X射線檢測(cè)器及其運(yùn)行方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種尤其是用于成像醫(yī)療設(shè)備(2、4)的X射線檢測(cè)器(2)，包括由壁(14)構(gòu)建的散射輻射準(zhǔn)直器(6)，帶有規(guī)則布置的測(cè)量單元(10)的測(cè)量層(8)和分析單元(12)，其中散射輻射準(zhǔn)直器(6)覆蓋測(cè)量層(8)且定向朝向確定的焦點(diǎn)(18)，且其中分析單元(12)設(shè)置為根據(jù)到達(dá)測(cè)量層(8)上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異確定X射線輻射源(4)相對(duì)于焦點(diǎn)(18)的焦點(diǎn)位置(20)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】X射線檢測(cè)器及其運(yùn)行方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種尤其是用于成像醫(yī)療設(shè)備的X射線檢測(cè)器，包括由壁構(gòu)建的散射輻射準(zhǔn)直器，帶有規(guī)則布置的測(cè)量單元的測(cè)量層和分析単元。此外，本發(fā)明還涉及ー種用于運(yùn)行此X射線檢測(cè)器的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]如果X射線輻射用于成像方法，則此X射線輻射典型地在X射線管中生成且在此從陽(yáng)極上的相對(duì)小的面輻射出，所述面通常可很好地近似視作點(diǎn)狀的X射線輻射源，且典型地稱(chēng)為X射線焦點(diǎn)。此外，為執(zhí)行成像方法，經(jīng)常使用X射線輻射檢測(cè)器，所述輻射檢測(cè)器由規(guī)則地布置的檢測(cè)器単元或檢測(cè)器像素構(gòu)成。
[0003]在通過(guò)包括此X射線輻射源和X射線檢測(cè)器的結(jié)構(gòu)檢查物體或患者時(shí)，通常在向著檢測(cè)器単元的直接路徑上檢測(cè)從X射線輻射源發(fā)出的X射線輻射由物體或患者引起的衰減，因此多次附加地使用定位在檢測(cè)器単元上的所謂的散射輻射準(zhǔn)直器(防散射光柵)。
[0004]相應(yīng)的散射輻射準(zhǔn)直器通常由多個(gè)壁構(gòu)成，以此實(shí)現(xiàn)了蜂窩結(jié)構(gòu)。借助于此蜂窩結(jié)構(gòu)，以簡(jiǎn)單的方式將不沿X射線焦點(diǎn)和檢測(cè)器単元之間的直線連接傳播的X射線輻射在散射輻射準(zhǔn)直器的壁內(nèi)吸收，而沿X射線焦點(diǎn)和檢測(cè)器単元之間的直線傳播的X射線輻射則到達(dá)檢測(cè)器単元而不受散射輻射準(zhǔn)直器的相關(guān)的影響。為此，散射輻射準(zhǔn)直器的壁且大多情況下還有檢測(cè)器單元定向朝向X射線焦點(diǎn)。
[0005]在此，焦點(diǎn)位置的變化決定了 X射線焦點(diǎn)和X射線檢測(cè)器以及散射輻射準(zhǔn)直器的彼此相對(duì)定 位的變化，這幾乎導(dǎo)致X射線輻射源和X射線輻射檢測(cè)器相互的錯(cuò)誤定向且因此導(dǎo)致了以此裝置可實(shí)現(xiàn)的圖像質(zhì)量的降低。為避免相應(yīng)的質(zhì)量損失，可修正X射線輻射源和X射線輻射檢測(cè)器的相互定向，或借助于修正算法預(yù)處理所生成的圖像數(shù)據(jù)。在此，在兩個(gè)情況中，必須確定X射線焦點(diǎn)相對(duì)于X射線檢測(cè)器的位置且因此相對(duì)于散射輻射準(zhǔn)直器的位置。
