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X射線成像設(shè)備的制作方法

文檔序號:1295329閱讀:180來源:國知局
X射線成像設(shè)備的制作方法
【專利摘要】公開了一種X射線成像設(shè)備。一種具有用于減少在固定X射線發(fā)生器的位置時所產(chǎn)生的噪聲的改進結(jié)構(gòu)的X射線成像設(shè)備,所述設(shè)備包括:X射線發(fā)生器、X射線檢測器、與X射線發(fā)生器的一端結(jié)合的活動機架、導(dǎo)軌、設(shè)置在活動機架內(nèi)側(cè)以保持X射線發(fā)生器的位置的保持單元,其中,保持單元包括接觸導(dǎo)軌以保持活動機架的接觸板、利用磁力移動接觸板的磁體、以及結(jié)合到接觸板并根據(jù)磁體的操作而移動的托板,所述托板包括能夠吸收噪聲或振動的緩沖材料。
【專利說明】X射線成像設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]下面的描述涉及一種X射線成像設(shè)備,所述X射線成像設(shè)備具有用于減少在固定或握住X射線發(fā)生器從而限制X射線發(fā)生器的運動時產(chǎn)生的噪聲的改進的結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]通常,醫(yī)用X射線成像設(shè)備是利用X射線獲得人體內(nèi)部的圖像的成像系統(tǒng)。X射線成像設(shè)備用X射線輻照成像位置,諸如頭部、胸部、人體的類似部位,并檢測已穿過成像位置的X射線,從而獲得人體內(nèi)部的圖像。
[0003]X射線成像設(shè)備包括用X射線輻照成像位置的X射線管、產(chǎn)生X射線產(chǎn)生所需的高壓的高壓發(fā)生器、改變發(fā)射位置和X射線的方向的移動裝置等。此外,X射線成像設(shè)備包括使檢查員能夠控制這些裝置的操作裝置。
[0004] X射線成像設(shè)備包括接收發(fā)射的X射線、將接收的X射線轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號、并將數(shù)字數(shù)據(jù)發(fā)送到PC的X射線檢測器。X射線檢測器可安裝在用于執(zhí)行X射線成像的病人站立的站臺上或用于執(zhí)行X射線成像的其上躺著病人的病人檢查臺上。X射線檢測器可在保持狀態(tài)下使用。然而,最近可以制造可拆卸的X射線檢測器,并因此在站臺和病人檢查臺都可以使用可拆卸的X射線檢測器。
[0005]然而,在傳統(tǒng)的X射線成像設(shè)備中,當X射線發(fā)生器或X射線檢測器執(zhí)行保持操作時,噪聲會由于導(dǎo)軌和磁體之間的接觸而產(chǎn)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]因此,本公開的一方面提供一種可減少在X射線發(fā)生器和X射線檢測器中的至少一種執(zhí)行保持操作時所產(chǎn)生的噪聲的X射線成像設(shè)備
[0007]本發(fā)明的其他方面將在以下的描述中部分闡述,并且部分地,將從所述描述明顯看出,或者可通過本發(fā)明的實施得知。
[0008]按照本公開的一方面,X射線成像設(shè)備包括:X射線發(fā)生器,產(chǎn)生并發(fā)射X射線;X射線檢測器,檢測從X射線發(fā)生器發(fā)射的X射線;活動機架(moving carriage),與X射線發(fā)生器的一端結(jié)合以調(diào)整X射線發(fā)生器的位置;導(dǎo)軌,移動活動機架以改變X射線發(fā)生器的位置;以及保持單元(holding unit),設(shè)置在活動機架的內(nèi)側(cè)以保持X射線發(fā)生器的位置,其中,保持單元包括接觸導(dǎo)軌以保持活動機架的接觸板、利用磁力移動接觸板的磁體、以及結(jié)合到接觸板并根據(jù)磁體的操作而移動且包括能夠吸收噪聲或振動的緩沖材料的托板。
[0009]托板可包括多個層,并且所述多個層中的至少一層可由橡膠材料形成。
[0010]托板的層中的至少一層可由使托板能夠由于磁體的運動而移動的磁性材料形成。
