jìn)行噴灑，且優(yōu)選地，位于上方的噴灑直管131的噴灑方向?yàn)槌蚪饘僬谡?20側(cè)向下噴灑，而位于下方的噴灑直管131的噴灑方向?yàn)槌蚪饘僬谡?20側(cè)向上噴灑。即將上述圖2以及圖3所示實(shí)施相結(jié)合，所述第一控制機(jī)構(gòu)可以同時(shí)控制四根噴灑直管131使其豎直方向上下移動(dòng)。
[0046]進(jìn)一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在圖4所示的實(shí)施例中，所述裝置同樣可以包括旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)控制四根噴灑直管131的旋轉(zhuǎn)，使四根噴灑直管131也可以在豎直方向上下移動(dòng)的同時(shí)，調(diào)整噴灑角度，從而使金屬遮罩120的清洗更為方便。
[0047]更進(jìn)一步地，根據(jù)上述圖1、圖2、圖3以及圖4所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中，噴灑直管131可以固定于金屬遮罩的側(cè)面。所述裝置還包括第二控制機(jī)構(gòu)，所述第二控制機(jī)構(gòu)與夾具140相連接，控制夾具140的豎直方向的上下移動(dòng)，通過夾具140的上下移動(dòng)，從而使被夾具140固定的金屬遮罩120豎直方向的上下移動(dòng)，達(dá)到清洗金屬遮罩120的目的。這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0048]圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的正視圖。圖5可以理解為上述圖1所示實(shí)施例的一個(gè)變化例。具體地，所述噴灑機(jī)構(gòu)同樣包括兩根噴灑直管131，兩根噴灑直管131分別位于金屬遮罩120的兩個(gè)側(cè)面。而與上述圖1所示實(shí)施例不同是，在此實(shí)施例中，噴灑槽131的長度小于金屬遮罩120的長度，所述第一控制裝置控制噴灑槽131豎直方向上下移動(dòng)的時(shí)還可以控制其沿金屬遮罩120的側(cè)面進(jìn)行水平移動(dòng)，從而使噴灑區(qū)域覆蓋金屬遮罩120的整個(gè)表面，此處不予贅述。
[0049]圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的第五實(shí)施例的去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置的俯視圖。具體地，如圖6所示，與圖1所示實(shí)施例不同的是，在此實(shí)施例中，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括一噴灑環(huán)形管132。使用噴灑環(huán)形管132替代圖1中的兩根噴灑直管131。金屬遮罩120位于噴灑環(huán)形管132的中間被噴灑環(huán)形管132包圍。其中，噴灑環(huán)形管132的噴灑角度與圖1相同地為朝向金屬遮罩120側(cè)向下噴灑。優(yōu)選地，所述裝置也包括第一控制裝置(圖中未示出)，所述第一控制裝置可以控制噴灑環(huán)形管132沿豎直方向上下移動(dòng)，對(duì)金屬遮罩120進(jìn)行清洗。
[0050]進(jìn)一步地，在圖6的一個(gè)變化例中，噴灑環(huán)形管132的噴灑方向也可以是朝向金屬遮罩120側(cè)向上噴灑。在圖6的另一個(gè)變化例中，噴灑環(huán)形管132也可以固定于槽體110內(nèi)，所述裝置也包括所述第二控制機(jī)構(gòu)，由第二控制機(jī)構(gòu)控制夾具140的豎直方向的上下移動(dòng)，通過夾具140的上下移動(dòng)，從而使被夾具140固定的金屬遮罩120豎直方向的上下移動(dòng)，達(dá)到清洗金屬遮罩120的目的。而在圖6的又一個(gè)變化例中，所述噴灑機(jī)構(gòu)也可以包括兩根噴灑環(huán)形管132，金屬遮罩120位于兩根噴灑環(huán)形管132內(nèi)，通過兩根噴灑環(huán)形管132噴灑藥液對(duì)金屬遮罩120繼續(xù)清洗。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0051]更進(jìn)一步地，綜合上述圖1至圖6所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在本發(fā)明的優(yōu)選例中，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括若干噴灑孔。即圖1至圖5中的噴灑直管131以及噴灑環(huán)形管132上設(shè)有若干噴灑孔，藥液通過噴灑孔噴灑至金屬遮罩120上。而在本發(fā)明的一些變化例中，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括一噴灑槽，通過所述噴灑槽來替代上述噴灑孔。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，相比噴灑孔，使用噴灑槽后藥液的噴灑量增大，類似水簾的噴灑效果，從而加快了金屬遮罩120的清洗，這些變化例均可以予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0052]更進(jìn)一步地，結(jié)合上述圖1至圖6所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中了，所述裝置還可以包括一加熱裝置，所述加熱裝置對(duì)噴灑機(jī)構(gòu)內(nèi)的藥液進(jìn)行加熱。經(jīng)過加熱后的藥液可以更有效地去除金屬遮罩120上的有機(jī)物，以起到加快清洗的目的，這些變化例均可予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0053]更進(jìn)一步地，結(jié)合上述圖1至圖6所示實(shí)施例，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中，所述裝置還可以包括一超聲波發(fā)射裝置，所述超聲波發(fā)射裝置從槽體110外部向所述金屬遮罩發(fā)射超聲波。通過發(fā)射超聲波也可以更為有效地去除金屬遮罩120上的有機(jī)物，達(dá)到清洗的目的。這些變化例均可予以實(shí)現(xiàn)，此處不予贅述。