[0006]在公開(kāi)文本US2011/0176663A1中描述了一種設(shè)備，借助于此設(shè)備可確定相應(yīng)的X射線焦點(diǎn)位置。在此使用由多個(gè)分別相互反轉(zhuǎn)的散射輻射準(zhǔn)直器模塊構(gòu)成的散射輻射準(zhǔn)直器。各個(gè)的散射輻射準(zhǔn)直器模塊相互間的相對(duì)定向是已知的，且通過(guò)與最好地相對(duì)于X射線焦點(diǎn)定向的散射輻射準(zhǔn)直器模塊相關(guān)的檢測(cè)器單元的測(cè)量信號(hào)的分析來(lái)確定。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]基于此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于給出一種改進(jìn)的X射線檢測(cè)器和ー種改進(jìn)的用于運(yùn)行X射線檢測(cè)器的方法。
[0008]在X射線檢測(cè)器方面，此技術(shù)問(wèn)題通過(guò)ー種X射線檢測(cè)器解決。X射線檢測(cè)器提供為尤其地用于成像醫(yī)療設(shè)備，如計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備，且包括由壁構(gòu)成的散射準(zhǔn)直器，帶有規(guī)則地布置的測(cè)量單元的測(cè)量層以及分析単元。在此，散射輻射準(zhǔn)直器非常近似地完全覆蓋了測(cè)量層且優(yōu)選地與測(cè)量層一起定向朝向確定的焦點(diǎn)。此外，分析単元設(shè)置為，使得根據(jù)到達(dá)測(cè)量層上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異確定X射線輻射源相對(duì)于焦點(diǎn)的焦點(diǎn)位置。
[0009]根據(jù)所確定的焦點(diǎn)位置，然后例如這樣地控制X射線輻射源，使得在需要時(shí)修正焦點(diǎn)位置，直至實(shí)現(xiàn)有利的位置或根據(jù)所確定的焦點(diǎn)位置預(yù)處理通過(guò)測(cè)量層所生成的測(cè)量信號(hào)為止，因此通過(guò)所述預(yù)處理補(bǔ)償借助成像方法可實(shí)現(xiàn)的圖像質(zhì)量由于不利的焦點(diǎn)位置所導(dǎo)致的降低。 [0010]假定X射線檢測(cè)器在運(yùn)行中與X射線輻射源相關(guān)且在布置中與所述X射線輻射源一起用于成像方法，通過(guò)分析單元進(jìn)行焦點(diǎn)位置的確定。每個(gè)X射線輻射源可在此非常近似地視作點(diǎn)狀的X射線輻射源，其位置在下文中稱(chēng)為焦點(diǎn)位置。此焦點(diǎn)位置即點(diǎn)狀X射線輻射源的位置在X射線檢測(cè)器運(yùn)行中被監(jiān)測(cè)或至少在確定的運(yùn)行狀態(tài)中被確定。
[0011]此外，基于此:根據(jù)點(diǎn)狀X射線輻射源的位置，即根據(jù)焦點(diǎn)位置，將不同大小份額的未散射的X射線輻射通過(guò)散射輻射準(zhǔn)直器的壁吸收。其原因是通過(guò)壁在測(cè)量層上導(dǎo)致的陰影形成，其中陰影的長(zhǎng)度取決于焦點(diǎn)位置。因此，導(dǎo)致到達(dá)測(cè)量層上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異，這最后也導(dǎo)致由測(cè)量層所生成的測(cè)量信號(hào)中的局部差異。因此在原理上，使用至少ー個(gè)壁，以實(shí)現(xiàn)ー種日晷，以之確定在此近似作用為太陽(yáng)的點(diǎn)狀X射線輻射源的位置。
[0012]在最簡(jiǎn)單的情況中，在此建議為確定焦點(diǎn)位置，確定由単獨(dú)的測(cè)量單元所測(cè)得的強(qiáng)度之間的差異。因此，例如將兩個(gè)相鄰的且通過(guò)壁分開(kāi)的測(cè)量単元的測(cè)量信號(hào)相互關(guān)聯(lián)，由此可確定由點(diǎn)狀X射線輻射源所輻射出的且未散射的X射線輻射到達(dá)此壁的角度。此外，如果例如在計(jì)算機(jī)斷層成像的情況中發(fā)現(xiàn)焦點(diǎn)位置僅在圓柱面或球表面上運(yùn)動(dòng)而不從其離開(kāi)，則可由此信息計(jì)算出點(diǎn)狀X射線輻射源相對(duì)于X射線檢測(cè)器且因此也相對(duì)于散射輻射準(zhǔn)直器的相對(duì)位置，即焦點(diǎn)位置。