[0011]托板的層中的所述至少一層可由鋼形成。
[0012]托板的層可包括接觸磁體的層、接觸接觸板的層、以及橡膠層,接觸磁體的層和接觸接觸板的層由鋼形成,橡膠層設(shè)置在由鋼形成的兩個層之間。
[0013]托板的層可包括接觸磁體的層和接觸接觸板的層,接觸磁體的層由磁性材料形成,接觸接觸板的層由非磁性材料形成。
[0014]接觸板可由聚氨酯橡膠制成。
[0015]托板還可以包括第一彈性構(gòu)件,設(shè)置在托板和磁體之間以根據(jù)磁體的操作移動超過預(yù)定間隔。
[0016]X射線成像設(shè)備還可以包括容納磁體并引導(dǎo)與活動機架的結(jié)合的支架。
[0017]X射線成像設(shè)備還可以包括引導(dǎo)在托板和支架之間的結(jié)合的至少一個軸。
[0018]X射線成像設(shè)備還可以包括防止支架分開超出預(yù)定距離的第二彈性構(gòu)件和結(jié)合到所述至少一個軸的端部以減少保持單元的振動或噪聲的至少一個第三彈性構(gòu)件。
[0019]導(dǎo)軌可包括第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌,第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌相互垂直。
[0020]保持單元可被結(jié)合成接觸第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌中的至少一個。[0021]依照本公開的一方面,X射線成像設(shè)備包括:X射線發(fā)生器,產(chǎn)生并發(fā)射X射線;X射線檢測器,檢測從X射線發(fā)生器發(fā)射的X射線;導(dǎo)軌,改變X射線發(fā)生器的位置;活動機架,具有可移動地結(jié)合到導(dǎo)軌的第一端和與X射線發(fā)生器結(jié)合的第二端;磁體,設(shè)置在活動機架的內(nèi)側(cè);接觸板,具有通過根據(jù)磁體的操作接觸導(dǎo)軌來保持活動機架的第一狀態(tài)和通過與導(dǎo)軌分隔開來使活動機架移動的第二狀態(tài);以及托板,結(jié)合到接觸板并包括接觸磁體的層和接觸接觸板的層,所述層由磁性材料制成,并且它們之間設(shè)置有橡膠材料的層以減少振動或噪聲,從而托板在第一狀態(tài)下與磁體分開并且在第二狀態(tài)下朝磁體移動。
[0022]X射線成像設(shè)備還可以包括:支架,容納磁體;第一彈性構(gòu)件,設(shè)置在托板和磁體之間以引導(dǎo)托板的運動;第二彈性構(gòu)件,防止磁體與導(dǎo)軌分開超過預(yù)定距離。
[0023]X射線成像設(shè)備還可以包括:至少一個軸,使托板與支架結(jié)合并引導(dǎo)托板的運動;至少一個第二彈性構(gòu)件,結(jié)合到軸的一端以減少所述至少一個軸的振動和噪聲。
[0024]托板的磁性材料可以是鋼。
[0025]接觸板可由聚氨酯橡膠形成。
[0026]依照本公開的一方面,X射線成像設(shè)備包括:X射線發(fā)生器,產(chǎn)生并發(fā)射X射線;X射線檢測器,檢測從X射線發(fā)生器發(fā)射的X射線;導(dǎo)軌,移動X射線發(fā)生器和X射線檢測器中的至少一個;保持單元,保持X射線發(fā)生器和X射線檢測器中的至少一個的位置并被安裝為接觸導(dǎo)軌;其中,保持單元包括通過接觸導(dǎo)軌保持X射線發(fā)生器的接觸板、利用磁力移動接觸板的磁體、以及結(jié)合到接觸板并根據(jù)磁體的操作運動的托板,其中,托板包括三層,三層包括接觸接觸板的第一層和接觸磁體的第三層以及設(shè)置在第一層和第三層之間的第二層,并且第一層和第三層由磁性材料形成,且第二層由粘彈性材料形成。
[0027]接觸板通過磁體的操作可具有第一狀態(tài)和第二狀態(tài),第一狀態(tài)通過接觸導(dǎo)軌保持X射線發(fā)生器和X射線檢測器中的至少一個,第二狀態(tài)由于與導(dǎo)軌分隔開的接觸板而使X射線發(fā)生器和X射線檢測器中的至少一個移動。
[0028]接觸板可由聚氨酯橡膠形成。