[0054]更進(jìn)一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在一些變化例中，所述裝置可以同時(shí)包括所述加熱裝置以及所述超聲波發(fā)射裝置，同時(shí)使用兩種清洗方式可以更為快速地去除金屬遮罩120上的有機(jī)物，以起到加快清洗的目的，此處不予贅述。
[0055]更為進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，去除金屬遮罩上有機(jī)和臟污的方法為:使用夾具140固定金屬遮罩120，并將其置于槽體110中，所述第一控制機(jī)構(gòu)控制噴灑機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)，所述噴灑機(jī)構(gòu)同時(shí)將與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液噴灑至金屬遮罩120上，對(duì)金屬遮罩120進(jìn)行清洗，清洗后的藥液經(jīng)排液口 111流出槽體110。
[0056]更具體地，優(yōu)選地，金屬遮罩120被夾具140固定后，夾具140垂直將金屬遮罩120放入槽體110中。
[0057]更為進(jìn)一步地，在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中，所述噴灑機(jī)構(gòu)也可以固定于槽體110內(nèi)。優(yōu)選地，所述噴灑機(jī)構(gòu)位于槽體I1的上半部，以便于金屬遮罩120的清洗。更具體地，在此實(shí)施例中，去除金屬遮罩上有機(jī)和臟污的方法為:使用夾具140固定金屬遮罩120，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液，所述第二控制裝置控制夾具140的上下移動(dòng)，通過夾具140帶動(dòng)金屬遮罩120的上下移動(dòng)，從而將藥液噴灑至金屬遮罩上。類似地，清洗后的藥液仍經(jīng)排液口 111流出槽體110。
[0058]更為進(jìn)一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，本發(fā)明提供一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置。其通過噴灑的方式，將藥劑涂布在遮罩上，使其將遮罩上的有機(jī)物溶解，達(dá)到清潔效果。此方式不需在藥液槽內(nèi)裝滿大量藥液，藥液耗量低且安全性更高。
[0059]雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭示如上，然而其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與修改。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置，其包括: 槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩； 夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩； 其特征在于，所述裝置還包括: 噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗； 所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括第一控制機(jī)構(gòu)，所述第一控制機(jī)構(gòu)連接所述噴灑機(jī)構(gòu)，控制所述噴灑機(jī)構(gòu)清洗時(shí)沿豎直方向上下移動(dòng)噴灑藥液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括第二控制機(jī)構(gòu)，所述第二控制機(jī)構(gòu)連接所述夾具，清洗時(shí)控制所述金屬遮罩沿豎直方向上下移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括若干噴灑直管，清洗時(shí)，所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的側(cè)面，向所述金屬遮罩的表面噴灑藥液。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括兩根噴灑直管，清洗時(shí)，所述兩根噴灑直管分別位于所述金屬遮罩的兩側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括四根噴灑直管，清洗時(shí)，其中兩根所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的一個(gè)側(cè)面，另兩根所述噴灑直管位于所述金屬遮罩的另一個(gè)側(cè)面。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述噴灑直管的長度大于等于所述金屬遮罩側(cè)面的長度，其噴灑區(qū)域覆蓋所述金屬遮罩的整個(gè)表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述噴灑直管的長度小于所述金屬遮罩的長度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述第一控制機(jī)構(gòu)還控制所述噴灑直管沿所述金屬遮罩的側(cè)面水平移動(dòng)噴灑藥液，使其噴灑區(qū)域覆蓋所述金屬遮罩的整個(gè)表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)包括一環(huán)形管，所述金屬遮罩清洗時(shí)位于所述環(huán)形管的中間。