[0013]在此，焦點(diǎn)用作焦點(diǎn)位置的參考點(diǎn)，所述焦點(diǎn)通過(guò)X射線檢測(cè)器的構(gòu)造且通過(guò)其在包括X射線輻射源和X射線檢測(cè)器的設(shè)備中的位置預(yù)先給定。如果點(diǎn)狀的X射線輻射源定位在此焦點(diǎn)上，則X射線輻射源和X射線檢測(cè)器相互定向。在形成為平面的測(cè)量層的情況中，例如焦點(diǎn)處在一條延伸通過(guò)測(cè)量層的表面的面重心且平行于表面法線延伸的直線上。具有帶有彎曲表面的測(cè)量層的X射線檢測(cè)器也擴(kuò)展，其中其焦點(diǎn)對(duì)應(yīng)于直圓錐的頂點(diǎn)，使得測(cè)量層的表面通過(guò)其點(diǎn)具有距焦點(diǎn)的相同距離的錐截面給出。在如此形成的X射線檢測(cè)器中，通常散射輻射準(zhǔn)直器也具有與X射線檢測(cè)器匹配的構(gòu)造，其中壁沿測(cè)量層的測(cè)量單元之間的邊界走向，且此外在焦點(diǎn)的方向上延伸。
[0014]根據(jù)X射線檢測(cè)器的優(yōu)選的構(gòu)造變體，散射輻射準(zhǔn)直器的壁限定了每個(gè)測(cè)量單元，且因此確定測(cè)量単元的有效面積。測(cè)量單元在此進(jìn)ー步優(yōu)選地構(gòu)造為矩形或方形，且尤其被四個(gè)壁包圍，其中通過(guò)壁的所選擇的壁厚確定了通過(guò)壁在測(cè)量層上覆蓋的面積的大小，且因此也確定了每個(gè)測(cè)量単元的分別被四個(gè)壁所包圍的且不受約束的面積的大小，所述面積在此用作用于測(cè)量技術(shù)上測(cè)得X射線輻射的有效面積。在此，測(cè)量單元通過(guò)多個(gè)規(guī)則地布置的傳感器像素形成，或単獨(dú)的傳感器像素形成了単獨(dú)的傳感器単元。
[0015]此外，優(yōu)選地，散射輻射準(zhǔn)直器具有第一類(lèi)型的壁和與之不同地構(gòu)造的第二類(lèi)型的壁，其中每個(gè)散射輻射準(zhǔn)直器進(jìn)ー步優(yōu)選地主要由第一類(lèi)型的壁構(gòu)造且零星地具有第二類(lèi)型的壁。若不使用測(cè)量層的所有測(cè)量單元或其測(cè)量信號(hào)來(lái)確定焦點(diǎn)位置，則不同地構(gòu)造的壁的使用是尤其有利的。在此情況中，壁在測(cè)量單元的、其信號(hào)用于確定焦點(diǎn)位置的區(qū)域內(nèi)構(gòu)造為，使得通過(guò)其形狀有利于到達(dá)測(cè)量層上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異的出現(xiàn)，而剰余的壁優(yōu)選地構(gòu)造為，使得焦點(diǎn)位置與焦點(diǎn)的更小的偏差盡可能不導(dǎo)致借助包括X射線輻射源和X射線檢測(cè)器的設(shè)備可實(shí)現(xiàn)的圖像質(zhì)量的降低。因此，優(yōu)選僅使用少量的測(cè)量單元用于確定焦點(diǎn)位置，而所有測(cè)量單元都用于在成像方法的范圍內(nèi)生成圖像。
[0016]在此有利的是，第一類(lèi)型的壁具有基本壁厚且在與測(cè)量層鄰接的區(qū)域內(nèi)具有第一基部壁厚，所述第一基部壁厚大于基本壁厚。此外有利的是，第二類(lèi)型的壁構(gòu)造為，此壁具有基本壁厚且在與測(cè)量層鄰接的區(qū)域內(nèi)具有第二基部壁厚，所述第二基部壁厚小于所述第一基部壁厚且進(jìn)一步優(yōu)選地等于基本壁厚。
[0017]通過(guò)第一類(lèi)型的壁的相對(duì)于基本壁厚増加的第一基部壁厚，通過(guò)此壁覆蓋了測(cè)量単元的更大的面積。通過(guò)壁厚的増加而附加地被覆蓋的區(qū)域大致對(duì)應(yīng)于其上在焦點(diǎn)位置的相應(yīng)的略微變化時(shí)形成了陰影的區(qū)域。但因?yàn)榇藚^(qū)域由于增加的第一基部壁厚而被永久地覆蓋，且因此對(duì)于測(cè)量信號(hào)生成不起作用，所以焦點(diǎn)位置的相應(yīng)的更小的變化對(duì)于相應(yīng)的測(cè)量單元的測(cè)量信號(hào)的生成不起到負(fù)面影響。在此處所設(shè)想的X射線檢測(cè)器中，正是使用此負(fù)面的真正的不希望的影響來(lái)確定焦點(diǎn)位置，因此至少在測(cè)量層上的単獨(dú)的部分區(qū)域內(nèi)定位了第二類(lèi)型的壁，其第二基部壁厚小于第一基部壁厚。