[0029]托板的第一層和第三層可由鋼形成,并且托板的第二層可由聚氨酯橡膠制成。
[0030]X射線成像設(shè)備還可以包括:至少一個軸,使托板與容納磁體的支架結(jié)合;第一彈性構(gòu)件,結(jié)合到所述至少一個軸以將托板移動到第一狀態(tài)和第二狀態(tài);結(jié)合到支架的外側(cè)的第二彈性構(gòu)件;第三彈性構(gòu)件,結(jié)合到另一軸的端部以減少由托板的運動引起的振動和噪聲。【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]通過結(jié)合附圖對以下實施例進行的描述,本發(fā)明的這些和/或其他方面和優(yōu)點將會變得明顯和更易于理解,其中:
[0032]圖1是示出根據(jù)本公開的實施例的X射線成像設(shè)備的主要結(jié)構(gòu)的示圖;
[0033]圖2是部分不出根據(jù)本公開的實施例的活動機架的內(nèi)側(cè)的不圖;
[0034]圖3是根據(jù)本公開實施例的保持單元的放大圖;
[0035]圖4是根據(jù)本公開實施例的保持單元的分解圖;
[0036]圖5是示出根據(jù)本公開的實施例的處在通過保持單元使X射線發(fā)生器保持在原位的狀態(tài)的示圖;
[0037]圖6是示出根據(jù)本公開的實施例的通過保持單元釋放X射線發(fā)生器的狀態(tài)的示圖;
[0038]圖7是示出根據(jù)本公開的實施例的托板的示圖;
[0039]圖8是示出根 據(jù)本公開的實施例的保持單元的示圖;以及
[0040]圖9是根據(jù)圖8中示出的實施例的保持單元的分解圖。
【具體實施方式】
[0041]現(xiàn)在對本公開的實施例進行詳細的描述,其示例在附圖中示出,其中,相同的標號始終表示相同元件。根據(jù)本公開的實施例的X射線成像設(shè)備可應(yīng)用于各種X射線成像設(shè)備。在以下的描述中,作為示例,將描述一種天花板類型X射線成像設(shè)備,其中導(dǎo)軌安裝在檢查室的天花板上。
[0042]圖1是示出根據(jù)本公開的實施例的X射線成像設(shè)備I的主要結(jié)構(gòu)的示圖。
[0043]參照圖1,X射線成像設(shè)備包括:導(dǎo)軌30、活動機架40、柱機架50、X射線發(fā)生器70和驅(qū)動裝置(未示出)。
[0044]導(dǎo)軌30包括被安裝為相對于彼此形成預(yù)定角度的第一導(dǎo)軌31和第二導(dǎo)軌32。第一導(dǎo)軌31和第二導(dǎo)軌32可在相互垂直的方向上延伸。
[0045]第一導(dǎo)軌31安裝在其中布置X射線成像設(shè)備I的檢查室的天花板處。第二導(dǎo)軌32設(shè)置在第一導(dǎo)軌31下面,并被安裝為沿著第一軌道31可滑動地移動。第一導(dǎo)軌31可設(shè)置有沿著第一導(dǎo)軌31可移動的滾子(未示出)。第二導(dǎo)軌32可連接到滾子(未示出)以沿著第一軌道31可移動。
[0046]第一軌道31延伸的方向被定義為第一方向Dl,并且第二導(dǎo)軌32延伸的方向被定義為第二方向D2。因此,第一方向Dl和第二方向D2可相互垂直,并平行于檢查室的天花板。
[0047]活動機架40設(shè)置在第二導(dǎo)軌32的下面以沿著第二導(dǎo)軌32可移動?;顒訖C架40可設(shè)置有被布置為沿著第二導(dǎo)軌32移動的滾子(未示出)。
[0048]柱機架50設(shè)置在下面并附著到活動機架40。柱機架50可包括多個柱。所述多個柱可相互連接,從而當柱機架50附著在活動機架40時所述多個柱的長度在檢查室的較高或較低的方向上增加或減少。柱機架50的長度增加或減少的方向被定義為第三方向D3。因此,第三方向D3可垂直于第一方向Dl和第二方向D2。[0049]X射線發(fā)生器70用X射線輻照對象。X射線發(fā)生器70可以是包括在通用X射線成像設(shè)備中的X射線管。X射線管可包括產(chǎn)生X射線的X射線產(chǎn)生源71和將產(chǎn)生的X射線向?qū)ο笠龑?dǎo)的準直器72 (未示出)。