11.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)的噴灑方向?yàn)槌蛩鼋饘僬谡謧?cè)向下噴灑。
12.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)的噴灑方向?yàn)槌蛩鼋饘僬谡謧?cè)向上噴灑。
13.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述噴灑機(jī)構(gòu)相連接，控制噴灑機(jī)構(gòu)自轉(zhuǎn)，以改變其噴灑角度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)控制所述噴灑機(jī)構(gòu)的自轉(zhuǎn)的可轉(zhuǎn)動(dòng)角度為180度。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)上包括若干噴灑孔，所述藥液從所述噴灑孔灑向所述金屬遮罩。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述噴灑機(jī)構(gòu)上包括若干噴灑槽，所述藥液從所述噴灑槽灑向所述金屬遮罩。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一加熱裝置，對(duì)噴灑機(jī)構(gòu)內(nèi)的藥液進(jìn)行加熱。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一超聲波發(fā)射裝置，所述超聲波發(fā)射裝置從所述槽體外向所述金屬遮罩發(fā)射超聲波。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述藥液為有機(jī)溶液。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述排液口對(duì)所述藥液的排量大于所述噴灑機(jī)構(gòu)對(duì)藥液的噴灑量。
21.一種金屬遮罩上有機(jī)或臟污的去除方法，其中，去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置包括: 槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩； 夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩； 噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗； 第一控制機(jī)構(gòu)，所述第一控制機(jī)構(gòu)連接所述噴灑機(jī)構(gòu)，控制所述噴灑機(jī)構(gòu)清洗時(shí)沿豎直方向上下移動(dòng)噴灑藥液。 所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。 其特征在于，所述方法包括如下步驟: 使用夾具固定金屬遮罩，并將其置于槽體中； 第一控制機(jī)構(gòu)控制噴灑機(jī)構(gòu)上下移動(dòng)，所述噴灑機(jī)構(gòu)同時(shí)將與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液噴灑至所述金屬遮罩上，對(duì)所述金屬遮罩進(jìn)行清洗； 清洗后的藥液經(jīng)排液口流出槽體。
22.—種金屬遮罩上有機(jī)或臟污的去除方法，其中，去除遮罩上有機(jī)或臟污的裝置包括: 槽體，所述槽體用于放置金屬遮罩； 夾具，所述夾具固定所述金屬遮罩； 噴灑機(jī)構(gòu)，所述噴灑機(jī)構(gòu)連接一藥液儲(chǔ)存裝置，所述噴灑機(jī)構(gòu)將所述藥液儲(chǔ)存裝置中的的藥液噴灑至所述金屬遮罩對(duì)其進(jìn)行清洗； 第二控制機(jī)構(gòu)，所述第二控制機(jī)構(gòu)連接所述夾具，清洗時(shí)控制所述金屬遮罩沿豎直方向上下移動(dòng)。 所述槽體的底部設(shè)有一排液口，所述噴灑機(jī)構(gòu)噴灑的藥液清洗所述金屬遮罩后從所述排液口流出所述槽體。 其特征在于，所述方法包括如下步驟: 使用夾具固定金屬遮罩，并將其置于槽體中； 噴灑機(jī)構(gòu)噴灑與其連接的藥液儲(chǔ)存裝置中的藥液； 第二控制裝置控制所述夾具的上下移動(dòng)，通過所述夾具帶動(dòng)所述金屬遮罩的上下移動(dòng)； 清洗后的藥液經(jīng)排液口流出槽體。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK104275324SQ201310284540
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2013年7月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月8日
【發(fā)明者】閭俊中, 陳弘舜, 余國正 申請(qǐng)人:上海和輝光電有限公司