專利名稱：濕式清洗設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是有關于一種濕式清洗設備，特別是有關于一種能使基板各部 位得到良好清潔效果的濕式清洗設備。
背景技術：
由于平面顯示技術的突飛猛進，其應用逐漸從電腦用屏幕延伸至家用
電視等電子產品。就薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)制程而言，清洗步 驟經常連接于鍍膜、微影及刻蝕等步驟之前、中、后等時機，用以維持顯 示器基板在生產過程中的表面潔凈度。
已知的濕式清洗設備是在基板搬運裝置上方設置清洗液供應裝置?；?板搬運裝置以一行進方向搬運待清洗的基板。當進行清潔程序時，基板是 置于基板搬運裝置上傳輸，而清洗液供應裝置則是噴灑清洗液至基板上以 進行清潔程序。
然而，隨著基板的尺寸逐漸加大，為了提高對大面積的基板的清潔效 果，有一種使用傾斜清洗的方式進行基板的清潔程序已被提出。然而，此 種傾斜清洗方式在對應于基板的較高部位與基板的較低部位處受到清洗液 的液壓或流量會有分布不均的情形，因而使得基板整體的清潔效果不均勻， 導致產品質量受到影響。

發(fā)明內容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種濕式清洗設備，能使基板上的各部位得到良好清潔效果。
本發(fā)明提出的一種濕式清洗設備，包括基板搬運裝置以及清洗液供應 裝置?；灏徇\裝置具有承載面，其中基板搬運裝置的承載面具有傾斜角 度，因而承載面具有較高部位以及較低部位。清洗液供應裝置設置于基板 搬運裝置的上方，其中清洗液供應裝置包括至少一清洗液供應管路以及多 個噴嘴。清洗液供應管路的延伸方向與基板搬運裝置的承載面實質平行。 多個噴嘴裝設于清洗液供應管路上，其中對應設置在承載面的較高部位的 噴嘴的清洗液噴出量總合大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗 液噴出量總合。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的傾斜角度為2 8度。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的 分布密度大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的分布密度。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的分布密度，介于對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的分 布密度以及對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的分布密度之間。
在本發(fā)明的一實施例中，上述噴嘴的分布密度是自對應設置于承載面 的較高部位逐漸往對應設置于承載面的較低部位降低。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的 清洗液噴出流速大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出流 速。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的清洗液噴出流速介于對應設置在承載面的較高部位的噴嘴 的清洗液噴出流速以及對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出 流速之間。
在本發(fā)明的一實施例中，上述的噴嘴的清洗液噴出流速是自對應設置 于承載面的較高部位逐漸往對應設置于承載面的較低部位降低。
6在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的 出口面積大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的出口面積。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的出口面積，介于對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的出 口面積以及對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的出口面積之間。
在本發(fā)明的一實施例中，上述噴嘴的出口面積是自對應設置于承載面 的較高部位逐漸往對應設置于承載面之較低部位降低。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的 流量大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的流量。
在本發(fā)明的一實施例中，上述對應設置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的流量介于對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的流量以及 對應設置于該承載面的較低部位的噴嘴的流量之間。