[0050]旋轉(zhuǎn)接頭75和60設(shè)置在X射線發(fā)生器70和柱機架50之間。旋轉(zhuǎn)接頭75和60將X射線發(fā)生器70結(jié)合到柱機架50并支撐作用于X射線發(fā)生器70上的負載。旋轉(zhuǎn)接頭75和60可包括連接到柱機架50的較低端的第一旋轉(zhuǎn)接頭60和連接到X射線發(fā)生器70的第二旋轉(zhuǎn)接頭75。
[0051] 第一旋轉(zhuǎn)接頭60可旋轉(zhuǎn)地安裝在沿著檢查室的較高或較低的方向上延伸的柱機架50的中心軸周圍。因此,第一旋轉(zhuǎn)接頭60可在垂直于第三方向D3的平面上旋轉(zhuǎn)。在這方面,第一旋轉(zhuǎn)接頭60旋轉(zhuǎn)的方向可被定義為第四方向D4,并且第四方向D4是平行于第三方向D3的軸的旋轉(zhuǎn)方向。
[0052]第二旋轉(zhuǎn)接頭75可旋轉(zhuǎn)地安裝在垂直于檢查室的天花板的平面上。因此,第二旋轉(zhuǎn)接頭75可在平行于第一方向Dl或第二方向D2的軸的旋轉(zhuǎn)方向上旋轉(zhuǎn)。在這方面,第二旋轉(zhuǎn)接頭75旋轉(zhuǎn)的方向可被定義為第五方向D5,并且第五方向D5是沿第一方向Dl或第二方向D2延伸的軸的旋轉(zhuǎn)方向。
[0053]X射線發(fā)生器70可連接到第一旋轉(zhuǎn)接頭60和第二旋轉(zhuǎn)接頭75,從而X射線發(fā)生器70在第四方向D4和第五方向D5上可旋轉(zhuǎn)地運動。此外,X射線發(fā)生器70可通過第一旋轉(zhuǎn)接頭60和第二旋轉(zhuǎn)接頭75連接到柱機架50,從而X射線發(fā)生器70在第一方向Dl、第二方向D2和第三方向D3上直線地移動。
[0054]為使X射線發(fā)生器70在第一方向Dl至第五方向D5上運動,安裝驅(qū)動裝置(未示出)。驅(qū)動裝置可以是電力驅(qū)動馬達。驅(qū)動裝置可分別連接到動力傳輸構(gòu)件(未示出)以在第一方向Dl至第五方向D5上使X射線發(fā)生器70直線地或旋轉(zhuǎn)地運動。動力傳輸構(gòu)件(未示出)可以是例如皮帶和滑輪、鏈條和鏈輪或軸。
[0055]X射線成像設(shè)備I還可以包括X射線檢測器11、21或者可分別包括X射線檢測器11和21的成像站臺10和病人檢查臺20。
[0056]X射線檢測器11和21可以被設(shè)計為同時在成像站臺10和病人檢查臺20中使用。病人檢查臺20可以可移動地安裝。
[0057]X射線檢測器11和21接收已從X射線成像設(shè)備I產(chǎn)生并穿過對象(未示出)的X射線,并將接收的X射線轉(zhuǎn)換成與X射線的強度一致的電信號,從而執(zhí)行實時診斷。
[0058]此外,X射線成像設(shè)備I還可以包括產(chǎn)生X射線產(chǎn)生所需的高壓的高壓發(fā)生器80。
[0059]圖2是部分示出根據(jù)本公開的實施例的活動機架40的內(nèi)側(cè)的示圖。圖3是根據(jù)本公開實施例的保持單元100的放大圖。圖4是根據(jù)本公開實施例的保持單元100的分解圖。
[0060]如圖2至圖4中所示,在活動機架40的內(nèi)側(cè)設(shè)置有保持單元100。保持單元100可接觸第一導(dǎo)軌31和第二導(dǎo)軌32中的至少一個。參照附圖,保持單元100設(shè)置在第二導(dǎo)軌32的下面。因此,保持單元100接觸第二導(dǎo)軌32并且因此保持結(jié)合到X射線發(fā)生器70的活動機架40,從而固定X射線發(fā)生器70的位置。
[0061]可在保持單元100的上側(cè)設(shè)置有與導(dǎo)軌相結(jié)合的至少一個滾子131,因此,X射線發(fā)生器70和保持單元100 —起移動。此外,可在保持單元100的上側(cè)設(shè)置有接觸導(dǎo)軌30的接觸板110,并因此通過它們之間的摩擦保持X射線發(fā)生器70。在根據(jù)本公開的天花板類型X射線成像設(shè)備中,導(dǎo)軌30設(shè)置在檢查室的天花板上,因此接觸板110設(shè)置在保持單元100的上側(cè),但本公開的實施例不限于此。即,接觸板110可設(shè)置在使接觸板110能夠接觸導(dǎo)軌30的任何位置。接觸板110可由減少在接觸導(dǎo)軌30時產(chǎn)生的沖擊的柔性材料制成。例如,作為柔性材料,可使用具有柔性和耐磨性的聚氨酯橡膠材料。