[0018]此外，其測(cè)量信號(hào)用于確定焦點(diǎn)位置的、尤其是相鄰的測(cè)量単元通過(guò)第二類(lèi)型的壁分離，且進(jìn)一步優(yōu)選地，其測(cè)量信號(hào)用于確定焦點(diǎn)位置的每個(gè)測(cè)量単元通過(guò)不同地構(gòu)造的散射輻射準(zhǔn)直器的壁限定或甚至包圍。因此，在最簡(jiǎn)單的情況中，散射輻射準(zhǔn)直器僅具有唯一一個(gè)第二類(lèi)型的壁，所述壁將兩個(gè)相鄰的測(cè)量単元相互分離，且僅將這兩個(gè)測(cè)量単元的測(cè)量信號(hào)取值以用于確定焦點(diǎn)位置。在此變體中只要點(diǎn)狀的X射線輻射源沿簡(jiǎn)單的軌道曲線運(yùn)動(dòng)，就可確定焦點(diǎn)位置的變化。若點(diǎn)狀的X射線輻射源可進(jìn)行更復(fù)雜的運(yùn)動(dòng)，則就形成更多數(shù)量的測(cè)量單元的測(cè)量信號(hào)用于確定焦點(diǎn)位置，且散射輻射準(zhǔn)直器具有更多數(shù)量的第二類(lèi)型的壁。在此，第二類(lèi)型的壁優(yōu)選地并非沿ー個(gè)方向而是沿兩個(gè)優(yōu)選地相互正交地走向的方向布置。
[0019]焦點(diǎn)位置的確定可原理上在準(zhǔn)直過(guò)程中進(jìn)行，但優(yōu)選地，焦點(diǎn)位置在每個(gè)成像過(guò)程期間確定，也就是說(shuō)在將檢查物體或患者定位在X射線輻射源和散射輻射準(zhǔn)直器之間期間。正好在此情況中有利的是，每個(gè)測(cè)量單元通過(guò)單獨(dú)的傳感器像素給出，因?yàn)樵诖饲闆r中基于目前典型的l_x Imm的傳感器像素尺寸，可以非常近似地認(rèn)為到達(dá)測(cè)量層上的X射線輻射在兩個(gè)相鄰的傳感器像素之間的強(qiáng)度差異更少地由于檢查物體導(dǎo)致而更多地由于點(diǎn)狀的X射線輻射源的位置導(dǎo)致。
[0020]此外，所確定的焦點(diǎn)位置優(yōu)選地與所生成的測(cè)量信號(hào)共同地被存儲(chǔ)或至少被中間存儲(chǔ)，以將其例如在測(cè)量信號(hào)的后處理中考慮。在此，例如建議，根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)且通過(guò)算法再處理所述圖像數(shù)據(jù)。
[0021]所提出的技術(shù)問(wèn)題，即，給出ー種用于運(yùn)行X射線檢測(cè)器的改進(jìn)的方法，根據(jù)本發(fā)明通過(guò)帶有權(quán)利要求12的特征的方法解決。
[0022]方法用于運(yùn)行X射線檢測(cè)器，尤其是前述類(lèi)型的X射線檢測(cè)器，其中X射線檢測(cè)器包括由壁構(gòu)建的散射輻射準(zhǔn)直器，帶有規(guī)則布置的測(cè)量單元的測(cè)量層和分析単元。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，根據(jù)到達(dá)測(cè)量層上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異確定X射線輻射源相對(duì)于散射輻射準(zhǔn)直器所定向朝向的確定的焦點(diǎn)的焦點(diǎn)位置。為此，分析通過(guò)測(cè)量層所生成的測(cè)量信號(hào)，所述測(cè)量信號(hào)優(yōu)選地在檢查物體或患者定位在X射線輻射源和散射輻射準(zhǔn)直器之間期間生成。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0023]本方面的實(shí)施例在下文中根據(jù)示意性附圖詳細(xì)解釋。各圖為:
[0024]圖1在截面圖示中以截面示出了包括X射線輻射源和X射線檢測(cè)器的設(shè)備，