在本發(fā)明的一實施例中，上述噴嘴的流量是自對應設置于承載面的較 高部位逐漸往對應設置于承載面的較低部位降低。
在本發(fā)明的一實施例中，上述清洗液供應管路的延伸方向與基板搬運 裝置的行進方向實質垂直。
在本發(fā)明的一實施例中，上述位于清洗液供應管路兩端的噴嘴分別與 承載面的較高部位以及較低部位對應。
基于上述，本發(fā)明所提出的濕式清洗設備，可由調整清洗液供應管路 上噴嘴設置的密度、噴嘴面積、清洗液的流速或流量，使清洗液在承載面 較高部份有較多的噴出量，因此可使基板上的各部位得到良好清潔效果。


圖l:為本發(fā)明實施例1的一種濕式清洗設備示意圖。 圖2:為本發(fā)明實施例1的另一種噴嘴設置示意圖。 圖3:為本發(fā)明實施例2的一種濕式清洗設備示意圖。圖4:為本發(fā)明實施例2的另一種噴嘴設置示意圖。 圖5:為本發(fā)明實施例3的一種濕式清洗設備示意圖。 附圖標號-
200、 300、 400:濕式清洗設備
210:基板搬運裝置 210a:承載面 220:清洗液供應裝置 222:清洗液供應管路 224a、 224b:噴嘴
C:清洗液 D:延伸方向 H:較高部位 L:較低部位 M:行進方向 S:基板
e:傾斜角度
具體實施例方式
為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配 合附圖詳細說明如下。 實施例1
圖1為本發(fā)明實施例1的一種濕式清洗設備示意圖。請參照圖1，在本 實施例中，濕式清洗設備200包括基板搬運裝置210以及清洗液供應裝置
220。基板搬運裝置210具有承載面210a，其中基板搬運裝置210的承載面 210a具有傾斜角度e，因此承載面210a具有較高部位H以及較低部位L。 清洗液供應裝置220設置于基板搬運裝置210的上方，其中清洗液供應裝置220包括至少一清洗液供應管路222以及多個噴嘴224a。清洗液供應管 路222的延伸方向D與基板搬運裝置210的承載面210a實質平行。多個噴 嘴224a裝設于清洗液供應管路222上，其中對應設置在承載面210a的較 高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合，大于對應設置于承載面210a 的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合，以達到良好的洗凈效果。
針對上述的濕式清洗設備200，所要說明的是，其中承載面210a所具 有的傾斜角度e，其范圍可以在2 8度之間，在此范圍內可使清洗液C有 效帶走基板S上的懸浮粒子(未繪示)或其它臟污以避免殘留，且基板S也 不致于在承載面210a上滑動。此外，上述清洗液供應管路222的延伸方向 D與基板搬運裝置210的行進方向M實質上是可彼此垂直的。而位于清洗液 供應管路222兩端的噴嘴224a，則可分別與承載面210a的較高部位H以及 較低部位L對應，其可以與承載面210a的較高部位H以及較低部位L對齊 設置或是略超出承載面210a的較高部位H以及較低部位L的位置，以確保 基板S容置于洗凈范圍內。另外，本發(fā)明不限制清洗液供應管路222的數 量，本實施例的圖式所繪示的清洗液供應管路222僅是用以說明本發(fā)明。
請繼續(xù)參照圖1，在本實施例中特別要注意的是，上述對應設置在承載 面210a的較高部位H的噴嘴224a，其分布密度可大于對應設置于承載面 210a的較低部位L的噴嘴224a分布密度。而對應設置在承載面210a的較 高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a的分布密度，則可介于對應設置在 承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的分布密度，以及對應設置于承載 面210a的較低部位L的噴嘴224a的分布密度之間。然而，本發(fā)明并不以 此為限，對應設置在承載面210a的較高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a 的分布密度，可視承載面210a的傾斜角度e、承載面210a所搬運的基板S 尺寸及擺放位置、或是其它考慮而作調整。換言之，本實施例的噴嘴224a 的分布密度是以三種密度分布于對應在承載面210a的較高部位H、較低部 位L以及位于較高部位與較低部位L之間的中間部位。然而，在其它的實
9施例中，也可以僅設計兩種噴嘴密度，或是設計四種或以上的噴嘴密度， 但不限于此，可依實際需求調整。
圖2為本發(fā)明實施例1的另一種噴嘴設置示意圖。請參照圖2，除了上
述可在對應承載面210a的不同部作分段式的噴嘴分布密度外，在本發(fā)明的 另一實施例中，噴嘴224a的分布密度還可以自對應設置于承載面210a的 較高部位H逐漸往對應設置于承載面210a的較低部位L降低。
在上述實施例中，由于清洗液C由噴嘴224a噴灑至承載面210a上的 基板S，而此時較高部位H的噴嘴224a分布密度較大，其意味著在較高部 位H中會有較多的清洗液C被噴灑至基板S上，因此可以改善基板S在對 應較高部位H所被噴灑的清洗液C與于較低部位L所被噴灑的清潔液C不 均所導致基板整體清潔不均勻的問題，而使基板S的整體清洗效果得到提 高。