[0062]接觸板110的操作狀態(tài)可改變?yōu)楦鶕?jù)驅(qū)動單元的操作保持X射線發(fā)生器70的第一狀態(tài)和釋放X射線發(fā)生器70的第二狀態(tài)。在第一狀態(tài)下,接觸板110接觸導(dǎo)軌30并因此通過它們之間的摩擦保持X射線發(fā)生器70。
[0063]保持單元100包括將接觸板110的操作狀態(tài)轉(zhuǎn)換成第一狀態(tài)和第二狀態(tài)的驅(qū)動單元。當接觸板110通過磁力移動時,驅(qū)動單元可包括磁體106。根據(jù)附圖中所示的實施例,保持單元120由一對磁體106體驅(qū)動。在驅(qū)動單元包括磁體106的情況下,當電流流動時磁體106工作,而當電流不流動時磁體106不工作。
[0064]接觸板110可結(jié)合到托板120。因此,接觸板110根據(jù)托板120的運動而運動。當驅(qū)動單元包括磁體106時,由于托板120應(yīng)通過磁力運動,所以托板120的至少一部分可由磁性材料制成。在這種情況下,托板120可根據(jù)磁體106的操作而運動,并且因此,沒有必要如同在現(xiàn)有技術(shù)中使用磁性材料構(gòu)成導(dǎo)軌30,并且導(dǎo)軌30可由非磁性材料制成。因此,制造成本會降低。[0065]此外,為減少在接觸板110接觸導(dǎo)軌30時產(chǎn)生的振動和噪聲,托板120可由緩沖材料制成。例如,托板120可由黏彈性材料制成。這將在下面描述。此外,托板120可由多種材料制成,并因此包括多個層121、122和123。層121、122和123可通過固定構(gòu)件108相
互結(jié)合。
[0066]磁體106可容納在支架130中。支架130可設(shè)置有結(jié)合到其的至少一個滾子131。支架130可結(jié)合到活動機架40的一側(cè)??稍诨顒訖C架40的一側(cè)表面設(shè)置有與支架130結(jié)合的至少一個結(jié)合突出部140。可在結(jié)合突出部140的表面設(shè)置有用于加強保持單元100和活動機架40之間的結(jié)合力的向內(nèi)凹的第一凹槽141和第二凹槽142。
[0067]支架130和托板120可通過至少一個軸104相互結(jié)合。將托板120保持到支架130的軸可被定義為第一軸104。彈性構(gòu)件可結(jié)合到第一軸140。結(jié)合到第一軸104的彈性構(gòu)件可被定義為第一彈性構(gòu)件102。當驅(qū)動單元不操作時,接觸板110可通過第一彈性構(gòu)件102的彈性恢復(fù)力而與托板分隔開。
[0068]支撐單元101可設(shè)置在支架130的下面,以防止驅(qū)動單元與接觸板110分隔開超出預(yù)定間隔的距離。當由于導(dǎo)軌30彎曲因而接觸板110和磁體106相互分隔開超出預(yù)定距離時,磁力減弱,因此,即使磁體106正常運行,接觸板110可能難以立即向?qū)к?0運動或與導(dǎo)軌30相反的方向運動。為防止這一點,支撐單元101防止接觸板110和作為驅(qū)動單元的磁體106相互分隔開超出預(yù)定距離。托板120、支架130和支撐單元101通過至少一個軸結(jié)合。使托板120與支架130和支撐單元101結(jié)合的軸被定義為第二軸105。
[0069]可在支架130的外側(cè)設(shè)置有防止磁體106與導(dǎo)軌30分隔開超出預(yù)定距離的第二彈性構(gòu)件103。每個第二彈性構(gòu)件103可具有結(jié)合到活動機架40的第一端和結(jié)合到支架130的第一端的第二端。
[0070]第二彈性構(gòu)件103可結(jié)合到結(jié)合突出部140的第一凹槽141和第二凹槽142,從而即使當保持單元100運動時保持單元100也可穩(wěn)定地結(jié)合到活動機架40。