[0025]圖2在俯視圖中示出了 X射線檢測(cè)器的第一部分，
[0026]圖3在俯視圖中示出了 X射線檢測(cè)器的第二部分，
[0027]圖4在俯視圖中示出了第一備選的X射線檢測(cè)器的部分，
[0028]圖5在俯視圖中示出了第二備選的X射線檢測(cè)器的部分，
[0029]圖6在俯視圖中示出了第三備選的X射線檢測(cè)器的部分。
【具體實(shí)施方式】
[0030]相互對(duì)應(yīng)的部分在所有附圖中分別提供以相同的附圖標(biāo)號(hào)。
[0031]如下舉例描述的X射線檢測(cè)器2例如也是用于通過(guò)成像方法根據(jù)已知的原理檢查物體或患者的計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備的X射線輻射源4。在此計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備中，如在圖1中所示，X射線檢測(cè)器2和X射線輻射源4相互對(duì)置地布置，且為檢查物體或患者將其安放在定位于X射線檢測(cè)器2和X射線輻射源4之間的未圖示的檢查臺(tái)上。
[0032]X射線輻射的生成通過(guò)未描繪的X射線管進(jìn)行，其中X射線輻射的產(chǎn)生限制在陽(yáng)極的相對(duì)小的區(qū)域內(nèi)，即所謂的焦斑上。此焦斑非常近似作用為在圖1中通過(guò)焦斑的描繪而表示的點(diǎn)狀的X射線輻射源4。從X射線輻射源4發(fā)出的X射線輻射錐形地在X射線檢測(cè)器2的方向上傳播，其中至少在待檢查的物體或待檢查的患者上引入到輻射錐內(nèi)的此X射線輻射首先到達(dá)待檢查的物體或患者。X射線輻射的一部分在此在物體或患者內(nèi)被吸收，而X射線輻射的透射的部分然后到達(dá)X射線檢查器2上。另外的部分通過(guò)與物體或患者的相互作用被散射，其中此部分對(duì)于成像方法潛在地被視作是不利的。
[0033]由于此原因，X射線檢測(cè)器2具有散射輻射準(zhǔn)直器6，借助于所述散射輻射準(zhǔn)直器6將大部分散射的X射線輻射吸收。通過(guò)物體或患者透射的、未散射的X射線輻射則基本上不受到散射輻射準(zhǔn)直器6的影響到達(dá)由規(guī)則布置的測(cè)量單元10構(gòu)建的測(cè)量層8，且在此處通過(guò)測(cè)量技術(shù)檢測(cè)。在此，在每個(gè)測(cè)量単元10內(nèi)根據(jù)到達(dá)此測(cè)量単元10上的X射線輻射的強(qiáng)度產(chǎn)生測(cè)量信號(hào)，將所述測(cè)量信號(hào)輸入分析単元12以用于另外的處理。
[0034]散射輻射準(zhǔn)直器6由兩個(gè)不同地構(gòu)造的壁14構(gòu)建，所述壁14在測(cè)量層8的表面法線16的方向上(在彎曲的測(cè)量層和彎曲的散射輻射準(zhǔn)直器的情況中在焦點(diǎn)的方向上且因此典型地僅近似在表面法線的方向上)定向，且沿測(cè)量単元10之間的邊界走向。與之相應(yīng)地，每個(gè)在實(shí)施例中矩形地構(gòu)造的測(cè)量單元10被四個(gè)壁包圍。第一類(lèi)型的壁A在此在測(cè)量層8的區(qū)域內(nèi)具有相對(duì)于在其余區(qū)域內(nèi)的基本壁厚d擴(kuò)大的第一基部壁厚D，而第二類(lèi)型的壁B在沿表面法線16的方向的整個(gè)長(zhǎng)度上具有保持相同的壁厚，所述壁厚等于基礎(chǔ)壁厚d0
[0035]X射線檢測(cè)器2與焦點(diǎn)18相關(guān)，在該焦點(diǎn)18上提供有點(diǎn)狀的X射線輻射源4以實(shí)現(xiàn)在成像方法中與X射線輻射源4和X射線檢測(cè)器2的盡可能有利的共同作用。此焦點(diǎn)18由于X射線檢測(cè)器2的構(gòu)造所導(dǎo)致，其中在此情況中，焦點(diǎn)18處在通過(guò)測(cè)量層8的表面的面重心的、沿表面法線16走向的直線上。
[0036]在帶有彎曲的測(cè)量層表面的X射線檢測(cè)器的也典型的構(gòu)造中，散射輻射準(zhǔn)直器的壁相互相對(duì)扇狀地且分別向共同的點(diǎn)指向，所述點(diǎn)則形成了此X射線檢測(cè)器的焦點(diǎn)。在測(cè)量層表面上的每個(gè)點(diǎn)距此焦點(diǎn)具有相同的距離。
