專利名稱：Mc框架式日光溫室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及農(nóng)業(yè)種植設(shè)施，特別涉及一種由MC(即MgCl2、Mgo)材料制成的墻板和后坡板構(gòu)成的框架式日光溫室。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的日光溫室的后墻體和側(cè)墻體由磚砌而成，占地面積大，保溫性能差、造價較高。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的就是提供一種占地少，保溫性能好，成本低，強(qiáng)度高的MC框架式日光溫室。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案是包括頂棚骨架，側(cè)墻體和后墻體，所述的后墻體和側(cè)墻體均由框架和墻板構(gòu)成，框架由基座、立柱、頂梁組成，基座與頂梁之間連接多根間隔分布的立柱，后墻的頂梁向后側(cè)展寬構(gòu)成工作平臺，后墻頂梁頂部前側(cè)連接有后坡板；在后墻的每一立柱的上部各有一向前伸出的骨架支梁，在每一骨架支梁上連接一根所述的頂棚骨架；在每一立柱之間嵌有墻板。
所述的框架、工作平臺和骨架支架為一體的鋼筋水泥結(jié)構(gòu)。
所述的墻板和后坡板均由聚苯芯板及包覆在其外的MC層構(gòu)成。
本實(shí)用新型采用框架式結(jié)構(gòu)和保溫墻板結(jié)合的結(jié)構(gòu)，既保證了強(qiáng)度，又大大提高了保溫性能，還減小了占地面積，降低了造價。


圖1是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的截面剖視圖；圖3是本實(shí)用新型的后面視圖。
具體實(shí)施方式
參見圖1-圖3，本實(shí)用新型包括頂棚骨架5，側(cè)墻體和后墻體，所述的后墻體和側(cè)墻體均由框架和墻板9構(gòu)成，框架由基座8、立柱7和頂梁10組成，基座8與頂梁10之間連接多根間隔分布的立柱7，后墻的頂梁10向后側(cè)展寬構(gòu)成工作平臺1，后墻頂梁頂部前側(cè)連接后坡板3；在后墻的每一立柱7的上部各有一向前伸出的骨架支梁2，在每一骨架支梁2上連接一根所述的頂棚骨架5；在后墻和側(cè)墻的每一立柱7之間嵌有墻板9。圖中的標(biāo)記4為保溫簾，標(biāo)記6為橫梁，橫向連接在頂棚骨架5之間。
所述的框架(基座8、立柱7和頂梁10)、工作平臺1和骨架支架2均為一體的鋼筋水泥結(jié)構(gòu)。
所述的墻板9和后坡板3均由聚苯芯板及包覆在其外的MC層構(gòu)成，具有保溫性能好、強(qiáng)度較高和重量輕的特點(diǎn)。
權(quán)利要求1.一種MC框架式日光溫室，包括頂棚骨架，側(cè)墻體和后墻體，其特征在于所述的后墻體和側(cè)墻體均由框架和墻板構(gòu)成，框架由基座、立柱、頂梁組成，基座與頂梁之間連接多根間隔分布的立柱，后墻的頂梁向后側(cè)展寬構(gòu)成工作平臺，后墻頂梁頂部前側(cè)連接有后坡板；在后墻的每一立柱的上部各有一向前伸出的骨架支梁，在每一骨架支梁上連接一根所述的頂棚骨架；在每一立柱之間嵌有墻板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MC框架式日光溫室，其特征在于所述的框架、工作平臺和骨架支架為一體的鋼筋水泥結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的MC框架式日光溫室，其特征在于所述的墻板和后坡板均由聚苯芯板及包覆在其外的MC層構(gòu)成。
專利摘要一種MC框架式日光溫室，包括頂棚骨架，側(cè)墻體和后墻體，所述的后墻體和側(cè)墻體均由框架和墻板構(gòu)成，框架由基座、立柱、頂梁組成，基座與頂梁之間連接多根間隔分布的立柱，后墻的頂梁向后側(cè)展寬構(gòu)成工作平臺，后墻頂梁頂部前側(cè)連接有后坡板；在后墻的每一立柱的上部各有一向前伸出的骨架支梁，在每一骨架支梁上連接一根所述的頂棚骨架；在每一立柱之間嵌有墻板。本實(shí)用新型采用框架式結(jié)構(gòu)和保溫墻板結(jié)合的結(jié)構(gòu)，既保證了強(qiáng)度，又大大提高了保溫性能，還減小了占地面積，降低了造價。
文檔編號A01G9/14GK2610639SQ03243
公開日2004年4月14日 申請日期2003年4月4日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月4日
發(fā)明者芮賢海 申請人:芮賢海