[0071]根據(jù)本公開的實施例,可在支架130的相對邊設(shè)置有結(jié)合構(gòu)件133并且每個結(jié)合構(gòu)件133可與第二彈性構(gòu)件103結(jié)合,從而支架130和第二彈性構(gòu)件103相互間接地結(jié)合。因此,第二彈性構(gòu)件103可防止保持單元100下降超過預(yù)定的距離。
[0072]固定構(gòu)件可結(jié)合到第一軸104的較低端和第二軸105的較低端。例如,作為固定構(gòu)件,可使用螺母107a和螺栓107b。
[0073]圖5是示出根據(jù)本公開的實施例的通過保持單元100使X射線發(fā)生器70保持在原位的狀態(tài)的示圖。圖6是示出根據(jù)本公開的實施例的通過保持單元100釋放X射線發(fā)生器70的狀態(tài)的示圖。
[0074]以下,將根據(jù)本公開實施例描述利用保持單元100保持和釋放X射線發(fā)生器70的過程。
[0075]如圖5所示,當電流不在磁體106內(nèi)流動時,托板120通過第一彈性構(gòu)件102的彈性恢復(fù)力向?qū)к?0運動。因此,接觸板110也向?qū)к?0運動以接觸導(dǎo)軌30。隨后,接觸板110和導(dǎo)軌30之間發(fā)生摩擦,從而將X射線發(fā)生器保持在原位。
[0076]如圖6所示,當電流在磁體106內(nèi)流動時,磁體106工作,并且強于第一構(gòu)件102的彈性恢復(fù)力的磁力作用于托板120,因此,托板120被磁力所吸引。因此,結(jié)合到托板120的接觸板110也向磁體106運動。隨后,在接觸板110和導(dǎo)軌30之間出現(xiàn)空間,并且因此,在它們之間沒有摩擦,結(jié)果,X射線發(fā)生器可運動。
[0077]圖7是示出根據(jù)本公開的實施例的托板120的示圖。
[0078]如圖7所示,托板120可包括三層。托板120可包括黏彈性材料,以減少在移動保持單元100時產(chǎn)生的噪聲。
[0079]由于托板120應(yīng)根據(jù)磁體106的操作移動,托板120的三層中的至少一層由磁性材料形成。托板120的最上層、最下層、中間層分別被定義為第一層121、第三層123和第二層122。第一層121接觸接觸板110,并且第三層123是最受由磁體106的工作所引起的磁力的影響的層。
[0080]第三層123可由磁性材料形成,以通過磁體106的磁力使托板120能夠運動。例如,第三層123可由諸如SS400的鋼制成。第一層121也可以由與第三層123的材料相同的材料制成。第二層122是為了吸收振動和噪聲而形成的層。為吸收振動和噪聲,第二層122可由橡膠材料制成。
[0081]如上所述,托板120包括三層,并且可具有用于吸收振動和噪聲的層設(shè)置在其他兩層之間的三明治結(jié)構(gòu)。第二層122與現(xiàn)有技術(shù)相比減少更多的噪聲。
[0082]圖8是示出根據(jù)本公開的實施例的保持單元100的示圖。圖9是根據(jù)圖8中示出的實施例的保持單元100的分解圖。
[0083]在圖8和圖9中,與圖2至圖6的標號相同的標號表示與圖2至圖6中所示的元件相同的元件,因此,可忽略其詳細的描述。
[0084]第二軸105可每個都具有結(jié)合到用于減少在保持單元100中產(chǎn)生的振動和噪聲的第三彈性構(gòu)件151的端部。第三彈性構(gòu)件151可吸收當托板121移動時由于第二軸105的振動而產(chǎn)生的振動。第三彈性 構(gòu)件151可結(jié)合到支撐單元101的較低側(cè)。此外,第二軸105可利用螺母152與各自的第三彈性構(gòu)件151結(jié)合。[0085]下面的表1示出當使用具有如上所述的三明治結(jié)構(gòu)并包括第三彈性構(gòu)件151的根據(jù)本公開實施例的保持單元100時以及當使用普通的托板時所產(chǎn)生的噪聲的程度的實驗結(jié)果。當使用普通的托板的情況被表示為對比示例,并且本公開的實施例被表示為示例。在示例中,托板120的第一層121和第三層123由SS400制成,并且托板120的第二層122由橡膠制成。
[0086]〈表1>
[0087]
【權(quán)利要求】