[0037]此外，X射線檢測(cè)器2的分析単元12設(shè)置為，使得監(jiān)測(cè)點(diǎn)狀的X射線輻射源4的相對(duì)于焦點(diǎn)18的位置-在后文中稱(chēng)為焦點(diǎn)位置20。焦點(diǎn)位置20的確定在此通過(guò)對(duì)于布置在測(cè)量層8中心且通過(guò)第二類(lèi)型B的壁14相互分開(kāi)的兩個(gè)相鄰的測(cè)量單元10的測(cè)量信號(hào)的分析實(shí)現(xiàn)。在分析時(shí)，將通過(guò)測(cè)量技術(shù)測(cè)得的到達(dá)此兩個(gè)測(cè)量単元10上的X射線輻射的強(qiáng)度相關(guān)聯(lián)，以由此確定局部的強(qiáng)度差異，由所述強(qiáng)度差異根據(jù)日晷的原理可推出相對(duì)于焦點(diǎn)18的焦點(diǎn)位置20。在此，簡(jiǎn)單地基于此，X射線輻射源4不在表面法線16的方向上而僅在與之垂直的方向上運(yùn)動(dòng)，尤其僅在Phi方向22上運(yùn)動(dòng)。[0038]根據(jù)圖1中的簡(jiǎn)圖，兩個(gè)通過(guò)第二類(lèi)型B的壁14分開(kāi)的測(cè)量単元10在用來(lái)自焦點(diǎn)18的X射線輻射照射時(shí)基本上被相同地照亮，而在這兩個(gè)測(cè)量単元10用來(lái)自偏離的焦點(diǎn)20的X射線輻射照射時(shí)，則由于兩個(gè)測(cè)量單元10之間的壁14導(dǎo)致了二者之一的遮擋，使得到達(dá)此測(cè)量単元10上的X射線輻射的強(qiáng)度與來(lái)自焦點(diǎn)18的輻射的情況相比減少，這導(dǎo)致通過(guò)兩個(gè)相鄰的測(cè)量単元10測(cè)得不同的強(qiáng)度。
[0039]因?yàn)橛捎谂c焦點(diǎn)18偏離的焦點(diǎn)位置20所導(dǎo)致的此類(lèi)強(qiáng)度差異對(duì)于通過(guò)設(shè)備可實(shí)現(xiàn)的圖像質(zhì)量是不利的，所以為X射線檢測(cè)器2提供帶有僅ー個(gè)第二類(lèi)型B的壁14的散射輻射準(zhǔn)直器6，而剩余的壁14具有第一類(lèi)型A的構(gòu)造。第一類(lèi)型A的壁14在測(cè)量層8的區(qū)域內(nèi)提供有帶有第一基部厚度D的加厚的壁，使得所述第一類(lèi)型A的壁14在測(cè)量單元10的邊緣區(qū)域內(nèi)永久地覆蓋測(cè)量単元10的一部分最大有效面積-也就是說(shuō)在不存在散射輻射準(zhǔn)直器6的情況下可用于通過(guò)測(cè)量技術(shù)測(cè)得X射線輻射的面積，因此被覆蓋的區(qū)域不被用于通過(guò)測(cè)量技術(shù)測(cè)得X射線輻射。在此區(qū)域內(nèi)，在焦點(diǎn)位置20相對(duì)于焦點(diǎn)18略微移動(dòng)時(shí)形成了陰影，所述陰影在使用第二類(lèi)型B的壁14的情況中導(dǎo)致相鄰的測(cè)量単元10的強(qiáng)度差異。但由于使用了單ー類(lèi)型A的壁14，此區(qū)域被永久地覆蓋，因此在焦點(diǎn)位置20相對(duì)于焦點(diǎn)18略微移動(dòng)時(shí)，在測(cè)量單元10內(nèi)測(cè)不到或僅測(cè)到很小的強(qiáng)度差異。
[0040]在此，其中大多數(shù)測(cè)量單元10被壁14限定邊界的X射線檢測(cè)器2的構(gòu)造變體一般是優(yōu)選的，以此，在測(cè)量單元10內(nèi)由于焦點(diǎn)位置20與焦點(diǎn)18略微的偏差所導(dǎo)致的陰影形成通過(guò)借助壁14部分地覆蓋測(cè)量単元10而得以減弱，且因此測(cè)量技術(shù)上不被測(cè)得，且其中僅使用少量的壁14，這些壁14構(gòu)造為，使得通過(guò)與焦點(diǎn)18偏離的焦點(diǎn)位置20導(dǎo)致明顯形成陰影且因此導(dǎo)致對(duì)于測(cè)量信號(hào)的明顯的影響。