實施例2
圖3為本發(fā)明實施例2的一種濕式清洗設備示意圖。請參照圖3，本發(fā) 明實施例2的濕式清洗設備300，其設置大致和實施例1相同，其主要的差 異在于，本實施例是通過調整噴嘴224b的出口面積，而達到使對應設置在 承載面210a的較高部位H的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合大于對應設 置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合的效果。 如圖3所示，在對應設置在承載面S的較高部位H的噴嘴224b，可各具有 相同大小的出口面積，且此出口面積大于對應設置在承載面210a的較低部 位L的噴嘴224b的出口面積。至于對應設置在較高與較低部位H、 L之間 的噴嘴224b，其出口面積的大小則可介于高低兩部位H、 L的噴嘴224b出 口面積之間。類似地，此處僅為舉例說明，上述對應設置在較高與較低部 位H、 L之間噴嘴224b的出口面積還可以根據實際情況加以設計，只要能 使較高部位H的清洗液C噴出量總和大于較低部位L，皆在本發(fā)明所涵蓋的
10范圍。換言之，本實施例的噴嘴224b的出口面積是以三種出口面積于對應在承載面210a的較高部位H、較低部位L以及位于較高部位H與較低部位L之間的中間部位。然而，在其它的實施例中，也可以僅設計兩種出口面積，或是設計四種或以上的出口面積，但不限于此，可依實際需求調整。
圖4為本發(fā)明實施例2的另一種噴嘴設置示意圖。請參照圖4，承上述，噴嘴224b除了可以在不同部位有不同的出口面積外，在另一實施例中，噴嘴224b的出口面積還可以自對應設置于承載面210a的較高部位H逐漸往承載面210a的較低部位L降低。
實施例3
圖5為本發(fā)明實施例3的一種濕式清洗設備示意圖。請參照圖5，本發(fā)明實施例3的濕式清洗設備400，其設置大致和實施例1相同，其主要的差異在于，本實施例的濕式清洗設備400是通過調整噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，而達到使對應設置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合大于對應設置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合的效果。對應設置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，可大于對應設置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量。而對應設置在承載面210a的較高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，則可介于對應設置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量、以及對應設置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量之間。同樣地，本發(fā)明也可使噴嘴224a在不同部分可具有不同流速或流量。更詳細而言，本實施例的噴嘴224a的流速或流量是以三種流速或流量于對應在承載面210a的較高部位H、較低部位L以及位于較高部位與較低部位L之間的中間部位。然而，在其它的實施例中，也可以僅設計兩種流速或流量，或是設計四種或以上的流速或流
ii量，但不限于此，可依實際需求調整。
此外，還可根據承載面210a的傾斜角度e，或其它的考慮，使噴嘴224a在不同部位具有不同的清洗液C噴出流速或流量。舉例來說，在本發(fā)明的另一實施例中，上述噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量，也可以自對應設置于承載面210a的較高部位H逐漸往承載面210a的較低部位L降低。
實際使用時，例如可加裝流速控制器420，使對應設置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a可具有較大流速或流量。當然，其它還有許多可以控制噴嘴224a流速或流量的方法，此處的流速控制器420僅為舉例說明，
并非用以限定本發(fā)明。
基本上，只要能夠使對應于承載面210a較高部分H的清洗液C噴出量總和，大于對應較低部分L的清洗液C噴出量總和，皆符合本發(fā)明的精神。
綜上所述，本發(fā)明的濕式清洗設備至少具有下列優(yōu)點
通過調整噴嘴設置的密度、出口面積、清洗液的流速或流量，可使清洗液在承載面較高的位置有較多的噴出量，因而改善了較高部位清潔效果不佳的問題，使基板整體有較佳的潔凈度。
雖然本發(fā)明已以具體實施例揭示，但其并非用以限定本發(fā)明，任何本領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明的構思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換，或依本發(fā)明專利保護范圍所作的等同變化與修飾，皆應仍屬本專利涵蓋之范疇。
權利要求