1.一種X射線成像設(shè)備,所述設(shè)備包括: X射線發(fā)生器,產(chǎn)生并發(fā)射X射線; X射線檢測器,檢測從X射線發(fā)生器發(fā)射的X射線; 活動機架,與X射線發(fā)生器的一端結(jié)合以調(diào)整X射線發(fā)生器的位置; 導(dǎo)軌,在導(dǎo)軌上移動活動機架以改變X射線發(fā)生器的位置;以及 保持單元,設(shè)置在活動機架內(nèi)側(cè)以保持X射線發(fā)生器的位置, 其中,保持單元包括:接觸板,接觸導(dǎo)軌以保持活動機架;磁體,利用磁力移動接觸板;以及托板,結(jié)合到接觸板并根據(jù)磁體的操作移動,托板包括能夠吸收噪聲或振動的緩沖材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述托板包括多個層,并且所述多個層中的至少一層由橡膠材料形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線成像設(shè)備,其中,托板的所述多個層中的至少一層由使托板能夠由于磁體的運動而移動的磁性材料形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述托板的所述多個層中的所述至少一層由鋼形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述托板的所述多個層包括接觸磁體的層、接觸接觸板的層、以及橡膠層,接觸磁體的層和接觸接觸板的層由鋼形成,橡膠層設(shè)置在由鋼形成的層之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述托板的所述多個層包括接觸磁體的層和接觸接觸板的層,接觸磁體的層由磁性材料形成,接觸接觸板的層由非磁性材料形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述接觸板由聚氨酯橡膠形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述托板還包括第一彈性構(gòu)件,設(shè)置在托板和磁體之間以根據(jù)磁體的操作移動超過預(yù)定間隔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,所述設(shè)備還包括:容納磁體并引導(dǎo)與活動機架的結(jié)合的支架。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X射線成像設(shè)備,所述設(shè)備還包括:引導(dǎo)在托板和支架之間的結(jié)合的至少一個軸。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線成像設(shè)備,所述設(shè)備還包括:防止支架分開超出預(yù)定距離的第二彈性構(gòu)件和結(jié)合到所述至少一個軸的端部以減少保持單元的振動或噪聲的至少一個第三彈性構(gòu)件。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述導(dǎo)軌包括第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌,第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌相互垂直。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線成像設(shè)備,其中,所述保持單元被結(jié)合成接觸第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌中的至少一個。
【文檔編號】A61B6/00GK103908274SQ201410007224
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年1月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月7日
【發(fā)明者】金大洙, 尹炯遠, 南在垣, 李榮準 申請人:三星電子株式會社
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