利用少數(shù)鄰接此壁14的測(cè)量單元10來(lái)根據(jù)其測(cè)量信號(hào)確定和/或監(jiān)測(cè)焦點(diǎn)位置20，而優(yōu)選利用所有測(cè)量單元10來(lái)獲得用于產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)的測(cè)量信號(hào)。.[0041]在圖3至圖6的描繪中圖示了 X射線檢測(cè)器2的不同的備選構(gòu)造變體，或更確切地說(shuō)散射福射準(zhǔn)直器6,其中在所有這些情況中，散射福射準(zhǔn)直器6主要由第一類(lèi)型A的壁14構(gòu)建，且相應(yīng)地在大的區(qū)域上具有如在圖02中所圖示的構(gòu)造。但為確定焦點(diǎn)位置20，在散射輻射準(zhǔn)直器6內(nèi)存在単獨(dú)的壁，所述壁在測(cè)量層8的區(qū)域內(nèi)具有相對(duì)于第一基部壁厚D減小的壁厚，如在圖3中所示意，或具有在表面法線16的方向上的整個(gè)長(zhǎng)度上保持不變的壁厚，這如在圖1的實(shí)施例中相當(dāng)于基礎(chǔ)壁厚d。[0042]在計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備中，經(jīng)常使用X射線檢測(cè)器2，其測(cè)量單元10—起形成了部分柱形外周面，且在此基于柱坐標(biāo)，一方面沿Phi方向22且另一方面沿z方向24并排排列。在此情況中，例如建議使得第二類(lèi)型B的壁14平行于Phi方向22定向，如在圖4中所圖示，或如在圖5中所示意平行于z方向24定向。在兩個(gè)情況中，可在此兩個(gè)方向22、24上確定焦點(diǎn)位置20與焦點(diǎn)18的偏差。但如果位置偏差在兩個(gè)正交的方向22、24上測(cè)得，則如在圖6中所示，第二類(lèi)型B的壁14沿兩個(gè)正交的方向22、24布置。
[0043]用于確定焦點(diǎn)位置20的測(cè)量單元10的數(shù)量?jī)?yōu)選地限制為很少的數(shù)量，其中這些測(cè)量單元10不強(qiáng)制地全部都并排排列，而是例如也可布置在空間上相互分開(kāi)的單獨(dú)的簇內(nèi)。
[0044]本發(fā)明不限制于在此所述的實(shí)施例。而是也可由專(zhuān)業(yè)人員導(dǎo)出本發(fā)明的另外的變體，只要不偏離本發(fā)明的主題即可。尤其地，進(jìn)ー步地所有與實(shí)施例相結(jié)合地描述的單獨(dú)特征也可以以另外的方式相互組合， 只要不偏離本發(fā)明的主題即可。
【權(quán)利要求】
1.ー種X射線檢測(cè)器(2)，尤其是用于成像醫(yī)療設(shè)備(2、4)的X射線檢測(cè)器(2)，包括由壁(14)構(gòu)建的散射輻射準(zhǔn)直器出)，帶有規(guī)則布置的測(cè)量單元(10)的測(cè)量層(8)和分析単元(12)，其特征在于，所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)覆蓋所述測(cè)量層⑶且定向朝向確定的焦點(diǎn)(18)，并且所述分析単元(12)設(shè)置為根據(jù)到達(dá)所述測(cè)量層(8)上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異確定X射線輻射源(4)相對(duì)于所述焦點(diǎn)(18)的焦點(diǎn)位置(20)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，確定各個(gè)測(cè)量単元(10)所測(cè)得的強(qiáng)度之間的差異以便確定所述焦點(diǎn)位置(20)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在干，所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)的壁(14)限定每個(gè)測(cè)量単元(10)的邊界且因此確定有效面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中一項(xiàng)所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)具有第一類(lèi)型(A)的壁和不同地構(gòu)造的第二類(lèi)型(B)的壁。