1. 一種濕式清洗設備，其特征在于該濕式清洗設備包括一基板搬運裝置，其具有一承載面，其中該基板搬運裝置的該承載面具有一傾斜角度，因而該承載面具有一較高部位以及一較低部位；一清洗液供應裝置，設置于基板搬運裝置的上方，其中該清洗液供應裝置包括至少一清洗液供應管路，該清洗液供應管路的延伸方向與該基板搬運裝置的該承載面實質平行；多個噴嘴，裝設于該清洗液供應管路上，其中對應設置在該承載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出量總合大于對應設置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出量總合。
2. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于該傾斜角度為2 8度。
3. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的分布密度大于對應設置于該承載面的該較 低部位的該些噴嘴的分布密度。
4. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的分布密度介于對應設置在 該承載面的該較高部位的該些噴嘴的分布密度以及對應設置于該承載面的 該較低部位的該些噴嘴的分布密度之間。
5. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于該些噴嘴的分布 密度是自對應設置于該承載面的該較高部位逐漸往對應設置于該承載面的 該較低部位降低。
6. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速大于對應設置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速。
7. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位與該較低部位之間的該些噴嘴的清洗液噴出流速介于對 應設置在該承載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速以及對應設 置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速之間。
8. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于該些噴嘴的清洗 液噴出流速是自對應設置于該承載面的該較高部位逐漸往對應設置于該承 載面的該較低部位降低。
9. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的出口面積大于對應設置于該承載面的該較 低部位的該些噴嘴的出口面積。
10. 如權利要求l所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的出口面積介于對應設置在該 承載面的該較高部位的該些噴嘴的出口面積以及對應設置于該承載面的該 較低部位的該些噴嘴的出口面積之間。
11. 如權利要求l所述的濕式清洗設備，其特征在于該些噴嘴的出口 面積是自對應設置于該承載面的該較高部位逐漸往對應設置于該承載面的 該較低部位降低。
12. 如權利要求l所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的流量大于對應設置于該承載面的該較低部 位的該些噴嘴的流量。
13. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于對應設置在該承載面的較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的流量介于對應設置在該承載 面的該較高部位的該些噴嘴的流量以及對應設置于該承載面的該較低部位 的該些噴嘴的流量之間。
14. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于該些噴嘴的流量是自對應設置于該承載面的該較高部位逐漸往對應設置于該承載面的該較 低部位降低。
15. 如權利要求l所述的濕式清洗設備，其特征在于該清洗液供應管 路的延伸方向與該基板搬運裝置的行進方向實質垂直。
16. 如權利要求1所述的濕式清洗設備，其特征在于位于該清洗液供 應管路兩端的噴嘴分別與該承載面的該較高部位以及該較低部位對應。
全文摘要
本發(fā)明為一種濕式清洗設備，包括基板搬運裝置以及清洗液供應裝置。基板搬運裝置具有承載面，且承載面具有傾斜角度，因而承載面具有較高部位以及較低部位。清洗液供應裝置設置于基板搬運裝置的上方，其中清洗液供應裝置包括至少一清洗液供應管路以及多個噴嘴。清洗液供應管路的延伸方向與基板搬運裝置的承載面實質平行。多個噴嘴裝設于清洗液供應管路上，其中對應設置在承載面的較高部位的噴嘴的清洗液噴出量總合，大于對應設置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出量總合。
文檔編號B08B3/00GK101474622SQ200910004319
公開日2009年7月8日 申請日期2009年2月6日 優(yōu)先權日2009年2月6日
發(fā)明者林宗融, 蘇德修 申請人:友達光電股份有限公司