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)主要由第一類(lèi)型(A)的壁(14)構(gòu)建，且零星地具有第二類(lèi)型(B)的壁。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述第一類(lèi)型(A)的壁(14)具有基礎(chǔ)壁厚(d)，且在與所述測(cè)量層(8)鄰接的區(qū)域內(nèi)具有大于基礎(chǔ)壁厚(d)的第一基部壁厚(D)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述第二類(lèi)型⑶的壁具有基礎(chǔ)壁厚(d)，且在與所述測(cè)量層(8)鄰接的區(qū)域內(nèi)具有小于所述第一基部壁厚(D)的第二基部壁厚(d)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述第二基部壁厚(d)等于所述基礎(chǔ)壁厚(d)。
9.根據(jù)權(quán)利要求4至8中一項(xiàng)所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，其測(cè)量信號(hào)用于確定所述焦點(diǎn)位置(20)的相鄰的測(cè)量単元(10)通過(guò)所述第二類(lèi)型(B)的壁(14)分開(kāi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中一項(xiàng)所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，其測(cè)量信號(hào)用于確定所述焦點(diǎn)位置(20)的每個(gè)測(cè)量単元(10)通過(guò)所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)的不同地構(gòu)造的壁(14)限定邊界。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中一項(xiàng)所述的X射線檢測(cè)器(2)，其特征在于，所述分析單元(12)設(shè)置為，使得根據(jù)在檢查物體定位在所述X射線輻射源(4)和所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)之間期間所生成的測(cè)量信號(hào)確定所述焦點(diǎn)位置(20)。
12.一種用于運(yùn)行尤其根據(jù)前述權(quán)利要求中一項(xiàng)所述的X射線檢測(cè)器(2)的方法，所述X射線檢測(cè)器包括由壁(14)構(gòu)建的散射輻射準(zhǔn)直器出)，帶有規(guī)則布置的測(cè)量單元(10)的測(cè)量層(8)和分析単元(12)，其特征在于，根據(jù)到達(dá)所述測(cè)量層(8)上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異確定X射線輻射源(4)相對(duì)于散射輻射準(zhǔn)直器(6)所定向朝向的確定的焦點(diǎn)(18)的焦點(diǎn)位置(20)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在檢查物體定位在所述X射線輻射源(4)和所述散射輻射準(zhǔn)直器(6)之間期間，確定到達(dá)所述測(cè)量層(8)上的X射線輻射的局部強(qiáng)度差異。
【文檔編號(hào)】A61B6/00GK103584873SQ201310351213
【公開(kāi)日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年8月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年8月13日
【發(fā)明者】D.尼德洛納, B.賴(lài)茨, S.沃思 申請(qǐng)人:西門(mén)子公司